フルオロエラストマーの製造のための方法において、ポリエチレンイミンまたはそのコポリマーの水溶液である水溶性ポリマー凝固剤が用いられる。 （もっと読む）

本発明の開示は、長鎖分枝を有するフルオロポリマーおよびこれらのフルオロポリマーの作製方法を記載する。これらのフルオロポリマーは、改善された溶融加工特性を有する場合がある。これらのフルオロポリマーを含有する成形物品がまた提供される。
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光ファイバのための新規な放射線硬化性二次被覆が記述され特許請求されているが、ここで、前記組成物が二次被覆オリゴマーブレンド物を含み、そのブレンド物を、第一の希釈剤モノマー；第二の希釈剤モノマー；場合によっては、第三の希釈剤モノマー；抗酸化剤；第一の光重合開始剤；第二の光重合開始剤；および場合によってはスリップ添加剤もしくはスリップ添加剤のブレンド物と混合し；前記二次被覆オリゴマーブレンド物が、α）オメガオリゴマー；およびβ）ウプシロンオリゴマー；を含み、前記オメガオリゴマーが、α１）ヒドロキシル含有（メタ）アクリレート；α２）イソシアネート；α３）ポリエーテルポリオール；およびα４）トリプロピレングリコール；との、α５）重合防止剤；およびα６）触媒；の存在下による反応により合成されて、オメガオリゴマーが生成し；前記触媒が、ジブチルスズジラウレート金属カルボキシレート、非限定的に挙げれば、オルガノビスマス触媒たとえば、ビスマスネオデカノエート；亜鉛ネオデカノエート；ジルコニウムネオデカノエート；亜鉛２−エチルヘキサノエート；スルホン酸、非限定的に挙げれば、たとえばドデシルベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸；アミノまたは有機塩基触媒、非限定的に挙げれば、１，２−ジメチルイミダゾールおよびジアザビシクロオクタン；トリフェニルホスフィン；ジルコニウムおよびチタンのアルコキシド、非限定的に挙げれば、ジルコニウムブトキシドおよびチタンブトキシド；ならびにイオン性液状ホスホニウム塩；およびテトラデシル（トリヘキシル）ホスホニウムクロリドからなる群から選択され、そしてここで、前記ウプシロンオリゴマーがエポキシジアクリレートである。 （もっと読む）

【課題】 種々の基板や特にＩＴＯ透明電極との密着性に優れる光学異方体の構成部材として有用であり、相溶性に優れた重合液晶組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（I）
【化１】


で表される重合性リン系化合物を含有することを特徴とする重合性液晶組成物を提供する。本願発明の重合性液晶組成物により構成される光学異方体は種々の基板や特にＩＴＯ透明電極との密着性に優れることから、液晶セル内部に組み込む光学異方体として好適に使用することが可能である。 （もっと読む）

【課題】低温かつ短時間で硬化でき、更に、ポリイミドに対する接着性および耐湿熱性に優れる硬化性樹脂組成物の提供。
【解決手段】カルボキシ基を酸価として５．０ＫＯＨｍｇ／ｇ以上含むポリエステルウレタン（Ａ）と、ラジカル重合性化合物（Ｂ）と、ラジカル開始剤（Ｃ）とを含有する硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 燐片状金属顔料含有メタリック塗料に対して、含フッ素（メタ）アクリル共重合体を配合することにより、高輝度感と良好なレベリング性を実現するメタリック塗料を提供すること。
【解決手段】 燐片状金属顔料（Ａ）と、フッ素化アルキル基含有（メタ）アクリレート（ｘ１）と非フッ素系ポリオキシアルキレン鎖含有（メタ）アクリレート（ｘ２）とを共重合させて得られる含フッ素（メタ）アクリル共重合体（Ｂ）とを含有することを特徴とするメタリック塗料、特に好ましくは非水系のメタリック塗料 （もっと読む）

【課題】印刷画像に生じるにじみやフェザリングを軽減し、印刷画像の保存性が良好であり、更に、記録媒体上で物理的外力に対して堅牢性を有するインクの構造体を形成する高分子化合物として好適なブロック共重合体を提供する。これを用いたインク、画像記録方法、画像記録装置を提供する。
【解決手段】ブロックセグメントを有するブロック共重合体であって、該ブロックセグメントが下記一般式（１）で表される基を有する繰り返し単位を有することを特徴とするブロック共重合体、これを用いたインク、画像記録方法及び画像記録装置。
−ＡＮＨＣＯＮＨＥ （１）
（式中、Ａは炭素原子数１から４５の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を示し、Ｅは水素原子、又は炭素原子数１から４５の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を示す。） （もっと読む）

【課題】 ポリウレタン用原料としてのポリマーポリオールであって、ポリウレタンの機械物性を著しく向上させ、しかもポリウレタン発泡機の吐出ヘッドが詰まりにくい等、ポリウレタン製造装置のメンテナンスを容易にして生産性を向上させるポリマーポリオールを提供する。
【解決手段】 重合体粒子（ＪＲ_n）を含有してなるポリマーポリオールの製造方法において、複数の重合工程を含んでなり、混合開始剤（Ｋ）が、３０〜１５０℃の１０時間半減期温度を有する２〜７種類のラジカル重合開始剤からなり、該半減期温度の最大値と最小値の差が２０〜８０℃であることを特徴とする、ポリマーポリオールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】例えば100℃といった高温破断時の伸びおよび0℃といった低温における耐圧縮永久歪特性にすぐれた加硫物を与え得る含フッ素エラストマーおよびその組成物を提供する。
【解決手段】その共重合組成が(a)フッ化ビニリデン 50〜85モル%、(b)テトラフルオロエチレン 0〜25モル%、(c)パーフルオロ(メチルビニルエーテル) 7〜20モル%、(d)CF₂=CFO[CF₂CF(CF₃)O]nCF₃(n：2〜6) 2.5〜15モル%、(e)CF₂=CFO[CF₂CF(CF₃)O]mCF₂CF₃(m：2〜6) 0.1〜2モル%および(f)RfX(Rf：炭素数2〜8の不飽和フルオロ炭化水素基、基中に1個以上のエーテル結合を有していてもよく、X：臭素またはヨウ素) 0.1〜2モル%である含フッ素エラストマー。この含フッ素エラストマーは、その100重量部当リ0.1〜10重量部の有機過酸化物、0.1〜10重量部の多官能性不飽和化合物および2重量部以上の受酸剤を添加することにより、含フッ素エラストマー組成物を形成させる。 （もっと読む）

【課題】透過度および乾式エッチングに対する耐性など、レジスト組成物の特性を向上させる感光性ポリマーを提供し、さらに微細なパターン形成を可能にする。
【解決手段】次の構造式：


（式中、Ｒ_１は水素原子またはメチル基であり、Ｒ_２はフルオロ化されたエチレングリコール基を有するＣ_３〜Ｃ_１０の炭化水素基であり、Ｒ_６は水素原子、またはＣ_１〜Ｃ_２０の炭化水素基であり、Ｒ_７及びＲ_８は、各々、水素原子、ヒドロキシ基、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０のアルキル基、またはＣ_１〜Ｃ_１０のフルオロ化されたアルキル基、アルコキシ基またはエステル基である。）を有する感光性ポリマーによって上記課題は解決される。 （もっと読む）

【課題】水又は水に対する液浸媒体に対して高い撥水性及び耐水性を有し、剥離剤によって容易に剥離し、かつフォトレジスト層とのミキシングを起こさない保護膜を形成するための液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料を提供する。
【解決手段】水又は水を主成分とする液浸媒体からフォトレジスト層を保護する非水溶性でかつ有機溶剤可溶性の保護膜を形成するための保護膜形成用材料であって、少なくとも下記一般式（１）


（式中、Ｘは少なくとも炭素数３〜１５の脂環骨格を有する基を示す）
で表される構成単位を有する樹脂を含むことを特徴とする液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料。 （もっと読む）

【課題】ガラス転移点が（Ｔｇ）が低く、フッ化スルホン酸基を含むニトリル化合物の重合体で、架橋のできるエラストマーとその製造方法の提供。
【解決手段】化学式：Ｚ_２Ｃ＝ＣＷＸ（ＣＹ_２）_ｎＣＮで表せる出発原料モノマー。（ここでＸは酸素原子又は他の原子を表わしており；Ｙは水素原子又はフッ素原子を表わしており；Ｚは水素原子又はフッ素原子を表わしており；Ｗは水素原子又はフッ素原子、或いは原子団ＣＦ_３を表わしており；そしてｎは０〜１０迄の（ただし１０を含む）整数（自然数）である。）該モノマーは、新規な共重合化法及び架橋法を可能にし、非常に低いガラス転移点（Ｔｇ）を有するフッ化スルフォン酸基を含むニトリル化合物のエラストマーに供される。 （もっと読む）

【課題】セメント組成物の流動性を充分に良好なものとしたうえで、作業性・施工性が高められ、経済的に有利なセメント組成物、セメント混和剤及びセメント混和剤用ポリカルボン酸系共重合体を提供する。
【解決手段】不飽和ポリアルキレングリコールエーテル系単量体単位（Ａ）と不飽和モノカルボン酸系単量体単位（Ｂ）とを必須とするセメント混和剤用ポリアルキレングリコールエーテル側鎖含有ポリカルボン酸系共重合体であって、上記セメント混和剤用ポリアルキレングリコールエーテル側鎖含有ポリカルボン酸系共重合体は、固形分４０質量％でｐＨ７．０の水溶液としたときの２０℃での粘度が１００ｍＰａ・ｓを超え、３００ｍＰａ・ｓ未満であるセメント混和剤用ポリアルキレングリコールエーテル側鎖含有ポリカルボン酸系共重合体。 （もっと読む）

式（IIIc）の化合物を反応させる段階を含む、式（IIIe）の化合物の合成方法、および式（XXXa）の官能性ポリマーを開示する。式（IIIc）、（IIIe）、および（XXXa）における変数は、本明細書において定義する。





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【課題】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト用材料およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられる酸の作用によりアルカリ溶解性が増大するレジスト用材料であって、重合体状含フッ素化合物（Ｆ）を含み、デカリンに対する後退角が３０°以上であるレジスト用材料、前記イマージョンリソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法であって、前記レジスト用材料を含むレジスト形成組成物を基板上に塗布して基板上にレジスト膜を形成する工程、イマージョンリソグラフィー工程、および、現像工程をこの順に行う、基板上にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】新規熱硬化性重合液及びそれを用いた熱硬化性樹脂の提供。
【解決手段】本発明は、（メタ）アリル基と脂環式エポキシ基を1個ずつ持つ化合物（ａ）を主成分とする化合物群を重合することにより、２５℃における粘度を10 mPa・sから2,000,000mPa・sとしたことを特徴とする液状硬化性重合液を提供する。 （もっと読む）

塩化ビニル及び／又は塩化ビニリデン、（メタ）アクリル酸Ｃ_１２‐Ｃ_２２アルキル並びに単数又は複数の熱架橋性又はイソシアネート反応性モノマーで共重合される短鎖メタクリル酸ペルフルオロアルキルエチルは、特に穏やかな条件下での繊維状基材の撥油性、撥水性及び撥汚物性仕上げ剤に有用である。 （もっと読む）

【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体の製造に用いる各容器（重合槽２０、精製槽３０、溶解槽５０または、濃縮槽７０）として、前製造ロットの重合体の貧溶媒を容器の内面に接触させた際に前製造ロットの重合体が析出しないものを用いる。 （もっと読む）

【課題】金属および半金属含有量の少ない重合体を安定して製造できる製造方法、金属および半金属含有量の少ない重合体およびレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体が分散媒に分散した分散液を、フィルター４２を用いてろ過して重合体湿粉を製造する工程を有し、前記フィルター４２として、酸性水溶液で洗浄したものを用いる重合体の製造方法、該製造方法によって得られた重合体、および該製造方法によって得られた重合体を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体の製造に用いる各容器（調合槽１０、重合槽２０、または精製槽３０）として、容器充填後の水の電気伝導度（Ｘ）と容器充填前の水の電気伝導度（Ｙ）との差（Ｘ−Ｙ）が、１．８μＳ／ｃｍ以下であるものを用いる。ただし、容器充填前の水としては、電気伝導度が０．５μＳ／ｃｍ以下である純水を用い、容器充填後の水の電気伝導度（Ｘ）は、所定量の純水を容器に充填し、充填完了後１時間撹拌してから測定した容器内の水の電気伝導度とする。 （もっと読む）