【解決手段】酸不安定基により水酸基が保護された構造を有する繰り返し単位（ａ１）とアミノ基、アミド結合、カルバメート結合、含窒素複素環から選ばれる構造を１つ以上含む繰り返し単位（ａ２）とを含有する高分子化合物［Ａ］と、光酸発生剤［Ｂ］と、有機溶剤［Ｃ］とを共に含むレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の特定の構造の高分子化合物と光酸発生剤と有機溶剤を含むレジスト組成物は、有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで高い解像性を示し、例えば微細トレンチパターンやホールパターンの側壁の垂直性を高め、パターン倒れ耐性を向上させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性、リソグラフィー特性及びエッチング耐性に優れる高分子化合物、レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化し、（ａ５−０）で表される構成単位を有する高分子化合物を含む基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。（式（ａ５−０）中、Ｒは水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基である。Ｒ^１は硫黄原子又は酸素原子である。Ｒ^２は単結合又は２価の連結基である。Ｙは芳香族炭化水素基、又は多環式基を有する脂肪族炭化水素基である。）
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【課題】ヨウ素原子を末端に有する重合体の耐熱分解性を向上させ、成型品の着色を低減させる。
【解決手段】有機ヨウ素化物の存在下でビニル単量体をラジカル重合させて得られる重合体（Ａ）を弱塩基塩及び式（１）で表される化合物の少なくとも一方と反応させて該重合体（Ａ）の末端が処理された重合体（Ｂ）を得る末端処理工程を有する重合体（Ｂ）の製造方法。前記弱塩基塩が炭酸塩、炭酸水素塩、有機酸塩またはリン酸塩であることが好ましい。前記ラジカル重合工程において、さらにリン化合物、窒素化合物または酸素化合物を存在させることが好ましい。
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【課題】環境衛生上の問題が少なく、硬度、密着性、耐薬品性に優れた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】活性エネルギー線の遮断下で、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸から選ばれるカルボキシル基含有不飽和モノマー(a)、重合性不飽和基を有する光増感剤(ｂ)、反応性官能基を含有する不飽和モノマー(ｃ)、及びこれらと共重合可能な他の不飽和モノマー(ｄ)の混合物を共重合する。この共重合体に(c)と反応可能な炭素−炭素不飽和二重結合を含有する化合物(ｅ)を付加反応させ、1分子中に2つ以上の炭素−炭素不飽和二重結合、1つ以上の活性エネルギー線によりラジカルを発生する光増感性官能基、1つ以上のカルボキシル基を含有するポリマー化合物(A)を得る。次にポリマー化合物(A)中のカルボキシル基を塩基で中和する。この場合、上記(ｃ)化合物と (ｅ)の化合物を特定の組合せとする。
さらにポリマー化合物(A)に上記多官能不飽和モノマーまたはオリゴマー(Ｂ)を混合したものも含まれる。 （もっと読む）

【課題】 従来の紫外線吸収剤を用いた場合に比して、耐光性、非ブリードアウト性、相溶性、耐水性、及び耐熱性に優れ、単独又は種々の樹脂との配合で、光劣化が抑制されるとともに、耐久性の向上した塗料を提供する。
【解決手段】
紫外線吸収型ポリマー（Ａ）と、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンとを含むポリマー組成物を含有してなる塗料が提供される。紫外線吸収型ポリマー（Ａ）は、二重結合及び紫外線吸収基を有する化合物（ａ）と、二重結合含有成分（ｈ）とを含む重合成分を重合させて得られる重合生成物であり、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンとしては、活性水素含有基及びアニオン性親水性基（水酸基を除く。）を有する化合物（ｂ）と、ポリオール（ｃ）及び／又はポリアミン（ｄ）と、ポリイソシアネート（ｅ）と、を含む反応成分を反応させて得られる反応生成物の水分散体が用いられる。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターで、欠陥数の少ないのレジストパターンを製造することができるレジスト組成物などを提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａ１−１）で表される構造単位及び式（ａ１−２）で表される構造単位の１種以上とを有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となり、式（ａａ）で表される構造単位を有しない樹脂並びに酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】リソグラフィおよび現像性能に悪影響を及ぼさず、膜表面および頂部表面付近の領域に分布した、濃縮されたクエンチャー材料が存在するフォトレジスト組成物。
【解決手段】式（Ｉａ）、式（Ｉｂ）または式（Ｉａ）および（Ｉｂ）の組み合わせを含む窒素含有モノマーと、特定の酸脱保護性モノマーとを含むモノマーの重合生成物を含むポリマー。（Ｉａ）：Ｒ^ａ−Ｃ（＝ＣＨ_２）−ＣＯ−（−Ｏ−Ｌ^１−）_ａ−ＮＲ^ｂ_２、（Ｉｂ）：Ｒ^ａ−Ｃ（＝ＣＨ_２）−ＣＯ−Ｏ−ＬＮ−Ｘ。（式中ａは０または１であり、Ｌ^１は直鎖もしくは分岐Ｃ_１−１０アルキレン基、または単環式、多環式、もしくは縮合多環式Ｃ_３−２０（ヘテロ）シクロアルキル等であり、各Ｒ^ｂは別々に分かれているか、または少なくとも一つのＲ^ｂは隣のＲ^ｂに結合されており；ＬＮは縮合多環式Ｃ_３−２０ヘテロシクロアルキレン基等であり、ＸはＨ、Ｃ_１−１０アルキル等である。） （もっと読む）

【課題】改良されたＬＷＲ及びエッチング制御を示すフォットレジストポリマーを提供する。
【解決手段】式（Ｉ）：


（式中、Ｌ_１はｍ価のＣ_２−３０アルキレン、Ｃ_３−３０シクロアルキレン、Ｃ_６−３０アリーレン、Ｃ_７−３０アラルキレン基であり、Ｘ_１は独立して、β−ジケトン、β−エステル−ケトン、β−ジ−エステル、または前記のものの少なくとも１種を含む組み合わせを含む塩基可溶性有機基である）の塩基可溶性モノマーと；式（Ｉ）の塩基可溶性モノマーに共重合可能な追加のモノマーと；の重合生成物を含むコポリマー。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；ｎは１〜３の整数；Ａ¹は式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、ｓ＝０の時、Ａ^１１は単結合ではない；Ｘ^１０は、酸素原子を含む基を表す。］ （もっと読む）

【課題】室温付近で液晶相を示し、溶媒溶解性に優れる重合性組成物であって、硬化させると、均一な膜状態を維持し、配向制御及び光学特性に優れ、且つ基材への密着性に優れる重合膜が得られる重合性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物（Ａ）並びに（メタ）アクリレート基及びカルボキシル基を各々少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）を含有する重合性組成物。下記式中、Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に水素原子又はメチル基を表し、環Ａ¹〜Ａ³は、各々独立にベンゼン環、ナフタレン環等を表し、Ｘ、Ｙ及びＺは、各々独立にＣ１〜８アルキル基等を表し、Ｌ¹〜Ｌ⁴は、各々独立に単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ等を表し、ａ、ｂ及びｃはそれぞれ環Ａ¹〜Ａ³における置換基の数であって、環Ａ¹〜Ａ³に含まれる６員環の数をｖとすると、ａ、ｂ及びｃは各々独立に２ｖ＋２以下の整数を表す。
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【課題】高感度であること、ＬＥＲが良好であること、露光ラチチュードが良好であること、及びパターン形状が良好であることを同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位（Ａ）と、下記一般式（Ｂ１）で表される繰り返し単位（Ｂ）と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｃ）とを有する樹脂を含有する（一般式（Ｂ１）中、Ｒ_３は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、又はシアノ基を表し；Ｙは、単結合又は２価の連結基を表し；Ｚは、単結合又は２価の連結基を表し；Ａｒは、芳香環基を表し；ｐは１以上の整数を表す。）。
【化１】
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【課題】被処理液中の重金属の濃度が低く、カルシウムイオンが存在していても、重金属を効率よく捕捉可能で、回収率を向上することができる水処理剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）に示す部分構造を有する重合体を含有する水処理剤。
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【課題】生産性が高く、ガラス転移温度の均一性に優れ、変性率が高く、粘弾性特性が良好で、ビニル結合量が高い変性共役ジエン系共重合体が得られる、変性共役ジエン系共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】共役ジエン系単量体とビニル芳香族単量体とを、有機リチウム化合物開始剤を用いて共重合させる重合工程と、前記重合工程により得られる共役ジエン系共重合体に、官能基含有化合物を反応させる変性工程と、を有し、 前記重合工程において、下記化合物（１）、（２）をモル比で（２）／（１）＝０．０１以上０．１未満とし、かつモル比で（２）／有機リチウム化合物＝０．０２〜０．２として共存させる変性共役ジエン系共重合体の製造方法。
（１）酸素原子を２個以上有し、少なくとも１個の酸素原子が環状エーテル構造を構成するエーテル系化合物。
（２）ナトリウムアルコキシド。 （もっと読む）

【課題】耐湿熱性に優れ、硬化物が高温で高い弾性率を有し、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物、それを用いた感光性フィルム、パターン形成方法、中空構造の形成方法、及び電子部品を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、（Ｂ）光重合開始剤とを含有し、（Ｂ）光重合開始剤として、オキシムエステル系化合物及び／又はアシルホスフィンオキサイド系化合物を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体形成用塗布液の調製のために好適なポリマー組成物を製造するための手段を提供すること。
【解決手段】ポリマー組成物の製造方法。前記ポリマー組成物は、所定の４種のモノマー（モノマー１〜４）を含む原料モノマーの重合反応により得られるポリマーを含み、モノマー１を水または水とアルコールとの混合溶媒に添加して調製した溶液Ａと、モノマー２、３および４をケトン系溶媒に添加して調製した溶液Ｂとを混合して原料モノマー混合液を調製し、該原料モノマー混合液中で前記重合反応を行う。 （もっと読む）

【課題】従来提供されているポリマレイミド化合物よりも、より一層耐熱性に優れ、ガラス転移温度が著しく高く、また、長期高温条件下においた場合の重量減少の少ない硬化物を与えるポリマレイミド化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分；下記式（１）で表される化合物の混合物よりなる平均マレイミド官能基数が２より大きいポリマレイミド化合物を含有する芳香族ポリマレイミド混合物１００重量部に対して、（Ｂ）成分；特定の芳香族液状反応性希釈剤１〜２００重量部を含有するポリマレイミド系組成物。
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【課題】ロボットハンドに要求されるような高度な高温耐久性を有する硬化物を与えるポリマレイミド系組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分１００重量部に対して、（Ｂ）成分を１〜１００重量部、（Ｄ）成分を５〜３００重量部、（Ｅ）成分を５〜３００重量部含み、（Ｄ）成分と（Ｅ）成分との合計に対する（Ｄ）成分の割合（重量比）が０．０１〜０．９９であるポリマレイミド系組成物。(Ａ）：１分子中に芳香環を３個以上含む芳香族ビスマレイミド化合物（Ｂ）：脂肪族ビスマレイミド化合物（Ｄ）：特定式で表されるビスフェノール化合物（Ｅ）：特定式で表されるベンゼン系化合物 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）で、ラインエッジラフネスを有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子；環Ｘ^１は、複素環を表し、該複素環に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、炭化水素基、アルコキシ基、アシル基又はアシルオキシ基で置換されていてもよい；Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す；ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜４の整数を表す。］ （もっと読む）