【課題】矩形性の高い良好な断面形状、高い残膜率及びブリッジ欠陥の低減を鼎立し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成されたレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位と、ラクトン構造又はサルトン構造を有する繰り返し単位と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる繰り返し単位とを有する樹脂、及び
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


一般式（１）中、
Ｌは、単結合又は２価の連結基を表し、
Ｒ_１は、水素原子又はアルキル基を表し、
Ｚは、環状酸無水物基を表す。 （もっと読む）

【課題】 焦点深度ラチチュード（Ｄｅｐｔｈ Ｏｆ Ｆｏｃｕｓ）が大きく、経時でのパーティクル発生が少ないという液物性を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】 （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｂ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、
前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、前記化合物（Ａ）として、特定の２種の化合物からなる組み合わせ（Ａ−１）、又は、特定の２種の化合物からなる組み合わせ（Ａ−２）を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アルカリ不溶性又は難溶性の高分子化合物及び熱架橋剤を含有する高感度、高解像度な厚膜用の化学増幅ポジ型レジスト材料に関する。
【解決手段】（Ａ）ベース樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）熱架橋剤、（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ａ）成分が１００質量部、（Ｂ）成分が０．０５〜２０質量部、（Ｃ）成分が０．１〜５０質量部、（Ｄ）成分が５０〜５，０００質量部からなり、（Ａ）ベース樹脂が、重量平均分子量１，０００〜５００，０００である高分子化合物を含有することを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基により水酸基が保護された構造を有する繰り返し単位（ａ１）とアミノ基、アミド結合、カルバメート結合、含窒素複素環から選ばれる構造を１つ以上含む繰り返し単位（ａ２）とを含有する高分子化合物［Ａ］と、光酸発生剤［Ｂ］と、有機溶剤［Ｃ］とを共に含むレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の特定の構造の高分子化合物と光酸発生剤と有機溶剤を含むレジスト組成物は、有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで高い解像性を示し、例えば微細トレンチパターンやホールパターンの側壁の垂直性を高め、パターン倒れ耐性を向上させることが可能である。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基によりカルボキシル基が保護された構造を有する繰り返し単位（ａ１）とアミノ基、アミド結合、カルバメート結合、含窒素複素環から選ばれる構造を１つ以上含む繰り返し単位（ａ２）とを含有する高分子化合物［Ａ］と、光酸発生剤［Ｂ］と、有機溶剤［Ｃ］とを共に含むレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の特定の構造の高分子化合物と光酸発生剤と有機溶剤を含むレジスト組成物を有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで表面難溶層の形成を防ぎ、微細トレンチパターンやホールパターンの広い焦点深度を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】アゾ顔料の結着樹脂への分散性が良好で、良好な色調を有し、画像カブリ抑制、転写効率が良好で長期的に安定した画像が得られるトナーの提供。
【解決手段】少なくとも、結着樹脂、特定の高分子樹脂ユニットに特定のビスアゾ骨格ユニットが結合した化合物、及び、着色剤としてアゾ顔料を含有するトナー母粒子を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】炭素数６以下のパーフルオロアルキル基であっても撥水撥油剤、防汚剤または離型剤として要求される充分な性能を与える、含フッ素単量体として使用される含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】（ａ）式：CH₂=C(-X)-C(=O)-Y-Z-Ｗ-Rf
［式中、Ｘは、水素原子、一価の有機基またはハロゲン原子であり、
Y は、-O- または -NH-であり、
Ｚは、直接結合または二価の有機基であり、
Ｒｆは、炭素数1〜20のフルオロアルキル基であり、
Ｗは、-(CL¹L²-CL³L⁴)_a-、または-(CL⁵L⁶-CL⁷L⁸)_a-である。
（Ｌ¹〜Ｌ⁴の少なくとも１つは、塩素原子であり、
Ｌ¹〜Ｌ⁴の残りの少なくとも１つは、水素原子であり、
Ｌ⁵〜Ｌ⁸の少なくとも１つは、炭素数１〜２２の炭化水素基であり、
Ｌ⁵〜Ｌ⁸の残りの少なくとも１つは、フッ素原子であり、
aは、１〜５０の整数である。）］
で示される含フッ素単量体から誘導された繰り返し単位
を有してなる含フッ素重合体を含んでなる含フッ素組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性を有するレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂及び酸発生剤を含み、酸発生剤が、式（Ｂ１）で表される塩を含む酸発生剤であるレジスト組成物。式（ａａ）中、Ｔ^１は、環骨格中に−Ｏ−ＳＯ_２−を有する炭素数４〜３４の環式基を表す。Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ｒ^２は、炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｒ^３は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
（もっと読む）

【課題】新規な末端官能基化ポリオレフィン及びその製造方法を提供する。
【解決手段】末端官能基化ポリオレフィンは、下記の一般式で表される。


（式中ｎは２０〜１０００の整数、各Ｒは、Ｈ、−ＣＨ_３、−Ｃ_２Ｈ_５、および−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）_２からなる群から独立に選択され、Ｘは、末端に、−ＯＨ、−ＣＯＯＹ、−ＮＨ_２、−Ｎ（ＣＨ_３）_２、−Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２、−ＳＯ_３Ｈ、及びハロゲンからなる群から選択される官能基を有する基であり、Ｙは、Ｈ、アルキル基、または金属である。） （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）酸不安定基を含む繰り返し単位（ａ１）と、環状の炭化水素基を有し、その環内にエステル基、エーテル基、炭酸エステル基又はスルホン酸エステル基のうち少なくとも１つを含む繰り返し単位（ａ２）と、オキシラン環を有する繰り返し単位（ａ３）を含み、酸によってアルカリ溶解性が向上する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【効果】本発明によれば、良好なライン幅ラフネス（ＬＷＲ）とマスク忠実性（ＭＥＦ）を有し、微細パターンにおいても矩形性が高く、パターン倒れ耐性に優れたレジスト組成物を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】疎水性が高く液浸水への溶出が低く、酸拡散制御による、高解像性パターンプロファイルの構築。
【解決手段】（Ａ）式（１−１）の化合物（Ｂ）式（１−２）で示される酸発生剤、（Ｃ）ベース樹脂、（Ｄ）有機溶剤を含有するＡｒＦ液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料。


（Ａｒはアリール基。）


（Ｒ¹はアルキル基、アルケニル基又はアラルキル基。Ｒ²は水素原子又はトリフルオロメチル基。Ａｒはアリール基。） （もっと読む）

【課題】生体及び環境へのリスクが低く、各種基材に対して良好な撥水撥油性を示す、離型性、透明性、密着性、耐熱性に優れる硬化膜を形成する硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）（１）下記式
【化１４】


（ＲはＨ又はメチル基、ｎは１〜６、ａは１〜４、ｂは０〜３、ｃは１〜３の整数。）
で表されるポリフルオロアルキルビニル単量体：５０〜９９．５質量％、
（２）分子中に１個以上のケイ素原子に結合した加水分解可能な基を含有する有機ケイ素系ビニル単量体、ヒドロキシル基含有ビニル単量体及びカルボキシル基含有ビニル単量体から選ばれるビニル単量体：０．５〜５０質量％、
（３）（１）、（２）成分と共重合可能で、かつ（１）、（２）成分を含まない非ケイ素系又は有機ケイ素系ビニル単量体：０〜４９質量％
からなる単量体混合物の共重合体、及び
（Ｂ）アルミキレート
を有効成分としてなる硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体発光装置における封止材の光学的な特性に着目し、適切に集光された狭い照射領域を実現する配光性を有し、しかも製造効率のよい成形方法を採用することができる半導体発光装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】リフレクターパッケージ基材２と、リフレクターパッケージ基材２の凹状空間に実装された半導体発光素子１と、半導体発光素子１を封止した極性基含有アクリル系樹脂を含む封止材３とを具備する半導体発光装置１０であって、封止材３の出光面が曲面状に凹んでおり、その凹んだ出光面の曲率半径が、該出光面の平面視における直径もしくは短辺の長さの１．８倍〜４．５倍に設定される。 （もっと読む）

【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、現像欠陥を抑制することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］親水性基を含む構造単位（Ｉ）を有するフッ素原子含有重合体、［Ｂ］アルカリ解離性基を含む構造単位（ＩＩ）を有するフッ素原子含有重合体、及び［Ｃ］酸解離性基を有する重合体を含有し、［Ａ］重合体、［Ｂ］重合体及び［Ｃ］重合体は互いに異なる重合体であるフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】アゾ顔料の非水溶性溶剤に対する顔料分散性を改善する顔料分散剤を提供する。
【解決手段】特定の高分子樹脂ユニットに、下記一般式（１）で表されるユニットが結合している、顔料分散剤として用いられる化合物。


［式（１）中、Ｒ1はアルキル基、フェニル基を表し、Ｒ2乃至Ｒ6は水素原子、エステル基、アミド基等を表す。Ｌ1乃至Ｌ2は二価の連結基を表す。］ （もっと読む）

【課題】耐ブロッキング性、接着性および耐候性に優れた接着剤、前記接着剤からなる接着剤層を有する太陽電池モジュール用バックシート、太陽電池モジュールおよび太陽電池を提供すること。
【解決手段】ビニル系重合体を含有するビニル系接着剤であって、前記ビニル系重合体が側鎖の末端にエチレン性不飽和二重結合を有するビニル系重合体であることを特徴とするビニル系接着剤、前記ビニル系接着剤からなる接着剤層を有する太陽電池モジュール用バックシート、太陽電池モジュールおよび太陽電池。 （もっと読む）

【課題】孔径について現像時間依存性を低く抑えながら、真円性に優れる微細な孔径（例えば、６０ｎｍ以下）のホールパターンを形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ｐ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）窒素原子を有し、かつ活性光線又は放射線の照射により変化しない塩基性化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全固形分に対する前記化合物（Ｃ）の含有量が１．０質量％以上であり、かつ前記化合物（Ｃ）の前記化合物（Ｂ）に対するモル比率［Ｃ］／［Ｂ］が０．４０以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】ＥＵＶ用またはＥＢ用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】フッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種と、芳香族基と、塩基の作用により分解して極性が増大する極性変換基とを有する樹脂成分（Ｃ）と、露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）（ただし前記樹脂成分（Ｃ）を除く。）と、を含有し、前記樹脂成分（Ｃ）中の前記芳香族基を有する構成単位の割合が２０モル％以上であることを特徴とするＥＵＶ用またはＥＢ用レジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】置換又は非置換のメチロール基と結合する窒素原子を含むウレア結合、アミド結合、又はウレタン結合を有する化合物と、ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位を有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】本発明に係るレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】着色パターンの表面にムラが出る表面欠陥が生じず、生産性に優れた、感光性着色樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるチオール化合物（Ａ）、一般式（２ａ）で表されるエポキシ化合物（ａ）と、α，β−不飽和カルボン酸（ｂ）との反応物と、多塩基酸及び／又はその無水物（ｃ）とを反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂（Ｂ_１）及び／又はアルカリ可溶性樹脂（Ｂ_２）を含むアルカリ可溶性樹脂（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、色材（Ｄ）、及び光重合性モノマー（Ｅ）を含有する感光性着色樹脂組成物。
（もっと読む）