【課題】 硬化塗膜表面に優れた防汚性及び耐擦傷性を付与することができる含フッ素界面活性剤として用いることができる含フッ素重合性樹脂を提供する。また、塗布、硬化させた後に、塗膜表面に付着した汚れを繰り返し拭き取って、硬化塗膜表面を摩耗させても、優れた防汚性を維持することができる活性エネルギー線硬化型組成物、その硬化物及びその硬化塗膜を有する物品を提供する。
【解決手段】 重合性不飽和単量体を重合させて得られた重合体であって、前記重合体の構造中にポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖、アダマンチル基及び重合性不飽和基を有する含フッ素重合性樹脂、該含フッ素重合性樹脂を添加した活性エネルギー線硬化型組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）を十分に満足するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位とラクトン環を有する構造単位とを含む樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいてフォトレジストの下層で使用され、フォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、フォトレジストとのインターミキシングを起こさず、アスペクト比が大きいホールを有する半導体基板の表面を平坦化できる下層膜、及び該下層膜を形成するための下層膜形成組成物を提供すること。
【解決手段】フォトレジストの下層に使用される下層膜を光照射によって形成するための組成物であって、重合性物質及び光重合開始剤を含み、該重合性物質がラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも一つ有する重合性化合物であり、そして該光重合開始剤が光ラジカル重合開始剤である、下層膜形成組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物
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【課題】柔軟性およびクッション性に優れ、圧縮歪回復性に優れた、高回復性発泡体を提供する。
【解決手段】混合シロップ、アクリルモノマー、ウレタンアクリレートと、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイドからなるＷ／Ｏ型エマルションを基材に塗布し、ポリエチレンテレフタレートフィルムを被せ、紫外線を照射し、得られた高含水架橋重合体を加熱して得られる、球状気泡を有する発泡体を含み、５０％圧縮状態において８０℃で２４時間保存した後に２３℃まで冷却し、その後、該圧縮状態を解いて１時間経過した時の、５０％圧縮歪回復率が８０％以上である高回復性発泡体。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーエンハンスメントファクター（ＭＥＥＦ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】重合体（１）又は重合体（２）（これらは式（Ｉ）のモノマー由来構造単位を含む）と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、炭化水素基を表すか、互いに結合して環を形成し、前記基は、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基又はシアノ基で置換されていてもよく、該基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−又は−ＮＨ−で置き換わっていてもよく、該炭化水素基に含まれる＝ＣＨ−は、＝Ｎ−で置き換わっていてもよい；Ａ¹は、単結合又は２価の連結基を表す。］ （もっと読む）

【課題】塗膜表面に優れた防汚性及び滑り性を付与することができ、フッ素系界面活性剤又はフッ素系表面改質剤として用いることができる含フッ素重合性樹脂、それを用いた活性エネルギー線硬化型組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】平均分子量が２，５００〜１０，０００であるポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を有し、その両末端にラジカル重合性不飽和基を有する化合物（Ａ）と、反応性基（ｂ）を有するラジカル重合性不飽和単量体（Ｂ）とを必須の単量体成分として共重合させて得られる重合体に、前記官能基（ｂ）と反応性を有する官能基（ｃ）とラジカル重合性不飽和基とを有する化合物（Ｃ）を反応させて得られる含フッ素重合性樹脂を用いる。 （もっと読む）

【課題】反射率、鉛筆硬度および耐クラック性に優れた微細構造体を提供する。
【解決手段】表面に略円形または略多角形の開口部を有する錘状凹部が形成された微細構造体であって、前記開口部の平均幅が４００ｎｍ以下であり、分子内に２つ以上の（メタ）アクリレート基を有する化合物（Ａｘ）を重合性化合物の合計量に対して８０質量％以上含有する光硬化性組成物（Ａ）の硬化物である微細構造体。 （もっと読む）

【課題】ハードコート剤など物品表面に被膜を形成させるコーティング剤などに配合することにより、付着した指紋が外観上目立ちにくく（指紋汚れ目立ち防止性が良好）、しかも拭取りも容易（指紋拭取り性が良好）となる特性（耐指紋性）を付与することができる耐指紋性向上剤、および耐指紋性が良好なハードコート膜が得られる活性エネルギー線硬化性ハードコート剤を提供する。
【解決手段】重合性基含有含フッ素アダマンタン誘導体を含む耐指紋性向上剤。 （もっと読む）

【課題】塗膜表面に優れた防汚性を付与することができる重合性フッ素系化合物を提供する。また、塗膜表面を摩耗させても、優れた防汚性を維持できる活性エネルギー線硬化型組成物、その硬化物及びその硬化塗膜を有する物品を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性フッ素系化合物を用いる。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８のうち少なくとも１つは（メタ）アクロイルオキシ骨格を有する基であり、残りは水酸基を表し、Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立に２価の有機基、ＰＦＰＥはポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を表す。また、ｎは平均で０〜１０の範囲を表す。） （もっと読む）

【課題】フォトレジスト組成物に含有させる高分子化合物の構成単位となり得る新規なアクリル酸エステル誘導体を提供すること、該アクリル酸エステル誘導体を含有する原料を重合することにより得られる高分子化合物を提供すること、および該高分子化合物を含有する、従来よりもＬＷＲが改善されて高解像度のレジストパターンが形成されたフォトレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式で示されるカルバモイルオキシアダマンタン誘導体、該カルバモイルオキシアダマンタン誘導体を含有する原料を重合して得られる高分子化合物、該高分子化合物、光酸発生剤および溶剤を含有するフォトレジスト組成物。


（式中、Ｒは、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。） （もっと読む）

【課題】環境及び生体への蓄積性が低く、優れたレベリング剤として用いることができるフッ素系界面活性剤を提供する。また、このフッ素系界面活性剤を用いたコーティング組成物及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】炭素原子数４〜６のフッ素化アルキル基（ただし、前記アルキル基は酸素原子によるエーテル結合を有するものも含む。）を有する単量体（Ａ）及び下記一般式（２）で表されるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体（Ｂ）を必須の単量体として共重合させた共重合体であることを特徴とするフッ素系界面活性剤を用いる。


（式中、Ｒは水素原子又はメチル基であり、Ｘ及びＹはそれぞれ独立のアルキレン基であり、ｍ及びｎはそれぞれ０または１以上の整数であり、かつｍとｎの合計は３以上であり、Ｚは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】透明性および防汚性に優れた硬化膜を形成することができる硬化性組成物、該硬化性組成物から形成された硬化膜を備える反射防止用積層体を提供する。
【解決手段】反射防止用積層体１００は、透明基材１０上に、（Ａ）シリカ粒子と、（Ｂ−１）フッ素を含有する（メタ）アクリルエステル類および（Ｂ−２）エチレン性不飽和基を含有する含フッ素重合体から選択される少なくとも１種と、（Ｃ）下記一般式（１）で示される構造を有する含フッ素化合物と、を含有する硬化性組成物から形成された硬化膜３０を有する。


（式（１）中、Ｒ^１は炭素数２〜４のアルキレンを表し、Ｒｆは２〜１０個のＣＦ_３基を有する炭素数３〜２０のフッ化炭素基を表し、Ｌは芳香環を含んでいてもよい炭素数６〜１２の連結基を表す。ｍは０または１であり、ｎは２〜３０の整数を表す。＊は他の原子または基と結合していることを表す。） （もっと読む）

【課題】ベルト部材表面にほこりやチリ等が付着しにくいベルト部材を見出すことにより、ベルト表面からの付着物転移による汚染を光沢面上に発生させることのない光沢面形成装置及び光沢面形成方法を提供する。
【解決手段】クリアトナーを加熱する加熱手段、溶融したクリアトナーを介して画像支持体を密着させるベルト部材、ベルト部材に画像支持体を密着させたまま冷却する冷却手段、冷却でクリアトナーが硬化した画像支持体をベルト部材より剥離する剥離手段を有する光沢面形成装置で、ベルト部材の表面層がフッ素原子を含有する繰り返し単位とシロキサン構造を有する繰り返し単位を少なくとも有する共重合体を含有する樹脂を含有する。 （もっと読む）

【課題】２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−フェノキシ］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（化合物１）からなる白色固体光開始剤およびその製造法の提供。
【解決手段】ａ）ジフェニルエーテルを、ハロゲン化アルファ−ブロモイソブチリルなどのアシル化剤と、ルイス酸により触媒してフリーデルクラフツ反応させる段階；ｂ）段階ａ）において得られた２−ハロゲノ−１−｛４−［４−（２−ブロモ−２−メチル−プロピオニル）−フェノキシ］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オンを、水和した塩基と反応させて、溶媒に溶解した２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−フェノキシ］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オンを得る段階；ｃ）このようにして得られた生成物を結晶化させる段階からなる合成法。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率異方性と優れた青色レーザー耐光性を有し、膜厚むらおよび配向乱れが抑制された共重合体と光学素子、およびそれらを得るための新規な化合物を提供する。
【解決手段】
新規なビニルエーテル化合物は下式で表される。
CH₂=CH-O-(CH₂)_m-R-(CH₂)_n-O-w¹-(E¹)_h-w²-(E²)_j-(E³)_k-E⁴-R¹………（１）
式中、Ｒはアルキレン基、ポリフルオロアルキレン基等、Ｒ^１はアルキル基、シアノ基等、Ｅ^１は１，４−フェニレン基、Ｅ^２、Ｅ^３、Ｅ^４は１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、またはトランス−２，６−デカヒドロナフタレニル基、
ｗ^１，ｗ^２はカルボニル基または単結合を示す。 （もっと読む）

【課題】吸水時の臭気が低減され、かつ微粉および粗粉の少ない吸水性樹脂の製造方法、それにより得られる吸水性樹脂および吸収体の提供。
【解決手段】水溶性エチレン性不飽和単量体を逆相懸濁重合させて吸水性樹脂を製造する方法であって、（１）界面活性剤および／または高分子保護コロイドの存在下に石油系炭化水素分散媒中、水溶性エチレン性不飽和単量体水溶液を、ラジカル重合開始剤を用いて、第１段目の逆相懸濁重合を行う工程、（２）界面活性剤および／または高分子保護コロイドが石油系炭化水素分散媒に溶解している状態で、第１段目の逆相懸濁重合が終了した反応混合物に、ラジカル重合開始剤を含む第２段目の水溶性エチレン性不飽和単量体水溶液を添加し、第２段目の逆相懸濁重合を行う工程、および（３）第２段目の逆相懸濁重合が終了した反応混合物を、冷却して界面活性剤および／または高分子保護コロイドの少なくとも一部を析出させ、ラジカル重合開始剤を含む第３段目の水溶性エチレン性不飽和単量体水溶液を添加し、第３段目の逆相懸濁重合を行う工程を含むことを特徴とする吸水性樹脂の製造方法、それにより得られる吸水性樹脂および吸収体が提供される。 （もっと読む）

【課題】レオコン性、自己硬化性があり熱黄変しにくい、水性塗料のバインダーとして用いることが出来る新規な熱硬化性アクリル樹脂組成物及びそれを含んでなる水性塗料組成物を得る。
【解決手段】ウレタン結合を有するエチレン性不飽和モノマー、イミド結合を有するエチレン性不飽和モノマー、及びウレア結合を有するエチレン性不飽和モノマーの中から選ばれる一種以上の水素結合性を持つ含窒素不飽和モノマー（Ａ）及びそれ以外の不飽和モノマー（Ｂ）を共重合してなることを特徴とする熱硬化性アクリル樹脂組成物による。 （もっと読む）

【課題】現像性が良好で、膜減りのない良好な重合硬化膜を形成できる重合性組成物、および現像性及び耐汚れ性が良好で、かつ充分な耐刷性を有する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】（ａ）１分子中に、スルホベタイン構造を少なくとも２つ有し、かつエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する重合性ベタイン化合物、及び（ｂ）重合開始剤を含有する重合性組成物。該重合性組成物を含有する画像形成材料。該重合性組成物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率異方性と優れた青色レーザー耐光性を有し、膜厚むらおよび配向乱れが抑制された光学異方性材料、光学素子およびこれらを得るための新規な液晶化合物を提供する。
【解決手段】新規な含フッ素ジエン化合物は下式で表される。この化合物を含有する重合性液晶組成物が調製され、この化合物を重合することにより光学異方性材料、光学素子が得られる。
CF₂=CFCXYCH(CZ-O-W¹-(CH₂)_m-R¹-(CH₂)_n-(O)_i-W²-(E¹)_h-W³-(E²)_j-(E³)_k-E⁴-R²)CH₂CH=CH₂
式中、Ｒ^１は単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基等、Ｒ^２は炭素数１〜８のアルキル基等、Ｅ^１は１，４−フェニレン基、Ｅ^２，Ｅ^３，Ｅ^４は各々独立に、１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、またはトランス−２，６−デカヒドロナフタレニル基、ＣＺはメチレン基等を示す。 （もっと読む）