【課題】アゾ顔料の非水溶性溶剤に対する顔料分散性を改善する顔料分散剤を提供する。
【解決手段】特定の高分子樹脂ユニットに、下記一般式（１）で表されるユニットが結合している、顔料分散剤として用いられる化合物。


［式（１）中、Ｒ1はアルキル基、フェニル基を表し、Ｒ2乃至Ｒ6は水素原子、エステル基、アミド基等を表す。Ｌ1乃至Ｌ2は二価の連結基を表す。］ （もっと読む）

【課題】近赤外の波長領域における一層辺りの反射帯域幅が広く、実質的に無色な重合体の提供。
【解決手段】４２０ｎｍにおける透過率を５５０ｎｍにおける透過率から減じた値が１０％以下であり、実質的に無色であり、固定化されたコレステリック液晶相を有し、前記固定化されたコレステリック液晶相のピッチが、近赤外の波長領域において入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上となるように勾配を有する重合体。 （もっと読む）

【課題】機械的強度が高く、かつ、電気特性に優れた硬化膜が得られる新規な化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される化合物。一般式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性骨格を示し、Ｌは−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−基を含む２価の連結基を示し、ｍは１以上８以下の整数を示し、ｎは３以上６以下の整数を示す。


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【課題】長期に亘り繰り返し使用しても電気特性の劣化が抑制された電子写真感光体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物の重合体を含有する電荷輸送性層を備えた電子写真感光体〔一般式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性サブユニットを示し、Ｌはアルキレン基、−Ｃ＝Ｃ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、及びアルカン若しくはアルケンから誘導される３価又は価の４基からなる群より選択される２種以上を組み合わせてなる（ｎ＋１）価の連結基を示し、ｍは１以上６以下の整数を示し、ｎは２以上３以下の整数を示す。〕。
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【課題】 変形応答特性の低下を招くことなく、電解質イオンの染み出しを抑制したアクチュエータを提供する。
【解決手段】 対向し合う一対の電極層と該一対の電極層の間に配置される電解質を有する中間層を有し、前記電極層への電圧印加により、変位するアクチュエータにおいて、前記一対の電極層の外層にイオン染み出し抑制層が形成されており、かつ前記アクチュエータの電圧印加時における正極側の電極層の外層に備えられるイオン染み出し抑制層は、少なくともポリアニオンで構成され、また前記アクチュエータの電圧印加時における負極側の電極層の外層に備えられるイオン染み出し抑制層は、少なくともポリカチオンで構成されるアクチュエータ。 （もっと読む）

【課題】高容量、高サイクル性を有するポリマー活物質の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるジシアノアントラキノンジイミンポリマー。


（式中、Ｘは、炭素−炭素不飽和結合を有する重合性官能基から重合反応によって形成される有機基を表す。Ｒ¹〜Ｒ⁷は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、炭素数１〜１２の置換又は非置換の１価炭化水素基、又は炭素数１〜１２の置換又は非置換のアルコキシ基、アルキルチオ基又は各々のアルキル基が独立に炭素数１〜１２の置換又は非置換のアルキル基のジアルキルアミノ基を表す。波線は、結合の立体配置がシス型又はトランス型を表す。ｎは２以上の整数を表す。） （もっと読む）

【解決手段】環状構造を含む３級エステル型酸不安定基及び／又はアセタール型酸不安定基を有する繰り返し単位を含み、酸によってアルカリ現像液に可溶になる高分子化合物と、酸発生剤及び／又は酸と、アミノ基を有する化合物を発生させる光塩基発生剤と、必要により添加され、酸発生剤より発生する酸を中和することによって不活性化させるクエンチャーと、有機溶剤とを含むレジスト材料を基板上に塗布、露光、ベーク、アルカリ水現像によってネガパターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、未露光部と過露光部がアルカリ現像液に不溶で、中間の露光量部分だけ現像液に溶解するデュアルトーンの特性を有することができる。 （もっと読む）

【課題】充填材の分散性をより改善することができ、低発熱性、耐摩耗性に優れたゴム組成物及び該組成物を用いてなる、上記特性を有する空気入りタイヤを提供すること。
【解決手段】配合工程において充填材表面と反応する変性部位（Ａ）を分子構造中に含む変性ポリマー（Ｂ）５〜９０質量部と他のポリマー成分（Ｃ）９５から１０質量部からなるゴム成分において、他のポリマー成分（Ｃ）がポリマーの生産工程で添加された有機酸の残渣（Ｄ）を含み、そのゴム成分１００質量部に対して、補強性充填材（Ｅ）１０〜１５０質量部、前記（Ｄ）と配合時に添加される有機酸（Ｆ）との総和が３．５質量部以下であることを特徴とするゴム組成物である。 （もっと読む）

【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】分子内に、（メタ）アクリロイル基及び、２個以上の第１の官能基を含み、該第１の官能基が電磁波の照射もしくは熱の作用により、活性水素と反応する第２の官能基を生成する官能基である高分子化合物（Ａ）を含有する有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 （もっと読む）

【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】置換マレイミド基を有する繰り返し単位と、第１の官能基を含有する繰り返し単位とを有し、該第１の官能基が、電磁波の照射もしくは熱の作用により、活性水素と反応する第２の官能基を生成する官能基である高分子化合物（Ａ）を含有する有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 （もっと読む）

【課題】左螺旋を誘起する新規な重合性キラル化合物、左螺旋性液晶性高分子、及び光学異方体を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示される左螺旋を誘起する重合性キラル化合物、該化合物を重合して得られる左螺旋性液晶性高分子、光学異方体。


〔式中、Ｙ^１〜Ｙ^３は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−等を表し、Ａ^１及びＡ^２は炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｚ^１は炭素数２〜１０のアルケニル基等を表す。〕 （もっと読む）

【課題】多層ブロー成形や多色射出成形などの成形方法を用いた場合でも、接着性官能基含有フッ素樹脂からなる層と変性ポリオレフィン樹脂からなる層とが直接、強固に接着し、初期接着性及び初期接着性の均一性、さらに、保持接着性に優れる積層体を提供する。
【解決手段】変性ポリオレフィン樹脂からなる層（Ｂ−１）、及び、前記層（Ｂ−１）上に形成された接着性官能基含有フッ素樹脂からなる層（Ｃ）を有し、層（Ｂ−１）を構成する変性ポリオレフィン樹脂は、イミノ基又はカルボジイミド基を有する変性ポリオレフィンであり、前記層（Ｃ）を構成する接着性官能基含有フッ素樹脂は、前記層（Ｂ−１）を構成する変性ポリオレフィン樹脂の有する官能基に対して反応性を示す接着性官能基を、主鎖末端および／または側鎖末端に有することを特徴とする積層体。 （もっと読む）

【課題】露光に対し光感度で硬化し、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、パターン形状が良好であり、且つ、現像後に残渣が少ないパターニング硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有するオキシム光重合開始剤ポリマーと（Ｂ）重合性化合物とを含有する光重合性組成物。下記一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子またはアルキル基、Ｒ^２は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルカルボニル基などを、Ｒ^３はアリール基、又はヘテロアリール基を示す。Ｒ^２とＲ^３は互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｘ^１は単結合か２価の有機基を示す。Ａは単結合またはカルボニル結合を示す。
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【課題】優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物
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【課題】優れたマスクエラーエンハンスメントファクター（ＭＥＥＦ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】重合体（１）又は重合体（２）（これらは式（Ｉ）のモノマー由来構造単位を含む）と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、炭化水素基を表すか、互いに結合して環を形成し、前記基は、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基又はシアノ基で置換されていてもよく、該基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−又は−ＮＨ−で置き換わっていてもよく、該炭化水素基に含まれる＝ＣＨ−は、＝Ｎ−で置き換わっていてもよい；Ａ¹は、単結合又は２価の連結基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ａ^１は、単結合、脂肪族炭化水素基等；Ａ^２は炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基；環Ｗ^１は炭素数４〜３６の脂肪族環；環Ｗ^２は、炭素数４〜１８のラクトン環；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基；Ｙは置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】得られるパターンのマスクエラーエンハンスメントファクターが良好なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】樹脂、酸発生剤及び式（Ｉ）で表される化合物を含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ａ^１は、単結合又は炭素数１〜２のアルキレン基を表す。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素数１〜２のアルキル基を表す。Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数３〜２０の炭化水素基を表すか、或いはＲ^６及びＲ^７は、互いに結合して炭素数２〜１２の複素環を形成してもよい。］ （もっと読む）