【課題】感度、解像性及びリソグラフィー特性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ５−０）で表される構成単位（ａ５）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ６）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】 酸化ジルコニウム粒子及び有機ケイ素化合物を多量に配合しても低粘度であり、黄変を抑制することができ、透明性、耐熱性に優れた高屈折率の樹脂を形成する光学材料用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
平均粒子径が１〜３０ｎｍである酸化ジルコニウム粒子と、下記式（１）で示される化合物からなる分散剤と、有機ケイ素化合物と、重合性不飽和基を有する化合物とを含有することを特徴とする光学材料用樹脂組成物である。
ただし、式（１）のＲは、分岐鎖を有し炭素数が３ないし２４のアルキル基および／又はアルケニル基であり、ＡＯは炭素数が１ないし４のオキシアルキレン基であり、ｎはアルキレンオキシドの平均付加モル数を示す３〜３０の範囲の数値であり、Ｘは炭素原子、水素原子及び／又は酸素原子からなる連結基である。
【化１】
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【課題】炭素数６以下のパーフルオロアルキル基であっても撥水撥油剤、防汚剤または離型剤として要求される充分な性能を与える、含フッ素単量体として使用される含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】（ａ）式：CH₂=C(-X)-C(=O)-Y-Z-Ｗ-Rf
［式中、Ｘは、水素原子、一価の有機基またはハロゲン原子であり、
Y は、-O- または -NH-であり、
Ｚは、直接結合または二価の有機基であり、
Ｒｆは、炭素数1〜20のフルオロアルキル基であり、
Ｗは、-(CL¹L²-CL³L⁴)_a-、または-(CL⁵L⁶-CL⁷L⁸)_a-である。
（Ｌ¹〜Ｌ⁴の少なくとも１つは、塩素原子であり、
Ｌ¹〜Ｌ⁴の残りの少なくとも１つは、水素原子であり、
Ｌ⁵〜Ｌ⁸の少なくとも１つは、炭素数１〜２２の炭化水素基であり、
Ｌ⁵〜Ｌ⁸の残りの少なくとも１つは、フッ素原子であり、
aは、１〜５０の整数である。）］
で示される含フッ素単量体から誘導された繰り返し単位
を有してなる含フッ素重合体を含んでなる含フッ素組成物。 （もっと読む）

【課題】新規な末端官能基化ポリオレフィン及びその製造方法を提供する。
【解決手段】末端官能基化ポリオレフィンは、下記の一般式で表される。


（式中ｎは２０〜１０００の整数、各Ｒは、Ｈ、−ＣＨ_３、−Ｃ_２Ｈ_５、および−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）_２からなる群から独立に選択され、Ｘは、末端に、−ＯＨ、−ＣＯＯＹ、−ＮＨ_２、−Ｎ（ＣＨ_３）_２、−Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２、−ＳＯ_３Ｈ、及びハロゲンからなる群から選択される官能基を有する基であり、Ｙは、Ｈ、アルキル基、または金属である。） （もっと読む）

【課題】レジスト膜の環境からの影響を低減させ、ＯＯＢ光を効率よく遮断させ、レジストパターンの膜減りやパターン間のブリッジを低減させ、レジストを高感度化させるレジスト保護膜材料を提供する。
【解決手段】ウエハー３に形成したフォトレジスト膜２上にレジスト保護膜材料によりレジスト保護膜１を形成し、露光を行った後、レジスト保護膜の剥離及びフォトレジスト膜の現像を行うことで、フォトレジスト膜にパターンを形成する方法において用いるレジスト保護膜材料であって、下記一般式（１）に記載のフェノール基を含有するトルクセン化合物を含むレジスト保護膜材料。
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【課題】本発明の目的は、高い屈折率を有し、なおかつ低透湿性に優れた硬化物を形成する樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明の樹脂組成物は、１分子中に２つ以上の反応性官能基及び１つ以上の環状骨格を有し、前記反応性官能基の少なくとも１つが硫黄原子を介して前記環状骨格に結合した化合物（Ａ）と、１分子中に１つの反応性官能基及び２つ以上の環状骨格を有する化合物（Ｂ）と、重合開始剤（Ｃ）とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】めっき膜を形成するめっき方法を提供する。
【解決手段】基板上にレジストパターンを形成する工程、レジストパターン形成面に、下記一般式（１）で表わされる構造単位及び下記一般式（２）で表わされる構造単位を有する重合体を含有する表面改質層を形成する工程、レジストパターンの開口部にめっき膜を形成する工程を有するするめっき方法。


〔式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²は単結合又は２価の連結基、Ｒ³は水素原子、水酸基又はアルコキシ基、Ｒ⁴は水素原子又はメチル基、Ｒ⁵は極性基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】重合性液晶およびそれに類似する重合性液晶の塗布後の結晶析出抑制に効果がある、添加剤としての重合性液晶化合物の提供。
【解決手段】下記式で表される重合性液晶化合物（式中、Ｐは重合性官能基；Ｓｐは、スペーサーまたは単結合；Ｚ¹及びＺ²は、−ＣＯ−Ｏ−；Ｒ⁰は炭素原子数１〜１５の直鎖アルキル基；Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は互いに独立して炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜５のアシルオキシ基、炭素原子数２〜４のアシル基、炭素原子数２〜５のアミド基、シアノ基、アミノ基、水酸基又はハロゲン原子；ｒ₁、ｒ₂及びｒ₃は、０〜４のいずれかの整数を表し、ｒ₁、ｒ₂及びｒ₃がそれぞれ２以上であるときにＲ²、Ｒ³及びＲ⁴は、互いに同一であっても異なっていてもよい。但し、Ｒ⁰がメチル基のときｒ₂は１ではない。）。
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【課題】近赤外の波長領域における一層辺りの反射帯域幅が広く、実質的に無色な重合体の提供。
【解決手段】４２０ｎｍにおける透過率を５５０ｎｍにおける透過率から減じた値が１０％以下であり、実質的に無色であり、固定化されたコレステリック液晶相を有し、前記固定化されたコレステリック液晶相のピッチが、近赤外の波長領域において入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上となるように勾配を有する重合体。 （もっと読む）

【課題】繰り返してパターン形成しても、パターン形成性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）および非重合性化合物（Ｃ）を含有するインプリント用硬化性組成物であって、該インプリント用硬化性組成物に対する前記非重合性化合物（Ｃ）の溶解が発熱的であることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】長期に亘り繰り返し使用しても電気特性の劣化が抑制された電子写真感光体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物の重合体を含有する電荷輸送性層を備えた電子写真感光体〔一般式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性サブユニットを示し、Ｌはアルキレン基、−Ｃ＝Ｃ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、及びアルカン若しくはアルケンから誘導される３価又は価の４基からなる群より選択される２種以上を組み合わせてなる（ｎ＋１）価の連結基を示し、ｍは１以上６以下の整数を示し、ｎは２以上３以下の整数を示す。〕。
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【課題】比較的長波長の紫外光や可視光に対して高感度を有しつつ、低アウトガス性や光分解生成物を与えにくい性質を併せ持つ光硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ”）で示されるアントラキノン誘導体。


（Ａ_１〜Ａ_８のうちの一以上は、式（Ａ）の基であり、式（Ａ）の基以外のＡ_１〜Ａ_８は、水素原子またはメチル基である）


（Ｒ_１は水素原子またはメチル基であり、Ｙはフェニレン基、その誘導体、Ｃ１〜８のアルキレン基、その誘導体であり、Ｚは単結合、または二価の有機基である） （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ、ＤＯＦ、ＬＷＲ等のリソグラフィー性能に優れ、さらには現像欠陥を抑制することができるフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、［Ｂ］酸発生体、及び［Ｃ］界面活性剤を含有するフォトレジスト組成物である。また［Ｃ］界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤であることが好ましい。さらに［Ｃ］界面活性剤は、フッ素原子又はケイ素原子を含むノニオン系界面活性剤であることが好ましい。
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【課題】優れた耐スクラッチ性と高い屈折率とを両立できる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物を下記式（１）


（式中、Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂは非ラジカル重合性置換基、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂはアルキレン基、Ｒ^３ａおよびＲ^３ｂは水素原子又はメチル基、Ｒ^４ａおよびＲ^４ｂは非ラジカル重合性置換基、ｋ１およびｋ２は、それぞれ０〜４の整数、ｍ１およびｍ２はそれぞれ０以上の整数、ｎ１およびｎ２はそれぞれ１〜４の整数、ｐ１およびｐ２はそれぞれ０〜４の整数を示す。ただし、ｎ１＋ｐ１≦５、ｎ２＋ｐ２≦５である。）
において、ｍ１＋ｍ２の平均値を、８．５〜１７に調整した多官能性（メタ）アクリレートとフェノキシベンジル（メタ）アクリレートとで構成する。 （もっと読む）

【課題】光学特性に優れ、且つ、高温環境下でも極めて優れた形状保持性を有する硬化物を形成することができるウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明のウェハレベルレンズ用ラジカル硬化性組成物は、ラジカル硬化性化合物として下記ラジカル硬化性化合物（Ａ）を含有することを特徴とする。
ラジカル硬化性化合物（Ａ）：下記式（１）で表される化合物。式中、Ｒ¹は、単結合、水素原子の１個又は２個が炭素数１〜５のアルキル基で置換されていてもよいメチレン基、スルホニル基、硫黄原子、又は酸素原子を示し、Ｒ²、Ｒ³は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。Ｘ、Ｘ’は、同一又は異なって、硫黄原子又は酸素原子を示す。Ｒ、Ｒ’は、同一又は異なって、炭素数１〜５のアルキル基を示し、ｎ、ｎ’は、同一又は異なって、０又は１を示す。
【化１】
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【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造できるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】高い耐刷性を有し、且つ耐網絡み性の良好なネガ型感光性平版印刷版を与える。
【解決手段】支持体上に、側鎖に重合性二重結合基を有する繰り返し単位と側鎖にシラノール基を有する繰り返し単位を有する重合体、および光重合開始剤を含有する感光層を有するネガ型感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能をバランス良く向上できるゴム組成物、及び該ゴム組成物をタイヤの各部材（特に、トレッド）に用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン、スチレン及びアルコキシスチレンを共重合して得られ、一方の末端にアミノ基を有し、他方の末端に窒素、酸素及びケイ素からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含む官能基を有する重量平均分子量が１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体を含むゴム成分と、窒素吸着比表面積が１００ｍ^２／ｇ以下であるシリカ（１）と、窒素吸着比表面積が１８０ｍ^２／ｇ以上であるシリカ（２）とを含有し、上記ゴム成分１００質量部に対する上記シリカ（１）及び（２）の合計含有量が３０〜１５０質量部であることを特徴とするゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】 高解像性で良好な形状の孤立ラインパターンを形成することができ、且つ、ラフネス特性を含む他のレジスト性能にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 少なくとも１つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で表される基によって置換されている基を少なくとも１つ含む化合物（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（式中の各符号は、特許請求の範囲及び明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
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【課題】優れた形状でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す；環Ｗ^１は、置換基を有していてもよい炭素数３〜３４のスルトン環を表す。］ （もっと読む）