【課題】セルロース系バイオマスを原料とした加水分解性セルロースの製造の際に、セルロース系バイオマスを含む混合物に好適な粘性を付与すること等により、セルロース系バイオマスの分子レベルの分断を容易に行うことができ、その結果、加水分解性セルロースを効率的に製造することができるポリビニルアルコール系重合体、及びこのポリビニルアルコール系重合体を用いた加水分解性セルロースの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、セルロース系バイオマスを原料とした加水分解性セルロースの製造に用いられるポリビニルアルコール系重合体であって、末端に炭素数４以上５０以下のアルキル基を有するポリビニルアルコール系重合体である。 （もっと読む）

【課題】高感度であること、ＬＥＲが良好であること、露光ラチチュードが良好であること、及びパターン形状が良好であることを同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位（Ａ）と、下記一般式（Ｂ１）で表される繰り返し単位（Ｂ）と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｃ）とを有する樹脂を含有する（一般式（Ｂ１）中、Ｒ_３は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、又はシアノ基を表し；Ｙは、単結合又は２価の連結基を表し；Ｚは、単結合又は２価の連結基を表し；Ａｒは、芳香環基を表し；ｐは１以上の整数を表す。）。
【化１】
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【課題】優れた露光マージン（ＥＬ）を有するレジストパターンの提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、式（ＩＩ）で表される塩と、樹脂とを含有するレジスト組成物。




［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、フッ素原子等を表す。Ｘ^１及びＸ^２は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基等を表す。ｎは１又は２を表す。（Ｚ^１）^＋及び（Ｚ^２）^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環；Ｚ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｚ^２は、単結合又はカルボニル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高屈折性、高アッベ数、高耐熱性、高光線透過率、低吸水性を有する樹脂材料を提供すること。
【解決手段】脂肪族多環構造を有する繰り返し単位を含むポリマーであって、前記繰り返し単位内において主鎖を構成する原子から酸素１原子または硫黄１原子を介して前記脂肪族多環構造が結合しており、かつ、前記繰り返し単位がスルホニル基を環骨格の構成基として含む脂肪族環を有していることを特徴とするポリマー。 （もっと読む）

【課題】微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物を提供する。
【解決手段】露光によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、特定のスルホニウム塩を側鎖に有する構成単位を有する高分子化合物を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高い透明性および高い耐熱性を有する光学部品用材料を提供する。
【解決手段】５０〜１００質量％の下記一般式（Ｉ）


（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。Ｒ¹〜Ｒ³はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基および炭素数３〜２０のシクロアルキル基から選ばれる基を示す。Ａは、フェニル基、炭素数１〜２０のアルキレン基および炭素数３〜２０のシクロアルキレン基から選ばれる基を示す。ｎは０または１である。）で表されるアダマンチル基をエステル置換基とする（メタ）アクリル酸誘導体と０〜５０質量％の前記以外のアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルの１種以上を重合してなる重量平均分子量１００万以上の重合体を含む耐熱光学部品用材料。 （もっと読む）

【課題】孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。
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ａ）フッ素化メタクリレートの繰り返し単位が、付加した全モノマーの約４０重量％〜８０重量％の範囲で存在し、
ｂ）非フッ素化アルキルアクリレートの繰り返し単位が、付加した全モノマーの約１０重量％〜３５重量％の範囲で存在し、そして
ｃ）非フッ素化ヒドロキシアルキルメタクリレートの繰り返し単位が、付加した全モノマーの約５重量％〜２５重量％の範囲で存在し、そして
ｄ）すべての繰り返し単位の合計が１００重量％である
という条件で、
（１）少なくとも１つのフッ素化メタクリレート、および（２）少なくとも１つの非フッ素化アルキルアクリレートおよび（３）少なくとも１つの非フッ素化ヒドロキシアルキルメタクリレートからの繰り返し単位を任意の順番で含む溶剤型の非水性フッ素化メタクリレートポリマー。 （もっと読む）

本発明は、ポリウレタンマトリックスポリマー、書込モノマーおよび光開始剤を含んでなる感光性ポリマー組成物であって、書込モノマーが、式（Ｉ）［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は、それぞれ独立して、ハロゲン原子または有機基であり、これらの基の少なくとも１つは、放射線硬化性基を有する有機基である］で示される化合物を含んでなる組成物に関する。本発明は更に、ホログラフィック媒体を製造するための感光性ポリマー組成物の使用に関する。

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【課題】非極性分散媒中での沈降が少なく、かつ分散安定性に優れ、また非極性分散媒に電荷制御剤等の分散剤を用いることなく、電圧印加により単独で電気泳動する着色樹脂粒子を提供する。
【解決手段】架橋（メタ）アクリル酸エステル系樹脂からなる基材樹脂に、顔料を顔料分散剤の存在下で分散させて得られる粒子であり、前記粒子が０．９０〜１．０４ｇ／ｃｍ³の真密度を有することを特徴とする架橋（メタ）アクリル酸エステル系着色樹脂粒子により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】優れた電磁変換特性と走行耐久性とを兼ね備えた磁気記録媒体の作製可能な、ビニル系ポリマーからなる磁気記録媒体用結合剤を提供する。
【解決手段】一般式[１]で表される構造単位等を含むビニル系共重合体であることを特徴とする磁気記録媒体用結合剤。


[一般式[１]中、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ¹は単結合または２価の連結基を表し、Ｙは脂環式の環状基、炭素数８以上５０以下の炭化水素基または水酸基を表す。] （もっと読む）

【課題】欠陥なく均一な液晶層を形成できる液晶層形成用組成物を提供する。
【解決手段】液晶層形成用組成物に、１分子中に２つ以上の重合性官能基を有し且つ屈折率異方性が０．２０以上である液晶性化合物と、環状ケトン構造を有する溶媒と、環状エーテル構造を有する溶媒とを含ませる。 （もっと読む）

【課題】高い感度及び良好なラインエッジラフネスを示すフォトレジスト組成物を製造。
【解決手段】式（Ｉ−Ｐ）で表される塩。


［式（Ｉ−Ｐ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、独立して、Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、単結合又は置換基を有していてもよい飽和炭化水素基表す。該基に含まれる−CH₂−基は-O-又は-CO-基で置換されていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】水溶液による現像が可能で、且つ、めっき触媒又はその前駆体に対する吸着性に優れた被めっき層を形成し得る被めっき層形成用組成物を提供すること。また、基板との密着性に優れた金属パターンを、水溶液による現像を用いて簡易に形成しうる金属パターン材料の作製方法、及び、被めっき組成物に有用な新規ポリマーを提供する。
【解決手段】めっき触媒又はその前駆体と相互作用を形成する非解離性官能基、ラジカル重合性基、及びイオン性極性基を有するポリマーを含有する被めっき層形成用組成物、及び、これを用いた金属パターン材料の作製方法。 （もっと読む）

【課題】従来のオレフィン共重合体にはない優れた性質を示す非極性−極性オレフィン共重合体および該共重合体を温和な重合条件でかつ高い効率で得ることのできる製造方法を提供すること。
【解決手段】非極性−極性オレフィン共重合体は、非極性オレフィンと下記一般式（Ｉ）で表される極性オレフィンを共重合して得られる。


（式中、ｐは０〜３０の整数を示し、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁵は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基から選ばれ、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁵のうち１つ以上がハロゲン原子であるか、またはハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、ホウ素原子、イオウ原子、リン原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子を１つ以上含んだ基である。） （もっと読む）

【課題】低吸水率、高屈折率及び高柔軟性の硬化物を与えるとともに、硬化性に優れた放射線硬化型樹脂組成物、及び、光ファイバ用被覆組成物、並びに、これを用いた光ファイバ素線、及び、光ファイバ心線を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される化合物と
（Ｂ）ラジカル重合開始剤と
を含有することを特徴とする放射線硬化型樹脂組成物。


［一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子またはアルキル基を表し、Ｚ^１は２つの炭素原子及び硫黄原子と共に環構造を表す。］ （もっと読む）

重合性樹脂組成物、及びそのような重合性樹脂組成物の反応生成物を含むマイクロ構造が説明される。このマイクロ構造は、少なくとも１．５６の屈折率を有する有機部分を含む重合性樹脂組成物の反応生成物を含み、この重合性樹脂組成物は、重合性紫外線吸収化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】スピンコーティングやスプレーコーティングのような高速で高シェアのかかるようなコーティング剤の塗装を行う場合や、極性の高いコーティング剤の塗装を行う場合でも、極めて優れた表面調整効果を示し、さらに十分な塗装膜への上塗り適性をコーティング剤に持たせることができるコーティング剤用表面調整剤を提供する。
【解決手段】コーティング剤用表面調整剤は、フッ素含有(メタ)アクリレートモノマー(A)と、アルキル(メタ)アクリレートモノマー(B)と、モノ−又はポリ−オキシアルキレン基の片末端が不活性基で封鎖されたモノ−又はポリ−オキシアルキレニル(メタ)アクリレートモノマー(C)とが、夫々重量部の比で４０以上６０未満と０．１以上３未満と３１以上５９．９未満、又は６６以上８５未満と３以上２０未満と０．１以上３１未満として、共重合しており、その重量平均分子量を３０００〜５００００とする共重合物を、含有している。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のオキシムスルホネート構造を有する繰り返し単位及び酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有することを特徴とする電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）