【解決手段】酸不安定基で置換された（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び／又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位と、マグネシウム、銅、亜鉛又はセシウムの（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の塩の繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、ラインエッジラフネスが小さい特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なレジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）

【課題】優れた現像性を示し、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）色素多量体、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ｘ）色素骨格を含まない無機金属塩の染料固形分に対する含有量が０．１質量％以下である着色感放射線性組成物。 （もっと読む）

【解決手段】環状構造を含む３級エステル型酸不安定基及び／又はアセタール型酸不安定基を有する繰り返し単位を含み、酸によってアルカリ現像液に可溶になる高分子化合物と、酸発生剤及び／又は酸と、アミノ基を有する化合物を発生させる光塩基発生剤と、必要により添加され、酸発生剤より発生する酸を中和することによって不活性化させるクエンチャーと、有機溶剤とを含むレジスト材料を基板上に塗布、露光、ベーク、アルカリ水現像によってネガパターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、未露光部と過露光部がアルカリ現像液に不溶で、中間の露光量部分だけ現像液に溶解するデュアルトーンの特性を有することができる。 （もっと読む）

【課題】架橋ポリマーの製造方法およびそのように製造されたポリマーを提供する。
【解決手段】架橋ポリマーの製造方法およびそのように製造されたポリマーが提供され、該方法は、式−ＳＯ₂Ｘ（式中、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＯＨ、または−Ｏ^-Ｍ⁺であり、ここでＭ⁺は一価のカチオンである）に従う基を含有するペンダント基を含む高フッ素化フルオロポリマー、典型的にはペルフッ素化フルオロポリマーを提供するステップと、前記フルオロポリマーを電子ビーム放射線に曝露して、架橋の形成をもたらすステップとを含む。典型的には、本発明に従う方法は、前記フルオロポリマーを、典型的に９０ミクロン以下の厚さを有し、より典型的には６０ミクロン以下、そして最も典型的には３０ミクロン以下の厚さを有する膜に形成するステップを更に含む。 （もっと読む）

【課題】Ｎ−ビニルカルボン酸アミド水溶液の逆相懸濁重合において、乳化状態を発生させず安定な懸濁状態を保ちながら細粒化されたＮ−ビニルカルボン酸アミド重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】一般式ＣＨ_２＝ＣＨＮＨＣＯＲ（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表す。）で示されるＮ−ビニルカルボン酸アミド単量体単独、または共重合可能な他の単量体との混合物を逆相懸濁重合する方法において、炭化水素分散媒に対する界面活性剤の割合が１〜３重量％であり、予め炭化水素分散媒に懸濁させる水の比率が炭化水素分散媒に対する界面活性剤の重量％で表される特定の式を満たす条件とする。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー性能を改善させると同時に、高い後退接触角を示し、更に、保護膜を用いる液浸露光及び保護膜を用いない液浸露光の両用においてブロッブ欠陥の発生を抑えることが可能なレジスト組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が変化する高分子化合物（Ａ）、高エネルギー線に感応して下記一般式（１）で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤（Ｂ）、下記一般式（２）で示される高分子添加剤（Ｃ）とを含むことを特徴とするレジスト組成物。Ｒ^２００−ＣＦ_２ＳＯ_３Ｈ（１）
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【課題】レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ｒ^ｆは炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｑ^＋は有機カチオンである。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】ＥＵＶ用またはＥＢ用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（ａ０−０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する樹脂成分（Ａ）を含有し、露光により発生した酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するＥＵＶ用またはＥＢ用レジスト組成物。［化１］
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【課題】母粒子表面に樹脂微粒子を固着させてなる表示用粒子において、所望の組成を有する樹脂微粒子を短時間で製造する方法を提供する。
【解決手段】重合性モノマー及び架橋性モノマーを含む重合成分を重合させて樹脂微粒子を形成後、重合を停止させる樹脂微粒子作製工程を有し、得られる樹脂微粒子における重合成分由来の構成単位全体に対する架橋性モノマー由来の構成単位の割合が２０ｍｏｌ％以上であり、重合成分に占める架橋性モノマーの割合をＡ₁ｍｏｌ％、目標組成の樹脂微粒子における重合成分由来の構成単位全体に対する架橋性モノマーに由来する構成単位の割合をＡ₂ｍｏｌ％とすると、樹脂微粒子作製工程で不等式（１）を満たす間に重合を停止させる樹脂微粒子の製造方法。
（Ａ₁／Ａ₂）×７４−２７≦前記重合成分の重合転化率
≦（Ａ₁／Ａ₂）×９０−２０ （１） （もっと読む）

【課題】電子線又は極紫外線を用いたフォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に、高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足する化学増幅型レジスト組成物、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク、並びに、高分子化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２）で表される繰り返し単位及び下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅ポジ型レジスト組成物。
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【課題】耐刷性が高く、汚れ難く、現像性に優れるネガ型平版印刷版原版、並びにその製版方法を提供する。
【解決手段】支持体及び画像記録層をこの順に有する平版印刷版原版であって、支持体と画像記録層との間に、星型ポリマーを含有する層を有することを特徴とするネガ型平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】本発明は、水洗等の特別な作業を伴うことなく、繰返し使用に適した粘着性を示し、かつ特に皮膚に対する刺激の少ない粘着性ハイドロゲル用組成物とその用途（例えば、粘着性ハイドロゲル、ゲルシート及び電極パッド）を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、少なくとも、高分子マトリックス形成材と、水と、多価アルコールとからなる粘着性ハイドロゲル用組成物であって、前記高分子マトリックス形成材は、少なくとも、（ａ）（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸誘導体、クロトン酸及び／又はカルボキシル基を２つ有する炭素数が４〜５のビニル誘導体、（ｂ）（メタ）アクリルアミド及び／又は（メタ）アクリルアミド誘導体、（ｃ）Ｎ−ビニル−２−カプロラクタム、及び／又は、Ｎ−ビニル−２−バレロラクタム並びに（ｄ）架橋性単量体からなり、該粘着性ハイドロゲル組成物における前記（ｂ）の含有率が２〜２０重量％である。 （もっと読む）

【課題】長期の通電によっても電気抵抗値が変動し難い耐久性に優れた導電性部材を提供する。また、安定して高品位な電子写真画像を提供可能な電子写真装置およびプロセスカートリッジを提供する。
【解決手段】導電性の軸芯体と、導電層とを有している導電性部材であって、該導電層は、バインダー樹脂と該バインダー樹脂に分散されている導電性の樹脂粒子とを含み、該樹脂粒子は、ポリマー鎖中に水酸基およびカルボキシル基から選ばれる何れか一方または両方を有する樹脂を含み、かつ、該樹脂粒子の表面の該水酸基およびまたは該カルボキシル基の水素原子が、下記構造式（１）で示される基によって置換されていることを特徴とする。構造式（１）中、Ｒは、炭素数１〜４の２価の炭化水素基を示す。
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【課題】高解像性を有し、プロセス適応性に優れ、露光後のパターン形状が良好で、ラインエッジラフネスが小いポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される単量体。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、Ｒ²はＨ又は一価又は二価の炭化水素基、Ｒ³は特定の酸不安定基、Ａ¹は二価の炭化水素基、Ａ²は二価又は三価の炭化水素基、Ａ²とＲ²は互いに結合して隣接する窒素原子と共に環を形成してもよい。ｋ¹は０又は１。） （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する共重合体を提供する。
【解決手段】炭素数１〜４のフッ素化アルキル基及び水酸基で置換されたアルキル基を有する繰返し単位（ＨＯ−Ｃ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−）、炭素数１〜４のフッ素化アルキル基を有するスルホンアミド基を有する繰返し単位（Ｒ^３−ＳＯ_２−ＮＨ−）、およびカルボキシル基を有する繰返し単位から選ばれる少なくとも１つの繰返し単位（Ｉ）と、スルホ基を有する繰返し単位（ＩＩ）とを含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００である共重合体。 （もっと読む）

【課題】尿組成が変化しても優れた吸水特性を長時間維持する、吸水剤を提供する。
【解決手段】不飽和単量体を架橋重合した吸水性樹脂を主成分とする粒子状吸水剤であって、生理食塩水への無加圧下吸収倍率（ＣＲＣ）が３２ｇ／ｇ以上、質量平均粒子径（Ｄ５０）が２００〜４００μｍ、１５０μｍ未満の粒子が０〜２質量％、可溶分劣化増加量が０〜１５質量％、かつ劣化試験液での１時間可溶分が０．１〜３０質量％の吸水剤である。 （もっと読む）

【課題】燃料電池などの電解槽のポリマー膜の製造に有用なスルホン酸官能性ポリマーの提供。
【解決手段】１）式Ｉ：
Ｆ₂Ｃ＝ＣＦ−Ｒ¹−ＳＯ₂Ｘ（Ｉ）
［上式中、Ｒ¹は、１〜１５個の炭素原子と０〜４個の酸素原子とを含む分岐または非分岐のペルフルオロアルキル基、ペルフルオロアルコキシ基またはペルフルオロエーテル基であり、ＸはＦ、ＣｌまたはＢｒである］のフルオロモノマーを０．００１〜０．９モル当量の塩基と一緒に、添加された乳化剤の非存在下で混合することによって水性プレエマルションを形成する工程と、２）前記プレエマルションを１つ以上の過フッ素化コモノマーと、添加された乳化剤の非存在下で反応させて、１モル％より多いモノマー単位が前記式Ｉのフルオロモノマーから誘導されるフルオロポリマーを含むフルオロポリマーラテックスを形成する工程と、を含む、２つ以上のフルオロモノマーの水性乳化共重合のための方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】短工程で重合性光酸発生モノマーを製造する方法の提供。
【解決手段】式（Ｉ）のスルトンを、重合性基を有する求核試薬と反応させて得たカチオン塩を第２のカチオンと交換する。


（式中、各Ｒは独立してＦ、Ｃ_１−１０アルキル、フッ素置換Ｃ_１−１０アルキル、Ｃ_１−１０シクロアルキル、もしくはフッ素置換Ｃ_１−１０シクロアルキルであって、ただしＲの少なくとも１つはＦであり；ｎは０〜１０の整数であり、並びにｍは１〜４＋２ｎの整数である。） （もっと読む）

【課題】フォトレジストポリマーに重合可能な新規光酸発生剤化合物、およびこの重合性光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）を有する化合物：


式中、Ｑはハロゲン化されているかもしくはハロゲン化されていないＣ_２−３０オレフィン含有基であり、Ａはフッ素置換Ｃ_１−３０アルキレン基、フッ素置換Ｃ_３−３０シクロアルキレン基、フッ素置換Ｃ_６−３０アリーレン基、もしくはフッ素置換Ｃ_７−３０アルキレン−アリーレン基であり、Ｚはスルホナート、スルホンアミドもしくはスルホンイミドを含むアニオン性基であり、並びにＧ^＋は特定のカチオンである。 （もっと読む）