Fターム［4J100BA56］の内容
付加系（共）重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 構成元素 (28,779) | Ｓ含有基 (2,613) | 更にＯ原子を含有する基 (1,902) | −ＳＯ３Ｍ基、−Ｏ−ＳＯ３Ｍ基 (1,055)
Fターム［4J100BA56］に分類される特許
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スルホン酸基含有共重合体およびその製造方法
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高炉スラグコンクリート用混和剤及び高炉スラグコンクリートの調製方法
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物
吸脱湿剤、デシカント空調用吸脱湿剤組成物、成形体およびデシカント空調システム
水溶性重合体及びその製造方法
ネガ型パターン形成方法及びネガ型レジスト組成物
セメント混和剤用共重合体の製造方法
ＥＵＶ用又はＥＢ用レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
ポジ型感光性組成物
ＥＵＶ用またはＥＢ用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
高分子化合物の製造方法、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
パターン形成方法及びレジスト組成物
ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
ＡｒＦ液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス、並びに、樹脂の製造方法
レジスト保護膜材料及びパターン形成方法
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
パターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
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