【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカとを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が９０質量％以下であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜４０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、メルカプト基を有するシランカップリング剤とを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が９０質量％以下であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜４０質量部であり、上記シリカ１００質量部に対して、上記シランカップリング剤の含有量が１〜２０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】生体及び環境へのリスクが低く、各種基材に対して良好な撥水撥油性を示す、離型性、透明性、密着性、耐熱性に優れる硬化膜を形成する硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）（１）下記式
【化１４】


（ＲはＨ又はメチル基、ｎは１〜６、ａは１〜４、ｂは０〜３、ｃは１〜３の整数。）
で表されるポリフルオロアルキルビニル単量体：５０〜９９．５質量％、
（２）分子中に１個以上のケイ素原子に結合した加水分解可能な基を含有する有機ケイ素系ビニル単量体、ヒドロキシル基含有ビニル単量体及びカルボキシル基含有ビニル単量体から選ばれるビニル単量体：０．５〜５０質量％、
（３）（１）、（２）成分と共重合可能で、かつ（１）、（２）成分を含まない非ケイ素系又は有機ケイ素系ビニル単量体：０〜４９質量％
からなる単量体混合物の共重合体、及び
（Ｂ）アルミキレート
を有効成分としてなる硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】電子線あるいは極紫外線（ＥＵＶ光）を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、優れたパターン形状、高解像性（高い限界解像性など）、高ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）電子線又は極紫外線の照射により酸を発生する化合物と、（Ｃ）フッ素原子、フッ素原子を有する基、珪素原子を有する基、炭素数が６以上のアルキル基、炭素数が６以上のシクロアルキル基、炭素数が９以上のアリール基、炭素数が１０以上のアラルキル基、少なくとも１個の炭素数３以上のアルキル基で置換された芳香環基、及び、少なくとも１個の炭素数５以上のシクロアルキル基で置換された芳香環基からなる群より選択される１つ以上の基を有する樹脂と、（Ｄ）溶剤とを含有する感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程（１）、該膜を電子線又は極紫外線を用いて露光する工程（２）、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像して、ネガ型のパターンを形成する工程（４）をこの順番で有するパターン形成方法、これに供される感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、これを用いて形成されたレジスト膜。また、上記パターン形成方法を用いた、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】従来よりも低粘度の星型共重合体の合成が可能なリビングラジカル重合開始剤を提供する。
【解決手段】ハロゲン原子を末端に有する分岐鎖を１分子中に少なくとも３本有するリビングラジカル重合開始剤であって、前記ハロゲン原子のうち最も近接する２個のハロゲン原子間の結合中に少なくとも１個のベンゼン環を有し、かつ前記ハロゲン原子間において結合する原子の最小数が９〜３０個であり、該９〜３０個の原子のうちの前記ベンゼン環に結合する２つ原子が該ベンゼン環のメタ位又はパラ位において結合しているリビングラジカル重合開始剤である。 （もっと読む）

【課題】架橋反応を抑制しつつ、ポリマーが有する−ＳＯ_２Ｆ基を、イオン交換基を複数有するペンダント基に簡便に変換して、イオン交換容量が高く、含水率が低いイオン性ポリマーを得る。
【解決手段】ポリマーが有する−ＳＯ_２Ｆ基を−ＳＯ_２ＮＺ^１Ｚ^２基（Ｚ^１およびＺ^２はそれぞれ独立に水素原子、１価の金属元素、およびトリメチルシリル基からなる群から選ばれる基）に変換する工程（Ａ）と、前記工程（Ａ）で得られたポリマーにＦＳＯ_２（ＣＦ_２）_２ＳＯ_２Ｆを反応させる工程（Ｂ）と、工程（Ｂ）で得られたポリマーの側鎖の末端−ＳＯ_２Ｆ基を、−ＳＯ_３Ｈ基等のイオン交換基に変換する工程を有するイオン性ポリマーの製造方法。また、該製造方法により得られるイオン性ポリマー。 （もっと読む）

【課題】高変性率の変性共役ジエン系重合体を得ることができる製造方法を提供すること。
【解決手段】ランタン系列金属化合物を開始剤に用いて、共役ジエン系単量体を重合させて共役ジエン系重合体を得る工程と、前記共役ジエン系重合体と、シリル基に結合したアルコキシ基と、エステル基とをそれぞれ少なくとも１個有するアミノ基含有化合物とを反応させる工程と、を有する変性共役ジエン系重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】α−シアノアクリレート系組成物に求められる湿気による速硬化性やその他の諸物性はそのままに、紫外線などの活性エネルギー線の照射により速やかに硬化可能な、湿気でも活性エネルギー線の照射によっても速やかに重合し、さらに組成物が透明性を有し、貯蔵安定性に優れる光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記の（Ａ）〜（Ｂ）成分を含有することを特徴とする光硬化性組成物。（Ａ）α−シアノアクリレート（Ｂ）下記一般式（１）で表されるアニオンを有する塩
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【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】炭化水素を溶媒とし、少なくとも１種の単量体成分を含有する溶液に、重合開始剤成分として下記化合物（Ｉ）及び（ＩＩ）を化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）の順に添加して、共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させる共役ジエン系重合体の製造方法。
（Ｉ）有機アルカリ金属化合物
（ＩＩ）下記式（１）で表される化合物


（式中、Ｒ¹¹はケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群より選択される少なくとも一種の原子をヘテロ原子として有していてもよい炭素原子数３〜２０のヒドロカルビレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性及び操縦安定性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分と、窒素吸着比表面積が１００ｍ^２／ｇ以下であるシリカ（１）と、窒素吸着比表面積が１８０ｍ^２／ｇ以上であるシリカ（２）とを含有し、上記ゴム成分１００質量％のうち、共役ジエンに基づく構成単位と珪素原子がアミノ基で置換された基を有するビニルシランに基づく構成単位とを有し、下式（ＩＩ）で表される化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が５質量％以上であり、上記ゴム成分１００質量部に対する上記シリカ（１）及び（２）の合計含有量が３０〜１５０質量部であるゴム組成物。
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【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性、操縦安定性及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分、シリカ及び下式（１）で表される化合物を含有し、上記ゴム成分１００質量％のうち、共役ジエンに基づく構成単位と不飽和基含有珪素化合物で表される構成単位とを有し、アクリル誘導体化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が５質量％以上であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜１５０質量部、下式（１）で表される化合物の含有量が０．１〜１０質量部であるゴム組成物に関する。
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【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分と、シリカと、ガラス転移温度−４０〜−１０℃の、水酸基を有するジエン系ゴムゲルとを含有し、上記ゴム成分１００質量％のうち、共役ジエンに基づく構成単位と不飽和基含有珪素化合物で表される構成単位とを有し、下式（ＩＩ）で表される基を有する化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が５質量％以上であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜１５０質量部、上記ジエン系ゴムゲルの含有量が１０〜３０質量部であるゴム組成物に関する。
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【課題】タイヤトレッド等の用途に用いられ、低燃費性能を高めることができる架橋ゴムの原料として用いうる共役ジエン系ゴムの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）共役ジエン系化合物、又は共役ジエン系化合物と芳香族ビニル化合物を重合して得られるアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属活性末端を有する共役ジエン系重合体と、下記一般式（１）で表される構造を有するポリシロキサン基及びオニウムになり得る基を有するヒドロカルビルオキシシラン化合物を反応させて、変性共役ジエン系重合体を得る工程、を含む変性共役ジエン系ゴムの製造方法。


（上記一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立に一価の炭素数１〜３０の炭化水素基である。ｎは２〜１０００の整数である。） （もっと読む）

【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記化合物（Ｉ）及び（ＩＩ）を重合開始剤成分として用いて、共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させる共役ジエン系重合体の製造方法。
（Ｉ）有機アルカリ金属化合物
（ＩＩ）下記式（１）で表される化合物


（式中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は置換基を有してもよい炭素原子数１〜２０のヒドロカルビル基を表す。） （もっと読む）

【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる共重合体を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン、及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を共重合して得られ、少なくとも一方の末端が窒素、酸素及びケイ素からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含む官能基を有する変性剤で変性され、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体に関する（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、アミノ基又は炭化水素基を表し、そのうち少なくとも１つはアミノ基）。
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【課題】鋳型を必要とせず、微細パターンの形成を３次元的に行うことを可能とする光応答性高分子を提供する。
【解決手段】本発明に係る光応答性高分子は、光の照射を受けて架橋構造を形成する光応答性基を含む高分子であって、光の光線量に応じた割合の光応答性基が架橋構造を形成することにより、上記光の光線量に応じた量の体積が減少するものである。上記光応答基は、光の照射を受けて互いに二量化する二量化基であることが好ましく、上記二量化基としては、シンナモイル基、クマリン基、チミン基、キノン基、マレイミド基、カルコン基およびウラシル基などが例示される。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｘ、ＹはＣＨ又は窒素原子、ｍは１又は２、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０又は１である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】遮光性が高く、耐薬品性、耐磨耗性および基板との密着性に優れ、さらに微細着色パターン欠陥修復にも適合する硬化膜を形成しうる、低温焼成可能な新規組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表されるラジカル重合性モノマー（ａ１）および該モノマー（ａ１）以外のラジカル重合性モノマー（ａ２）を重合して得られる共重合体（Ａ）と、顔料（Ｂ）と、不飽和カルボン酸から導かれる構成単位および不飽和カルボン酸無水物から導かれる構成単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構成単位を有する重合体（Ｃ）とを含有する熱硬化性着色組成物。
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【課題】ブリッジ前寸法等の解像力、ＤＯＦに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用により分解してアミド基又はチオアミド基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）