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付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 置換基2−ハロゲン− (4,550)

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【課題】ブタジエン系重合体ゴムにシリカ及びヒドラジド化合物を配合した、耐摩耗性、低燃費性、及びウェットグリップ性に優れたゴム組成物、及びそれを用いたタイヤを提供すること。
【解決手段】本発明のゴム組成物は、ゴム成分として、(A)質量平均分子量が0.6〜170万である溶液重合した変性ブタジエン重合体及び/又は変性スチレン−ブタジエン共重合体からなる変性ブタジエン系重合体ゴムを10質量%以上含み、補強充填剤として、(B)100〜350m/gのBET比表面積で、表面の含水率が0.50〜5.00質量%のシリカをゴム成分100質量部に対して80〜250質量部含み、また、(C)ヒドラジド化合物をゴム成分100質量部に対して0.2〜4質量部を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】残膜率が優れたパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含み、樹脂がナフタレン骨格を有する化合物に由来する構造単位を樹脂の全構造単位100モルに対して、50モル以上有する樹脂であるレジスト組成物。ナフタレン骨格を有する化合物に由来する構造単位は、式(I)で表される構造単位であることが好ましい。[式(I)中、Rは、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Aは、単結合、−CO−O−又は−CO−O−(CH2ka−CO−O−を表し、kaは1〜7の整数を表し、*はナフチル基との結合手を表す。]
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【課題】現像欠陥の発生を好適に抑制可能なレジスト被膜を形成することができる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式(1)で表される基を有するフッ素含有化合物[A]と、感放射線性酸発生体[B]と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


(式(1)中、Rは、置換されていてもよい(p+1)価の芳香族環式基であり、Qは、1価の親水基から水素原子1つを除いた連結基であり、Rは、水素原子、又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数1〜10の炭化水素基である。pは、1〜5の整数である。但し、pが2〜5の場合、複数のQ及びRはそれぞれ独立して上記定義を有する。「*」は結合手を示す。) (もっと読む)


【課題】パターン転写性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】インプリント用硬化性組成物において、(A)重合性単量体および(B)重合開始剤を含有し、かつ、前記(A)重合性単量体の少なくとも1種を繰り返し単位として含むポリマーを実質的に含有しないことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、フォーカス余裕度(DOF)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 感活性光線または感放射線樹脂組成物を基板上に塗布して膜を形成する工程、マスクを介して該膜を選択的に露光する工程、及び有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であり、該感活性光線または感放射線樹脂組成物が、(A)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射によりフッ素原子を含有する酸を発生する光酸発生剤、および(C)溶剤を含有してなり、光酸発生剤(B)の含有率が、該組成物の全固形分を基準として8〜20質量%であるパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、撥水撥油組成物を提供することを課題とする
【解決手段】下記一般式(1)で表される含フッ素オリゴマー及び有機溶剤を含むPTFE微粒子の分散剤。
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【課題】鋭敏な温度応答性を保持したまま多くの官能基を導入された高分子、あるいはハイドロゲルを調製するためのモノマーおよびその重合体あるいはハイドロゲルを提供する。
【解決手段】下式一般式(I)


(式中、Xはアミノ基、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシル基、−COOR4)で表されるアクリルアミド誘導体を用いて、重合体または共重合体を製造する。 (もっと読む)


【課題】硬化性樹脂膜組成物を提供する。
【解決手段】式(4A)の含フッ素モノマーと式(4B)のエステル系モノマーとを反応させて得た共重合体に式(5)のイソシアネート基を有する反応性化合物を反応させることにより得られる、反応性含フッ素オリゴマーを含む硬化性樹脂組成物。CH=CR−COOーRーOーRf(4A)CH=CR−COOーR−OH(4B)


式中、R1〜3は官能基を有しても良い長鎖の二価飽和脂肪族基、R4〜6はH又はメチル基、Rfは式(2)
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【課題】配向性、耐熱性、成形加工性に優れた架橋性液晶フィルムの作成に必要である新規なオキセタン誘導体とそれを用いて得られる架橋可能な液晶性高分子を提供する。
【解決手段】
式(1)で表される化合物。


但し、式(1)中、Rは水素またはメチル基を表し、R2は水素、メチル基またはエチル基を表し、LおよびLはそれぞれ個別に単結合、−O−、−O−CO−または−CO−O−のいずれかを表し、Mは式(2)、式(3)または式(4)を表し、nは同一でも異なってもよくそれぞれ0〜10の整数を示す。
−P−L−P−L−P− (2)
−P−L−P− (3)
−P− (4)
(上記P〜Pはフェニレン基その他の基から選ばれる基を表し、LおよびLはそれぞれ個別に単結合、−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−O−CO−または−CO−O−を表す。) (もっと読む)


【課題】化学増幅型レジストなどの機能性樹脂組成物およびその原料であるアダマンタン誘導体を提供する。
【解決手段】


(式中R1〜Rはアルキル基等、Xは水素原子等、Y〜Yはメタクリロイル基等) (もっと読む)


【課題】配向性、耐熱性、成形加工性に優れた液晶フィルムが得られる新規な液晶性化合物を提供する。
【解決手段】式(1)で表される化合物。


(式(1)中、Rは水素またはメチル基を表し、LおよびLはそれぞれ個別に単結合、−O−、−O−CO−または−CO−O−のいずれかを表し、Mは式(2)、式(3)または式(4)を表し、nはそれぞれ0〜10の整数を示す。また、Mは式(7)から選ばれる基を表す。)
−P−L−P−L−P− (2)
−P−L−P− (3)
−P− (4)
(式(2)、式(3)および式(4)中、PおよびPはそれぞれ個別に式(5)から選ばれる基を表し、Pは式(6)から選ばれる基を表し、LおよびLはそれぞれ個別に単結合、−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−O−CO−または−CO−O−を表す。) (もっと読む)


本発明のマーブルチップは、バインダーと反応性モノマーとを含む樹脂組成物を硬化させて形成され、前記バインダーはハロゲン化アルコキシル化ジアクリレートオリゴマー(halogenated alkoxylated diacrylate oligomers)を含むことを特徴とする。本発明のマーブルチップは、硬化時間や成形時間に関わらず均一なパターンを現わすことができるので、これを用いた人造大理石はエンジニアードストーンと同一の外見と質感を有し、アクリル系人造大理石の長所である熱成形性、加工性を有すことができる。
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【課題】ノルボルネン系重合体を生産性高く製造する方法および該方法における触媒として好適に用いられる新規なパラジウム錯体を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で示される少なくとも一種の金属化合物成分(A)を触媒として使用するノルボルネン系重合体の製造方法および下記式(IV)で表される化合物。


(上記一般式(I)において、Xは置換基を有さない炭素数1〜20のアルキル基、Rは各々独立に炭素数3〜8の2級アルキル基もしくは炭素数4〜8のシクロアルキル基であり、Xは水素原子、置換基を有してもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数6〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン、アセトキシ基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、ニトロ基、カルボニル、トリフルオロメタンスルホニル基、またはトリフルオロアセトキシ基を表し、Mは周期律表第10族の元素を表す。) (もっと読む)


架橋可能成形組成物は、(1)(i)2以上のイソシアナート官能性を有するイソシアナート成分と、(ii)イソシアナート成分のイソシアナート基と反応する少なくとも1つの官能基及び少なくとも2つのエチレン性不飽和基を有するエチレン性不飽和成分との反応生成物である、少なくとも6つのエチレン性不飽和基を有する官能化イソシアナート生成物;及び(2)少なくとも2つのエチレン性不飽和基を有する架橋性単量体を含む単量体成分を含み、エチレン性不飽和成分(ii)及び/又は単量体成分(2)の少なくとも1つが、少なくとも3つのエチレン性不飽和基を有するように選択される。この成形組成物は、特に強化及び熱硬化に適している。該成形組成物から導かれた架橋樹脂例が、多くの場合260℃超えの高い熱変形温度を達成できることが示される。 (もっと読む)


【課題】紫外線吸収性ポリマーを含む組成物を提供すること。
【解決手段】紫外線吸収性部分を含む第1の側基と、少なくとも1つのシロキサン結合および/または中程度の長さの炭素鎖を含む第2の側基とを有する紫外線吸収性ポリマーが、開示されている。この紫外線吸収性ポリマーを包含するパーソナルケア組成物が、提供されている。 (もっと読む)


【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、特定構造で表される構成単位(a0)と他の特定構造で表される構成単位(a1)とを有する高分子化合物(A1)を含有し、前記高分子化合物(A1)を構成する全構成単位に対し、前記構成単位(a0)の割合は、5〜50モル%であり、前記構成単位(a1)の割合は10モル%より大きく、前記構成単位(a0)および(a1)の割合の合計は90モル%以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】 輸送コストや環境負荷の小さいイオン性の水溶性高分子とその製造法を提供することであり、凝集剤用途さらに詳しくは汚泥の脱水処理用途、製紙スラッジの脱水処理用途と製紙原料に添加して抄紙する方法に対して優れた機能を発揮するカチオン性の水溶性高分子を提供する。
【解決手段】 分散剤および疎水性分散媒を含有する連続相と、カチオン性単量体および複数の不飽和二重結合を有する多官能性単量体を必須として含有する分散相とからなる分散体を逆相懸濁重合させた後、得られる重合体を乾燥したイオン性高分子であって、特定のイオン性を発現する粉末からなるイオン性水溶性高分子を提供することで本課題を解決できる。 (もっと読む)


【課題】 輸送コストや環境負荷の小さいイオン性の水溶性高分子とその製造法を提供することであり、凝集剤用途さらに詳しくは汚泥の脱水処理用途、製紙スラッジの脱水処理用途と製紙原料に添加して抄紙する方法に対して優れた機能を発揮するイオン性の水溶性高分子を提供する。
【解決手段】 界面活性剤により水に非混和性有機液体を連続相、カチオン性単量体および複数の不飽和二重結合を有する多官能性単量体を必須として含む単量体混合物水溶液を分散相となるよう乳化し重合した後、得られる油中水滴型エマルジョン状液体を、乾燥工程を経ることによって造粒し製造したイオン性水溶性高分子であって、特定のイオン性を発現する粉末からなるイオン性水溶性高分子を提供することで本課題を解決できる。 (もっと読む)


【課題】新規のジエン重合体を提供する。
【解決手段】重合体は、下記式(1)で表される繰り返し単位を有する。
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【課題】フルオレン骨格を有していても、ハンドリング性に優れた新規なフルオレン骨格含有二官能性(メタ)アクリレートを提供する。
【解決手段】前記(メタ)アクリレートを、下記式で表される化合物とする。


(式中、Rはシアノ基、ハロゲン原子又はアルキル基を示し、Rは分岐アルキレン基を示し、Rは水素原子又はメチル基を示し、Rはアリール基などの炭化水素環基を示し、kは0〜4の整数、mは1以上の整数である。) (もっと読む)


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