説明

Fターム[4J100BC01]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) |  (19,108) | 飽和脂環 (7,963)

Fターム[4J100BC01]の下位に属するFターム

Fターム[4J100BC01]に分類される特許

21 - 40 / 41


【課題】負の光学的分散を有する複屈折ポリマーフィルムを提供する。
【解決手段】本発明は、負の光学的分散を有するポリマーフィルム、それを調製するための新規な重合性化合物および液晶(LC)材料、および光学的、電気光学的、電子的、半導体性または発光性部品または装置におけるポリマーフィルムおよび新規な化合物および材料の使用に関する。 (もっと読む)


【課題】 偏光子フィルムとの接着性が改善され、優れた光学特性、低透湿性を備えた偏光子保護フィルムを提供する
【解決手段】 (メタ)アクリル酸エステルまたは(メタ)アクリル酸構成成分およびグルタルイミド単位を含有することを特徴とする熱可塑性樹脂からなる偏光子保護フィルムであり、偏光子フィルムと対向する側の面上に易接着層を有する偏光子保護フィルムを提供した。これにより、偏光子フィルムとの接着性が大幅に改善され、光学特性や耐久性に優れた偏光板を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】耐候性を向上させることができるのみならず、耐温水白化性、耐ブロッキング性及び耐汚染性を大きく向上させ、自動車、建築建材等の塗料として好適に用いられる水性樹脂組成物、水性塗料用組成物、及び、水性樹脂組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】オキサゾリン基含有単量体(a)、反応性基含有単量体(b)及び反応性乳化剤(c)を必須とする単量体成分を重合して得られる重合体(A1)を含水性樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】 オフセットインキで印刷される紙、特にオフセット用新聞印刷用紙のオフセット印刷適性を向上させることができるとともにネッパリを防止し、発泡が少ない表面サイズ剤の提供と、表面サイズ剤を含有する表面処理剤を塗工することによって得られるオフセット印刷適性に優れ、ネッパリの問題がないオフセット印刷用紙の提供。
【解決手段】 アミン類[C]の存在下で、疎水性モノマー[A]と3級アミノ基を有するモノマー[B]を重合後、4級化剤を反応させることを特徴とする表面サイズ剤であり、好ましくは、アミン類[C]の使用量が疎水性モノマー[A]と3級のアミノ基を有するモノマー[B]の総使用量に対して0.1〜5重量%である。その表面サイズ剤を含有する表面処理剤を原紙に塗工することを特徴とする表面サイジング方法及びその表面サイジング方法によって得られる紙。 (もっと読む)


【課題】優れたMEFを達成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、鎖状の第3級アルキルエステル型酸解離性溶解抑制基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)を有する樹脂(A1)と、環状の第3級アルキルエステル型酸解離性溶解抑制基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1’)を有し且つ前記構成単位(a1)を有さない樹脂(A2)とを含有し、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(I)[Rは、炭素数3のアルキル基または炭素数3のフッ素化アルキル基。]で表されるアニオンを有するオニウム塩(B1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
[化1]
(もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、超微細化工が可能なフォトレジスト樹脂組成物を達成するために、分子量が均一な樹脂とすべく、重合温度を効果的に制御する方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となるモノマー(Am)と極性基を有する脂環式骨格を含むモノマー(Bm)を少なくとも含むモノマー溶液を重合開始剤溶液とともに重合温度に昇温された溶媒中に添加し重合してフォトレジスト用樹脂を製造する方法において、重合の温度を制御する熱媒が水であり、その熱媒系に直接加圧蒸気および冷水を制御弁を介して導入することによって重合温度を制御することを特徴とするフォトレジスト用樹脂の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】衣料などの汚れを効率よく除去できかつ再汚染防止能に優れる洗剤に有用な(メタ)アクリル酸系共重合体を提供する。
【解決手段】30質量%以上95質量%未満の下記式(1):


5質量%以上70質量%未満の下記式(2):


0質量%を超えて50質量%以下の下記式(3):


および/またはビニル芳香族系単量体とを必須構成単位とする(メタ)アクリル酸系共重合体。 (もっと読む)


【課題】耐汚染性に優れた塗料、およびその原料として有用な共重合体を提供する
【解決手段】下記式(1)で表されるα−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸エステル〔式中、R1は、炭素数が1〜20の炭化水素基を表し、R2は、水素原子または炭素数が1〜20の炭化水素基を表す。〕およびアクリル酸エステルから構成される共重合体、および該共重合体を含む塗料。
(もっと読む)


a)以下を含む正味の正電荷を有する合成ランダムコポリマーと、
i.)下式の非イオン性モノマー単位:
【化1】


(式中、RはH又はC1〜4アルキルであり;R1及びR2は、独立して、H、C1〜4アルキル、CH2OCH3、CH2OCH2CH(CH32、及びフェニルから成る群から選択されるか、あるいは、共にC3〜6シクロアルキルである)、及び
ii.)下式の2以上の正電荷を持つカチオン性モノマー単位:
【化2】


(式中、k=1であり、v、v'、及びv"は、それぞれ独立して、1〜6の整数であり、wは0又は1〜10の整数であり、X-はアニオンである)
b)洗浄性界面活性剤と、
c)水性キャリアを含むパーソナルケア組成物。
(もっと読む)


【課題】分岐型オレフィン重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】(A)遷移金属化合物を含むオレフィン重合触媒の存在下で、
エチレンおよび炭素数3以上のα-オレフィンから選ばれる少なくとも1種のモノマー、並びに下記一般式[I]で表されるα, ω-ジエンを重合することを特徴とするオレフィン重合体の製造方法。


〔一般式[I]中、RおよびRは、水素原子または炭素数1〜30の炭化水素基をあらわし、nは0または1〜10の整数である。nが2以上の整数である場合は各繰り返し単位のR同士またはR’ 同士は相互に同一でも異なっていてもよい。Qは炭素数1〜50の炭化水素基である。〕 (もっと読む)


【課題】感度、解像度に優れ、パターンのラインエッジラフネスが小さく、更にはパターン形状を良好に維持することが可能なレジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)アルキル置換ノルボルナンラクトン環を含有する酸解離性基含有共重合体と、(B)スルホン酸エステル型の酸増殖剤と、(C)酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 レジスト用溶剤に極めて溶解しやすいフォトレジスト用高分子化合物を簡易な手段で効率よく製造する。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物の製造方法は、酸によりアルカリ可溶性となる基を有する単量体と極性基含有脂環式骨格を含む基を有する単量体とを少なくとも含む単量体混合物を滴下重合法により重合してフォトレジスト用高分子化合物を製造する方法であって、重合系に滴下すべき溶液を重合容器の器壁に伝わらせることなく直接重合系に導入することを特徴とする。この製造方法において、重合系に滴下すべき溶液の供給ラインの先端に重合系液面に向かって延びるノズルを設け、重合系に滴下すべき溶液を該ノズルを通して、重合容器の器壁に伝わらせることなく直接重合系に導入してもよい。 (もっと読む)


【課題】 偏光子フィルムとの接着性が改善され、優れた光学特性、低透湿性を備えた偏光子保護フィルムを提供する
【解決手段】 (メタ)アクリル酸エステルまたは(メタ)アクリル酸構成成分およびグルタルイミド単位、芳香族ビニル単位を含有することを特徴とする熱可塑性樹脂からなる偏光子保護フィルムであり、偏光子フィルムと対向する側の面上に易接着層を有する偏光子保護フィルムを提供した。これにより、偏光子フィルムとの接着性が大幅に改善され、光学特性や耐久性に優れた偏光板を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】 アルカリ現像液に対する溶解性を向上できるネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂成分、(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分、および(C)架橋剤成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記(A)アルカリ可溶性樹脂成分が、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を1つ有する脂肪族環式基を含有する構成単位(a1)と、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を2つ以上有する脂肪族環式基を含有する構成単位(a2)とを含む高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 (もっと読む)


本発明は、(メタ)アクリル酸又はその塩、カルボキシレート含有モノマー、及び/又はリン酸及び/又はホスホン酸又はこれらの塩を含むモノマー、及び必要により他の成分より合成された共重合体(成分A)を含む表面処理用組成物、成分Aを含む金属表面上の不動態層、この不動態層の形成方法、そして本発明の組成物を金属表面の不動態化のために使用する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】 現像液に良く解け、液浸流体に対する耐性を有し、フォトレジストと適合し、TARCとしても用いることのできる、フォトレジスト材料の上面に塗布するためのトップコート材料を提供すること。
【解決手段】 トップコート材料は、少なくとも1つの溶媒と、アルカリ性水溶液現像液に対して少なくとも3000Å/秒の溶解速度を有するポリマーとを含む。このポリマーは、次の2つの構造、
【化1】


のうちの1つを含むヘキサフルオロアルコールのモノマー・ユニットを含み、ここで、nは整数である。トップコート材料は、それがフォトレジスト層上に塗布されるリソグラフィ・プロセスに用いることができる。トップコート材料は、好ましくは水に不溶性であり、そのため画像形成媒体として水を用いる液浸リソグラフィ法に特に有用である。 (もっと読む)


【課題】 優れた撥水撥油性、防汚性および離型性を与える含フッ素重合体を提供する。
【解決手段】 炭素数1〜6のフルオロアルキル基を有し、α位の水素原子が置換されている含フッ素アクリレートを含んでなる単量体を高圧流体中で重合することからなる含フッ素重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】フォトレジスト用樹脂組成物の樹脂成分として用いた場合、半導体製造工程の製膜に良好な品質を備えたフォトレジスト用高分子化合物の製造法を提供する。
【解決手段】酸により脱離してアルカリ可溶となる基を有するモノマーAと、極性基含有脂環式骨格を有するモノマーBとを少なくとも含むモノマーおよび重合開始剤を溶媒に溶解して、重合温度に昇温された溶媒中に滴下しながら重合させ、重合溶液を貧溶媒(沈殿溶媒)に添加して、ポリマーを沈殿させ、沈殿を遠心分離機により遠心分離で、溶媒を除去後、湿結晶をグリコール系溶媒に溶解し、減圧蒸留にて濃縮してフォトレジスト高分子化合物の溶液を製造する方法において、遠心分離での遠心力が400〜700G(G;重力加速度)で脱液をすることを特徴とするフォトレジスト用高分子化合物の製造法。 (もっと読む)


【課題】 電気特性に優れ、かつ回路基板の樹脂層とした場合に基材との密着性が良く、またレーザーにより微細なビアホールを形成することが可能な樹脂組成物を提供する。また、電気特性に優れ、かつ基材との密着性に優れ、かつレーザーにより微細なビアホールを形成することが可能な樹脂層およびそれを用いた樹脂層付きキャリア材料ならびに回路基板を提供する。
【解決手段】 レーザー照射によりビアホールを形成する回路基板の絶縁層を構成する樹脂組成物であって、環状オレフィン系樹脂とポリイミド樹脂とで構成されるポリマーアロイを含むことを特徴とする樹脂組成物により達成される。前記樹脂組成物は、さらに無機充填材を含むものである。前記樹脂組成物で構成されていることを特徴とする樹脂層3。前記樹脂層3が、キャリア材料2の少なくとも片面に形成されていることを特徴とする樹脂層付きキャリア材料1。前記樹脂層を有することを特徴とする回路基板。 (もっと読む)


【課題】 DUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、レジスト組成物としたときの保存安定性に優れたレジスト用重合体を製造する方法、この方法で得られたレジスト用重合体を含むレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。
【解決手段】 下記式(1)
【化1】


で表され、かつ、基Aのメチル基の水素原子の少なくとも1つが0.150以上の部分電荷を持つ構成単位(A1)を含有するレジスト用重合体の製造方法であって、溶液重合法により生成した重合体溶液を、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、ニトロ化合物、ニトリル、エーテル、ケトン、エステル、カーボネートから選ばれる少なくとも1種以上の有機溶媒中に添加することにより沈殿又は再沈殿して得られることを特徴とする。 (もっと読む)


21 - 40 / 41