説明

Fターム[4J100BC02]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) |  (19,108) | 飽和脂環 (7,963) | 単環のもの (3,883)

Fターム[4J100BC02]の下位に属するFターム

Fターム[4J100BC02]に分類される特許

61 - 80 / 426


【課題】解像性および耐久性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)、(B)、(C)、(D)、(E)および(F)を含む着色感光性樹脂組成物。
(A)着色剤
(B)下記(a)と(b)を共重合させて得られる共重合体に、(c)を反応させて得られる樹脂
(a):不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種
(b):(a)と共重合可能な不飽和結合を有し、(a)とは異なる単量体
(c):炭素数2〜4の環状エーテル骨格及びエチレン性不飽和結合を有する単量体
(C)重合性化合物
(D)重合開始剤
(E)多官能チオール化合物
(F)溶剤 (もっと読む)


【課題】成形性が改善された、透明でポリメチルメタクリレートに比べ耐熱性が優れ、成形加工時の臭気の発生が少ないイミド樹脂を提供する。
【解決手段】アクリルアミド基単位が0.5重量%以上3重量%以下含まれ、かつカルボキシル基の含有量が0.3mmol/g以上である特定のイミド樹脂を、エステル化剤と反応させることにより得られるイミド樹脂の製造方法であって、イミド樹脂中のトリメチルアミンを30ppm以下にすることを特徴とするイミド樹脂の製造方法により達成される。 (もっと読む)


【課題】新規な樹脂、該樹脂を用いたレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式(a−0)で表される構成単位(a0)、及び、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大することを特徴とするレジスト用樹脂。式(a−0)中、Rは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基を表し;aは0〜2の整数であり;bは1〜3の整数であり;cは1〜2の整数であり;a+bは2以上の整数である。
(もっと読む)


【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、アルカリ現像液に対する反応性に優れ、現像欠陥を抑制することができ、さらに被覆率依存性が良好な感放射線性樹脂組成物、これに用いることができる重合体及びこの重合体のモノマーとなる化合物を提供することである。
【解決手段】下記式(1)で表される構造単位を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。R2は、下記式(2)で表される酸解離性基である。
(もっと読む)


【課題】活性化放射線に露光される場合に、特に、改良されたリソグラフィのための放射線に露光されるフォトレジスト組成物に使用される場合に、低いガス放出特性を有する光酸発生剤化合物の提供。
【解決手段】式(I)を有する光酸発生剤化合物:


式中、Gは式(II)を有し:


式(II)において、XはSもしくはIであり、各Rは等しくXに結合されており、かつ独立してC1−30アルキル基;多環式もしくは単環式C3−30シクロアルキル基;多環式もしくは単環式C6−30アリール基;または前述の少なくとも1種を含む組み合わせである;aは2もしくは3である;並びに式(I)におけるZはスルホン酸、スルホンイミドもしくはスルホンアミドのアニオンを含む。 (もっと読む)


【課題】外部圧力による変形の少ない硬い特性を有するスペーサー形成用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記(A−11)〜(A−13)を含む化合物を共重合して得られる共重合体に(A−14)を反応させて得られるスペーサー形成用感光性樹脂組成物;(A−11)は下記式1で表される化合物;(A−12)は(A−11)及び(A−13)と共重合可能な不飽和結合を有する化合物;(A−13)は不飽和結合とカルボキシル基を有するカルボン酸;(A−14)は1分子中に不飽和結合とエポキシ基を有する化合物。


(R1は水素原子、アルキル基、アリル基、フェニル基、ベンジル基、ハロゲン原子またはアルコキシ基;R2は水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基またはアルコキシ基) (もっと読む)


【課題】 重合体溶液の保存安定性に悪影響を及ぼす水溶性セルロース類の含有量が少ないN−アルキルマレイミド系重合体粒子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で表されるN−アルキルマレイミド残基を含有し、水溶性セルロース類の含有量が150ppm以下であることを特徴とするN−アルキルマレイミド系重合体粒子、及びその製造方法。
【化1】


(式中、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数3〜12の分岐状アルキル基、又は炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。) (もっと読む)


【解決手段】カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式(1)で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


(X、YはCH又は窒素原子、mは1又は2、R1は水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基であり、nは0又は1である。)
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超LSI製造用あるいはEB描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、EUV露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】高い光屈折性及び蛍光特性を有し、樹脂原料等として好適な化合物及びこの製造方法、この化合物を含む組成物並びに硬化物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式(1)で表されるアントラセン誘導体である。


(式(1)中、Xは、(n+1)価の芳香族基であり、この芳香族基が置換基を有していてもよい。Yは、(n+1)価の芳香族基であり、この芳香族基が置換基を有していてもよい。n及びnは、それぞれ独立して、1〜3の整数である。) (もっと読む)


【課題】レジスト組成物用クエンチャーとして好適な化合物、該クエンチャーを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、下記一般式(c1)で表される化合物(C1)を含む含窒素有機化合物成分(C)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)(ただし、前記化合物(C1)を除く)を含有することを特徴とするレジスト組成物[式中、Rは置換基を有していてもよい含窒素複素環式基であり;Xは炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐鎖状の2価の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜20の環状若しくは環状の部分構造を有する2価の脂肪族炭化水素基、又はこれらの水素原子の一部若しくは全てがフッ素原子で置換された基であり;Mは有機カチオンである。]。
[化1]
(もっと読む)


【課題】優れたフォーカスマージンで、レジストパターンを製造できるレジスト組成物及び該レジスト組成物に有用な樹脂などを提供する。
【解決手段】以下の〔1〕及び〔2〕の提供。〔1〕式(aa)で表される構造単位を有する樹脂及び当該構造単位を誘導する化合物。


[式(aa)中、Tは、置換基を有していてもよい炭素数4〜34のスルトン環基。Raは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基。Zは、*−X−CO−(但し、Xは、炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基)で表される基などを表す。]〔2〕前記樹脂と、酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】PEB温度が低温であっても、感度等に優れ、LWR、DOF等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。
【解決手段】[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
(もっと読む)


【課題】映像品位に関して輝度やコントラストに悪影響を及ぼさず、透明性、接着信頼性、耐久性に優れるとともに、リワーク(修復)に適した紫外線硬化型光学樹脂接着剤組成物を提供する。
【解決手段】画像表示パネルと保護カバープレートとの間の隙間を埋めるための光学樹脂接着剤組成物であって、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するアクリル系重合体(A)と、光重合開始剤(B)とを必須成分とする紫外線硬化型光学樹脂接着剤組成物である。 (もっと読む)


【課題】高感度とPED特性とを両立することができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(成分A)式(a1)〜式(a3)で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、(成分B)式(B)で表されるオキシムスルホネート化合物、及び、(成分C)溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数4〜7のシクロアルキル基を表し、R3は水素原子又はメチル基を表し、RB1及びRB2はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、RB1及びRB2は連結して環を形成していてもよく、RB3は炭素数1〜8のアルキル基、p−トルイル基、フェニル基、カンホリル基、トリフルオロメチル基又はノナフルオロブチル基を表す。
(もっと読む)


【課題】耐熱性などの特性が改善された新規なポリマー(特に熱可塑性ポリマー)およびこのポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】重合性不飽和結合を有する非フルオレン系モノマー(例えば、単官能性(メタ)アクリル酸エステル)に、重合性不飽和結合((メタ)アクリロイル基など)を有するフルオレン化合物(例えば、2以上の重合性不飽和結合を有する9,9−ビスアリールフルオレン類)を共重合させる。このような方法では、少量の(例えば、重合成分全体の10モル%未満の割合で)フルオレン化合物を共重合させるだけでも、ベースとなる重合性不飽和結合を有する非フルオレン系モノマーの単独重合体に比べて、耐熱性などの特性を十分に改善又は向上できる。 (もっと読む)


【課題】光学特性、耐熱性および機械特性に優れた耐熱透明プラスチック基板の提供。
【解決手段】それぞれ独立して炭素数3〜12の分岐状アルキル基又は環状アルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位を含むフマル酸ジエステル重合体(A)及び炭素数1〜12のアルキル基又は環状アルキル基を有するアクリル酸エステル残基単位を含むアクリル酸エステル重合体(B)を含有するフラットパネルディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板。 (もっと読む)


【課題】優れた形状のレジストパターンを製造できる新規な樹脂、及び、該レジスト組成物などを提供する。
【解決手段】〔1〕式(a)で表される構造単位を有する樹脂。


[式中、Aは、アルカンジイル基、単結合などを表し、Aは、アルカンジイル基などを表す。W及びWは、炭素数4〜36の脂環を表す。sは、1又は2を表す。]〔2〕〔1〕の樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】材料の表面に塗布する抗菌剤用組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1):


(式中、R、Rはフルオロアルキル基を、Rは水素原子等を、R6は単結合、2価の有機基を表す。)で表される含フッ素重合性化合物を含む抗菌剤用組成物。 (もっと読む)


【課題】優れたラインウィズスラフネス(LWR)を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物
(もっと読む)


【課題】パターン加工性に優れ、UV硬化および熱硬化により高硬度、高透明であり、耐薬品性の優れる硬化膜を与える、アルカリ現像可能なネガ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂(B)光ラジカル重合開始剤、(C)多官能モノマーおよび(D)下記式(1)〜(3)のうちいずれか1種類以上の官能基を有するシランカップリング剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物であって、(A)カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂が、(a−1)カルボキシル基とラジカル重合性基を有するポリシロキサンおよび/または(a−2)カルボキシル基を有するアクリル樹脂とラジカル重合性基を有する一置換エポキシ化合物とを反応させて得られるアクリル樹脂であるネガ型感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


61 - 80 / 426