【課題】 感度、解像性といった基本特性だけでなく、ＤＯＦ性能も満足する感放射線性樹脂組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】 （Ａ）炭素数６〜２５の脂環式炭化水素骨格を有し、該脂環式炭化水素骨格にカルボニル基を２つ以上有する化合物、および（Ｂ）酸解離性基で保護されたアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性基が解離した時にアルカリ可溶性となる樹脂を含有することを特徴とする、感放射線樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】現像後のディフェクト発生を抑制でき、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）及び式（ａ１−１）で表される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含み、（Ａ１）を構成する全構成単位の合計に対し、構成単位（ａ０）の割合が１０〜６０モル％、構成単位（ａ１）の割合が１０〜６０モル％、これらの合計が７０モル％以下であるポジ型レジスト組成物。
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【課題】得られるパターンのマスクエラーエンハンスメントファクター（ＭＥＥＦ）をより改善することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 重合体（ＩＡ）又は重合体（ＩＢ）の重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物であって、重合体（ＩＡ）は式（Ｉ）のモノマーに由来する構造単位からなり、重合体（ＩＢ）は、式（Ｉ）のモノマーに由来する構造単位と、式（ＩＩ）又は式（ＩＩＩ）のモノマーに由来する構造単位からなる。


［式中、Ｒ^１、Ｒ^４及びＲ^８はＨ等；Ｒ^２、Ｒ^３は飽和炭化水素基；Ａ¹、Ａ^２は−（ＣＨ_２）_ｍ−ＣＯ−Ｏ−＊等；ｍは１〜６の整数；＊はＮとの結合手；Ｒ^５は芳香族炭化水素基；Ｒ^６は炭化水素基；Ｒ^７はフッ化アルキル基；Ａ^３は２価の飽和炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】
塗料調色時の減粘現象が抑制され、塗装作業性に優れた水性塗料組成物を提供する。
【解決手段】
共重合体（Ａ）、共重合体（Ｂ）及び樹脂エマルション成分（Ｃ）を含み、（Ａ）が（ｍ−１）炭素数３〜２４のアルキル基を有するモノマー（ａ）を５〜１００質量％含有するモノマー成分（Ｉ）を重合することにより得られる重合体鎖と重合性不飽和基とを有する数平均分子量が１,０００〜７,０００の範囲内のマクロモノマー、（ｍ−２）ノニオン性の親水基を有するモノマー及び（ｍ−３）その他のモノマーからなるモノマー成分（ｍ）を共重合することにより得られる重量平均分子量が１００，０００以上の共重合体であり、（Ｂ）がポリオキシアルキレン鎖を有するモノマーを１０〜４０質量％含むモノマー成分を共重合して得られる酸価が２０〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量が１００，０００未満の共重合体であることを特徴とする水性塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】 洗浄時に優れた再汚染防止能を発揮することができ、界面活性剤との相溶性にも優れたアリルエーテル系重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 特定の構造を有する（ｉ）アリルエーテル系単量体（Ａ）に由来する構造単位（ａ）と、（ｉｉ）アミノ基含有単量体（Ｂ−１）、環状Ｎ−ビニルラクタム系単量体（Ｂ−２）、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート系単量体（Ｂ−３）、炭素数１〜２０のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル（Ｂ−４）、カルボン酸ビニル（Ｂ−５）から選ばれる単量体（Ｂ）に由来する構造単位（ｂ）とを所定の範囲で含む、アリルエーテル系重合体である。 （もっと読む）

【課題】疎水性指数が低くとも、自己凝集性を有する重合体粒子を提供する。
【解決手段】本発明の重合体粒子は、単量体組成物を重合して得られる重合体粒子であって、前記単量体組成物が（Ａ）架橋性単量体及び（Ｂ）炭素数４〜１２のアルキル基を有する非架橋性（メタ）アクリル系単量体を含有し、前記単量体組成物が含有する全単量体中、（Ａ）架橋性単量体の含有率が２５質量％以上であり、（Ｂ）炭素数４〜１２のアルキル基を有する非架橋性（メタ）アクリル系単量体の含有率が２１質量％以上６６質量％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥の発生を好適に抑制可能なレジスト被膜を形成することができる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式（１）で表される基を有するフッ素含有化合物［Ａ］と、感放射線性酸発生体［Ｂ］と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


（式（１）中、Ｒ^Ｃは、置換されていてもよい（ｐ＋１）価の芳香族環式基であり、Ｑは、１価の親水基から水素原子１つを除いた連結基であり、Ｒ^Ｅは、水素原子、又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基である。ｐは、１〜５の整数である。但し、ｐが２〜５の場合、複数のＱ及びＲ^Ｅはそれぞれ独立して上記定義を有する。「＊」は結合手を示す。） （もっと読む）

【課題】高温高湿下で優れた電気絶縁性を有し、かつ長期間の信頼性に優れたアクリル系エラストマー及びこれを用いたアクリル系エラストマー組成物を提供する。
【解決手段】構造単位として、少なくとも下記一般式（I）、炭素数１−１０の炭化水素基を有するアクリル系エステルモノマー、及び特定の官能基を有するアクリル系モノマーの３種を含むアクリル系エラストマー。


（Ｘは、炭素数５〜２２の脂環式炭化水素を含む置換基を示す。Ｒ１は水素又はメチル基を示す。） （もっと読む）

【課題】 厚塗り塗工が可能で、厚膜の粘着剤層を得ることが可能な、架橋剤硬化タイプの溶剤系アクリル系粘着剤の提供する。
【解決手段】 （メタ）アクリル酸アルキルエステル系モノマーを主成分として含有するモノマー成分（ａ）を、６０℃における酢酸ビニルの有機溶剤への連鎖移動定数が２５０以上となる有機溶剤（ｂ）の存在下で重合して得られるアクリル系樹脂（Ａ）を含有するアクリル系樹脂溶液であり、アクリル系樹脂（Ａ）の重量平均分子量が５万〜３０万で、かつ樹脂溶液の固形分濃度が６０％以上であることを特徴とするアクリル系樹脂溶液。
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【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ’）を含有し、基材成分（Ａ’）以外に酸発生剤成分を含有しないポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ’）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^２は単結合又は２価の連結基であり、Ｒ^３は、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基である。］
［化１］
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【課題】ラフネスがより低減され、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】α位の炭素原子に水素原子以外の原子又は置換基が結合していてもよいアクリル酸エステルから誘導される、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）及び−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）と、一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物。一般式（ｃ１）中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基；Ｙ^１は２価の脂肪族炭化水素基；Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基である。ｐは１〜１０の整数、Ａ^＋は有機カチオンを表す。
［化１］
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【課題】新規な化合物と、該化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、該樹脂を含むレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、Ｗ^１は、炭素数３〜３６の飽和炭化水素環を表す。Ａ^１は、単結合又は炭素数１〜１７の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基を表す。］
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【課題】コンタクトホールパターン形成時のパターンの側壁の垂直性が良化し、ＥＤＷが拡大し、サイドローブ耐性が向上し、かつ経時保存後のレジスト溶液中でのパーティクルの増加が著しく低減された化学増幅型レジスト組成物、並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）硫黄原子を有する特定の構造のベンゾイミダゾール系塩基性化合物を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】塗布膜厚の均一性が改善され、且つ、液浸露光により形成されたパターンのウエハー面内における寸法均一性に優れるパターンを提供可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び（Ｃ）フッ素原子を有する基で置換されたラクトン構造を有する繰り返し単位を含む樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、ハロゲン原子又はＣＨ_２ＯＨを表す。Ｒ_２はアルキレン基、シクロアルキレン基、またはそれらを組み合わせた２価の連結基を表す。ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の場合、複数のＲ_２は同一でも異なっていてもよい。）
【化１】
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【課題】 本発明は、高屈折率透明樹脂の透明性を高度に維持しながら、耐衝撃性を付与できる、改質剤としての機能を有する重合体の提供を目的とする。
【解決手段】 本発明の重合体である高屈折率エラストマーは、芳香族チオアルキルアルコールの（メタ）アクリル酸エステルＡＭを主成分とする単量体の重合体であり、かつ、その屈折率ｎＡが１．５７０以上である、高屈折率エラストマーＡであって、前記ＡＭを主成分とする単量体の重合体であり、メチルエチルケトンなどの溶剤に不溶であり、そのガラス転移温度が−１０℃以下であり、かつ、その屈折率ｎＡＣが１．５７５以上である重合体ＡＣを含む。 （もっと読む）

【課題】
感温性微粒子ゲル分散液を作成するには、従来溶剤に溶解して重合する方法、あるいは乳化重合する方法などがあったが、いずれも分散液安定性や濃度を高くすることができなかった。本発明においては、界面活性剤や有機溶媒を用いることなく、高濃度かつ水中における分離安定性の高い感温性微粒子ゲル分散液およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】
特定の非イオン性単量体を３０モル％以上含み、水中で架橋剤と水溶性高分子の存在下において単独重合もしくは共重合することを必須とした条件により得られる感温性微粒子ゲル分散液の製造方法を提案することにより、本発明の課題を解決することができる。
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【課題】パターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に、第一のポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜を形成し、第一のレジスト膜を露光し、露光後ベークを行い、アルカリ現像して第一のレジストパターンを形成する工程（１）と、第一のレジストパターンが形成された支持体上に、第一のレジスト膜を溶解しない有機溶剤を含有する第二の膜形成用組成物を塗布して第二の膜を形成し、アルカリ現像することによりレジストパターンを形成する工程（２）とを有し、第一のポジ型レジスト組成物は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分及び露光により酸を発生する酸発生剤成分）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分が酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する樹脂成分を含有することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】下記で示される含フッ素単量体。


（Ｒ⁴〜Ｒ⁶はＣ１〜６のフッ素化１価炭化水素基。ｋ¹は０〜２の整数。）
【効果】波長５００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像欠陥の少ない感放射線レジスト材料の添加剤用樹脂を製造するための単量体。得られる高分子化合物は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用で、撥水性、加水分解性などの調整が可能。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位（ａ１）を有する第一の重合体を含む重合体成分と、（Ｂ）溶剤と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


（一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子等を示す。Ｒ^２及びＲ^３は、相互に独立に、炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基等を示す。Ｒｆは、少なくとも１つのフッ素原子を有するともに、ＣＯＯＲ^４で表される基を有する有機基等を示す。） （もっと読む）

【課題】
塗布量が低減でき、経時における異物を生じにくく、さらにＢｌｏｂ欠陥を生じにくい上層膜を得ることができる上層膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】
溶剤としてエーテル系溶剤を含む上層膜形成用組成物に特定の繰り返し単位を含む重合体を用いること。 （もっと読む）