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Fターム[4J100BC03]の内容

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Fターム[4J100BC03]に分類される特許

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【課題】感度、解像性及びリソグラフィー特性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)は、一般式(a5−0)で表される構成単位(a5)と、露光により酸を発生する構成単位(a6)とを有する高分子化合物(A1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】 焦点深度ラチチュード(Depth Of Focus)が大きく、経時でのパーティクル発生が少ないという液物性を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、
前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、前記化合物(A)として、特定の2種の化合物からなる組み合わせ(A−1)、又は、特定の2種の化合物からなる組み合わせ(A−2)を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス。 (もっと読む)


【課題】光学等方性、機械的強度及び高温下における寸法安定性に優れる光学フィルム、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】メタクリル酸単量体及びメタクリル酸エステル類から選ばれる第一の単量体から形成される第一の構造単位50〜95質量%、特定のN−置換マレイミド化合物から選ばれる第二の単量体から形成される第二の構造単位0.1〜20質量%及び第二の単量体とは異なる、特定のN−置換マレイミド化合物から選ばれる第三の単量体から形成される第三の構造単位0.1〜49.9質量%を有するアクリル系熱可塑性樹脂を主成分として含み、120℃で30分間加熱した時の熱収縮率の絶対値が、MD方向及びTD方向のいずれも1.5%以下であり、耐折回数が、MD方向及びTD方向のいずれも5回以上であり、面内方向の位相差の絶対値が20nm以下であり、厚さ方向の位相差の絶対値が20nm以下である光学フィルム。 (もっと読む)


【課題】露光余裕度が大きく、かつラフネスが低減されたレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む下記構成単位(a10)と、−SO−含有環式基を含む構成単位と、アクリル酸エステルから誘導され極性基含有脂肪族炭化水素基を含む構成単位と、を有する樹脂成分(A1)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物。(式中、Rは一般式(a10−1)又は下記一般式(a10−2)で表される基であり、Xは酸素原子又はCHである)
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【解決手段】酸不安定基によりカルボキシル基が保護された構造を有する繰り返し単位(a1)とアミノ基、アミド結合、カルバメート結合、含窒素複素環から選ばれる構造を1つ以上含む繰り返し単位(a2)とを含有する高分子化合物[A]と、光酸発生剤[B]と、有機溶剤[C]とを共に含むレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の特定の構造の高分子化合物と光酸発生剤と有機溶剤を含むレジスト組成物を有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで表面難溶層の形成を防ぎ、微細トレンチパターンやホールパターンの広い焦点深度を得ることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこれを含むレジスト組成物。


[式中、Rはエチレン性二重結合を含む基;Wは2価の脂環式炭化水素基;Tは、単結合、2価の脂肪族炭化水素基等;Tは2価の脂肪族炭化水素基等] (もっと読む)


【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式(b1−11)で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式(b1−11)中、R”〜R”のうち少なくとも1つは、置換基として式(I)で表される基を有する置換アリール基であり、式(I)中のWは2価の連結基である。Xは、式(b−3)または(b−4)で表されるアニオンである。
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【課題】LWR等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ良好なドライエッチング耐性を有するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(ア)下記一般式(b1)で表される非酸分解性の繰り返し単位(b1)、および、酸によって分解し極性基を生じる基を有する繰り返し単位を含む樹脂(P)、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、(イ)該膜を波長が200nm以下の活性光線又は放射線により露光する工程、及び(ウ)ヘテロ原子及び炭素原子を含み、且つ、炭素原子数が7以上の有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含むパターン形成方法。(式中、Aは酸素原子を含まない、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、Xは水素原子又はアルキル基を表す。)
【化1】
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【課題】EUV用またはEB用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するEUV用又はEB用レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0−1)又は(a0−2)で表される基を含む構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)を含有し、前記基材成分(A)に加えて、光反応型クエンチャー(C)を含有することを特徴とするEUV用又はEB用レジスト組成物。式中の基−R−S(R)(R)は、全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。Mm+は、芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
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【課題】良好な形状を有するレジストパターンレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこれを含むレジスト組成物。


[式中、R及びRは、それぞれ、脂肪族炭化水素基を表すか、R及びRが互いに結合し環を形成する;Rは、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基等;m及びnは、それぞれ0又は1;Xは、単結合、−O−(CH−*(lは1〜6の整数、*はOとの結合手を表す。)等を表す] (もっと読む)


【課題】有機溶媒を含む現像液を用いた場合においてミッシングコンタクトホールの発生が抑制され、リソグラフィー特性に優れる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が80質量%以上の現像液を用いるネガ型レジストパターン形成方法用の感放射線性樹脂組成物であって、[A]酸解離性基を有するベース重合体、[B][A]重合体よりフッ素原子含有率が高い重合体、[C]感放射線性酸発生体、[D]溶媒、及び[E][D]溶媒の比誘電率よりも15以上大きい比誘電率を有する化合物を含有し、上記[A]重合体が、下記式(1)で表される構造単位を有し、上記[E]化合物が、[A]重合体100質量部に対して、10質量部以上200質量部以下含有することを特徴とする。
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【課題】感度、解像性、リソグラフィー特性及びエッチング耐性に優れる高分子化合物、レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化し、(a5−0)で表される構成単位を有する高分子化合物を含む基材成分(A)及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物。(式(a5−0)中、Rは水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基である。Rは硫黄原子又は酸素原子である。Rは単結合又は2価の連結基である。Yは芳香族炭化水素基、又は多環式基を有する脂肪族炭化水素基である。)
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【課題】ラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部が良好なドライエッチング耐性を有するパターン形成方法、及び、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】酸によって分解しカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位(a1)を含む樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、ヘテロ原子及び炭素原子を含み、且つ、炭素原子数が7以上の有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含み、繰り返し単位(a1)が、酸分解後のカルボキシル基を生じた際の該単位中に含まれる各原子の数を下式に代入し得られる値Xが0<X≦5であるパターン形成方法。X=(酸による分解後の繰り返し単位を構成する原子数の合計)/{(炭素原子の数)−(炭素原子でも水素原子でもない原子の数)} (もっと読む)


【課題】ディフェクトの発生を低減できるレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、及び該レジスト組成物の添加剤として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、及び含フッ素化合物成分(F)を含有するレジスト組成物。前記含フッ素化合物成分(F)は、一般式(f1−1)で表される構成単位及び一般式(f1−2)で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも1種の構成単位(f1)と、フッ素原子を含む構成単位(f2)とを有する高分子化合物(F1)を含有する[式中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又はハロゲン化アルキル基;R、Rは2価の連結基;Rfはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜10の炭化水素基又は炭素数3〜20の環含有炭化水素基である]。
[化1]
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【課題】解像性に優れ、良好な耐エッチング性及び硬化膜柔軟性を有する感光性樹脂組成物及び積層体の提供。
【解決手段】全固形分を基準として、以下の:(A)アルカリ可溶性高分子:10〜90質量%、(B)エチレン性不飽和二重結合を有する単量体:5〜70質量%、及び(C)光重合開始剤:0.01〜20質量%、を含む感光性樹脂組成物であって、該(A)アルカリ可溶性高分子は、酸当量100〜600、及び重量平均分子量5,000〜200,000を有し、かつベンジル(メタ)アクリレート系化合物と、脂環式炭化水素基又は複素環式基を有する(メタ)アクリレート系化合物とを含む単量体成分の共重合体である、前記感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】高解像のパターンを良好な形状で形成でき、PEB温度のパターン寸法への影響も少ないレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0−1)又は(a0−2)で表される基を含む構成単位(a0)と、酸の作用により極性が増大し且つ多環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a11)と、酸の作用により極性が増大し且つ単環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a12)と、を有する共重合体(A1)を含有するレジスト組成物。式中の基−R−S(R)(R)、Mm+はそれぞれ、全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
[化1]
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