【課題】レジスト材料であって、高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少なく、優れたドライエッチング耐性を有し、また、液浸リソグラフィーにも好適に用い得るレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、特定の酸素含有置換基を有するナフタレン環を側鎖に含む繰り返し単位（ａ）及び特定のスルホニウム塩基を側鎖に有する繰り返し単位（ｂ）を必須単位として含む高分子化合物をレジスト材料として使用することで高いドライエッチング耐性が得られる。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒の含有量を極めて少なくすることができ、かつ、低温で造膜した場合の耐溶剤性、耐水性および耐アルカリ性に優れた膜を形成することができるアクリル系樹脂水分散体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス転移温度が７０〜１４０℃、固形分酸価が１０〜３０ｍｇＫＯＨ／ｇ、かつ、重量平均分子量が３００００〜１０００００であり、樹脂固形分に対して有機溶媒の含有量が１０質量％以下であるアクリル系樹脂水分散体であり、上記アクリル系樹脂共重合体の共重合成分中に脂環式（メタ）アクリルモノマーを１０〜７０質量％含んでいることを特徴とするアクリル系樹脂水分散体であり、アクリル系樹脂共重合体の共重合成分中、スチレンの含有量が１０質量％以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 表面硬度、耐傷性、表面平滑性に優れる透明熱可塑性樹脂組成物及び成形品を提供する。
【解決手段】 透明性を有するゴム強化アクリル系熱可塑性樹脂組成物に対し、炭素数１２〜３２の高級脂肪酸と炭素数１２〜３２の高級アルコールとのエステル化物である高級脂肪酸エステルを１〜５重量部を配合してなる樹脂組成物において、全樹脂成分の合計量に対するゴム質重合体（ａ）の配合量が２．５〜１１．５重量％の範囲であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた紫外線吸収能を有すると共に、プラスチックフィルムとの密着性に優れ、長期耐候性を備えたフィルムを提供すること。
【解決手段】片面又は両面を易接着処理したプラスチックフィルムの処理面上に、特定構造の紫外線吸収性単量体をラジカル重合してなる紫外線吸収性重合体を含有し（他の重合体は混合しない）、かつ硬化された紫外線吸収性重合体層を有することを特徴とする紫外線吸収性複合フィルムを開示する。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）、ＰＥＢ温度依存性及びパターン倒れについて、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ラクトン構造及びシアノ基を有する繰り返し単位（Ａ１）を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高解像度であり且つＬＥＲに優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本感放射線性樹脂組成物は、ラクトン骨格を有する繰り返し単位を含むアルカリ不（難）溶性の樹脂と、ベンゼンスルホン酸を発生する酸発生剤と、式（Ｉ−Ａ）又は（Ｉ−Ｂ）の構造を有する化合物からなる酸発生剤とを含む。


〔Ｚ^１、Ｚ^２は相互に独立にフッ素原子又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のパーフルオロアルキル基、Ｙ^１は単結合又は２価の基、Ｒは置換基、ｋは０〜５、ｎは０〜５の整数。Ｒが複数存在する場合、２以上のＲが相互に結合して環を形成してもよい。〕 （もっと読む）

【課題】ポリオレフィン系樹脂に対する密着性が良好であり、トルエン等の芳香族溶剤以外の溶剤にも溶解性が良好なポリオレフィン用接着剤組成物を提供する。
【解決手段】側鎖にラジカル重合性不飽和基を有し、且つ（メタ）アクリル酸４−ｔ−ブチルシクロヘキシル単量体単位を有するアクリル系重合体を含有するポリオレフィン用接着剤組成物であり、ポリオレフィン系樹脂に対する密着性及びトルエン等の芳香族溶剤以外の溶剤にも溶解性が良好である。 （もっと読む）

【課題】良好な粘着物性を備えるとともに、その養生時間が短く、またブリード現象が抑制された粘着剤を得ることのできる架橋性樹脂組成物、およびそれを用いた粘着剤を提供する。
【解決手段】下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分を用いて共重合させてなる共重合体の架橋性樹脂組成物である。そして、（Ｃ）成分の使用量が（Ａ）〜（Ｃ）成分全体の０．０１〜４重量％に設定されている。
（Ａ）（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ただし、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分を除く。）。
（Ｂ）官能基含有不飽和単量体（ただし、（Ｃ）成分を除く。）。
（Ｃ）窒素原子含有複素環構造を有するエチレン性不飽和単量体。 （もっと読む）

【課題】電子写真装置機能部品の最表面にアミノ基及びカルボキシル基が存在することができ、基材樹脂の硬度や弾性などの特性を損なわない範囲の少量の添加で、トナーに充分な負荷電性を付与し、その成形品の電子写真装置機能部品において良好な画像を形成することができる正荷電性樹脂を含有する電子写真装置機能部品用樹脂を提供する。
【解決手段】アミノ基及びカルボキシル基を含む正荷電制御樹脂を含有する電子写真装置機能部品用樹脂において、電子写真装置機能部品の表面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で測定した際に、分子量１８５０までのトータルイオン強度に対するアミノ基に由来する最大イオン強度の比率が０．００５以上であり、分子量１８５０までのトータルイオン強度に対するカルボキシル基に由来する最大イオン強度の比率Ａが５ＰＰＭ以上である。 （もっと読む）

【課題】従来の医療用材料に比べて、抗血栓性、ひいては生体適合性に優れ、かつ親水性の高い表面処理剤を提供する。
【解決手段】アルキル（メタ）アクリレート単位およびメトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート単位を含む水不溶性の共重合体。アルキル（メタ）アクリレート単位とメトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート単位とは、３０〜９９．５／０．５〜７０モル比が好ましい。また、該共重合体のガラス転移温度は、−１００〜２０℃、平均分子量は２，０００〜２００，０００が適当である。 （もっと読む）

【課題】液浸用レジスト組成物に用いた場合に、浸漬液よりも高い屈折率となり、他の単量体との共重合性に優れたレジスト用重合体の提供。
【解決手段】下記式で表されるナフタレン骨格を有する構成単位を含有するレジスト用重合体。


（Ｒ¹⁰は水素原子またはメチル基、Ｇは−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−、−Ｏ−、または−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−のいずれかを表す。Ｌ¹およびＬ²は、２価の炭化水素基，Ｙは−Ｃ(＝Ｏ)−ＯＨ、−ＯＨ、−Ｃ(＝Ｏ)−ＯＲ¹³、または−ＯＲ¹³を表す。） （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の分解を極力抑制しつつ、低沸点不純物の含有量が極めて低いフォトレジスト用樹脂溶液を得る。
【解決手段】 酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Ａと、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Ｂとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を１種又は２種以上の塗膜形成用溶媒に溶解したフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法であって、重合により得られた前記フォトレジスト用樹脂を貧溶媒に沈殿させ、沈殿したフォトレジスト用樹脂を湿結晶として分離し、該湿結晶を少なくとも１種の塗膜形成用溶媒を含む溶媒に再溶解させ、得られた再溶解液を蒸留缶の加熱用ジャケット及び／又はチューブに１４０℃以下の熱媒又は蒸気を流通させつつ且つ蒸留缶内を撹拌機により撹拌しながら蒸留して、前記フォトレジスト用樹脂の湿結晶中に含まれる低沸点不純物を減圧下に留去する。 （もっと読む）

ポリアルキレンオキシド側鎖で改変されたビニルラクタムコポリマー、水に溶解することが難しい物質のための可溶化剤としてのそれらの使用、およびそのようなコポリマーを含む調製物を開示する。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、側鎖に特定の構造を有する繰り返し単位を有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 配向欠陥のない光学異方体を提供することにあり、該光学異方体を作製することのできる重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】 重合性基を有する液晶化合物を含有する重合性液晶組成物において、フッ素基を有する側鎖、及び、ナフタレン環、インデン環、ペンタレン環、アズレン環、及びヘプタレン環から選ばれる縮合環（但し、該縮合環を構成する１つ以上の炭素原子はＮまたはカルボニル基で置き換えられていてもよく、また、互いに隣接しない１つ以上の炭素原子は、Ｓ又はＯで置き換えられていてもよく、縮合環の一部あるいは全部が水添されていてもよい。また置換基を有していてもよい。）を１つ有する側鎖を有し、質量平均分子量が１００００〜３０００００である（メタ）アクリル共重合体（Ｈ）を含有する重合性液晶組成物、及び、該重合性液晶組成物を、配向機能を有する基板上に塗布し、配向させた状態で重合させて得られる光学異方体。 （もっと読む）

【課題】 良好な液浸リソグラフィーを可能とし、しかもフォトレジスト層の現像時に同時に除することができて、優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用の保護膜材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 (i)フッ素原子を１個以上含有するフッ素含有アルキル基もしくはフッ素含有アルキレン基を有する繰り返し単位と必要に応じてアルカリ溶解性の繰り返し単位を含むポリマーと、フッ素原子を含まないアルキル基を有する繰り返し単位と必要に応じてアルカリ溶解性の繰り返し単位を含むポリマーとのブレンド、又は(ii)フッ素原子を１個以上含有するフッ素含有アルキル基もしくはフッ素含有アルキレン基を有する繰り返し単位とフッ素原子を含まないアルキル基を有する繰り返し単位と必要に応じてアルカリ溶解性の繰り返し単位を含むポリマー、を含有するレジスト保護膜材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】屈折率変調、波長選択性および耐久性に優れた体積型ホログラム記録材料用組成物、ホログラム記録媒体、体積型ホログラムの製造法を提供。
【解決手段】ガラス転移温度が４０から２００℃であり、数平均分子量が１万から１００万である、式（I)で表されるバインダーポリマー（Ａ）、ラジカル重合性物質（Ｂ）、ラジカル重合開始剤（Ｃ）を含む体積位相型ホログラム記録材料用のフォトポリマー組成物。式中のＲ_kおよびＲ_lは、Ｈ、飽和もしくは不飽和の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素芳香族炭化水素。
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【課題】光安定性を向上させるとともに、当該特性を長時間に亘って維持することが可能な光学素子用樹脂組成物、光学素子、集光装置及び光ピックアップ装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも脂環式炭化水素系重合体を含む光学素子用樹脂組成物であって、
ラジカル数が１０¹⁴スピン／ｇ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学特性、耐熱性、接着性、密着性および耐吸湿性のいずれにも優れた環状オレフィン系重合体を提供することである。
【解決手段】 下記一般式（１）に示す繰り返し単位を含む環状オレフィン系重合体。


一般式（１）中、Ｒ^１は置換基を表し、Ｒ^２は置換されていてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表す。ただし、Ｌが２価の連結基の場合、ＬとＣ＝Ｏの結合は炭素−炭素結合である。ｐは、０または１の整数、ｑは０〜３の整数、ｒは１〜４の整数を表す。Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＬが結合する環骨格の炭素原子、または２つのＲ^２は互いに結合して５〜７員の環を形成していても良い。 （もっと読む）

【課題】次世代の先端医療用具や人工臓器の開発のために、タンパク質や血球などの生体成分との相互作用がないなどの優れた生体適合性を有する生体適合性ポリマーを含有する医療用被膜形成樹脂組成物および前記生体適合性ポリマーからなる被膜を有する医療用材料を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）：


で表されるＮ−メタクリロイルオキシエチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウム−α−Ｎ−メチルカルボキシベタイン１〜１００重量％および二重結合１個及び有機基を有するアルケン化合物で表される生体適合性を有する重合性モノマー０〜９９重量％を含有するモノマー組成物を重合させてなる生体適合性ポリマーを含有する医療用被膜形成樹脂組成物、および前記生体適合性ポリマーからなる被膜を有する医療用材料。 （もっと読む）