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Fターム[4J100BC04]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) |  (19,108) | 飽和脂環 (7,963) | 単環のもの (3,883) | シクロヘキサン環 (2,536)

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【課題】赤外線レーザーによる書き込みが可能であり、かつ、保護層を有する平版印刷版原版であって、製版作業における生産性を向上し、現像カスの発生を抑制する平版印刷版原版、及びその製版方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、赤外線吸収剤、重合開始剤、不飽和ポリウレタン化合物及びバインダーポリマーを含有する感光層並びに無機質の層状化合物を含有する保護層をこの順に有する平版印刷版原版であって、保護層とアルミニウム支持体裏面とが接触する状態でプレートセッター内にセットし、平版印刷版原版を1枚づつ自動搬送し、750nm〜1400nmの波長で露光処理した後、加熱処理及び/又は水洗処理を経ることなく現像処理を行う平版印刷版原版の製版方法。 (もっと読む)


【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物に於いて、露光ラチチュード、PEB温度依存性、パターン倒れ、ラインエッジラフネスについて、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)特定のアンモニウム構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】レジスト樹脂用の原料モノマーに適したβ−ヒドロキシラクトンの(メタ)アクリル酸エステルおよび3級エステルタイプの(メタ)アクリル酸エステルを収率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】式(1)で表されるルイス酸触媒および重合禁止剤の存在下、特定の構造を有するアルコール(A)と、(メタ)アクリル酸無水物(B1)および(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリル酸以外のカルボン酸との無水物(B2)から選ばれる少なくとも1種の酸無水物(B)とを反応させて、(メタ)アクリル酸エステルを製造する方法。


(式(1)中、Mは、遷移金属などから選ばれた元素を表し、Rfはフッ素化炭化水素基を表し、nはMの原子価と同数の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】活性光線又は放射線、特に、KrFエキシマレーザー光、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(B)桂皮酸から誘導される特定の繰り返し単位と、少なくとも一種の特定のポリスチレン構造を有する繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造に於いて、露光ラチィチュード、PEB温度依存性改良、プロファイル改良、スカム低減について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(A1)で表される環構造を主鎖に有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
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【課題】 耐光性、透過性及び硬化性の全てを充分に満足し得る硬化物を与えることができ、例えば、光学部材、照明部材、自動車部材等の他、より多くの用途に有用な電離放射線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 電離放射線エネルギーにて硬化させて用いる硬化性組成物であって、上記電離放射線硬化性組成物は、電離放射線エネルギー2J/cmで硬化させて得られる硬化物が、波長380nmでの初期光線透過率80%以上、かつ促進耐光性試験200時間後の光線透過率保持率90%以上を満たすものである電離放射線硬化性組成物である。 (もっと読む)


【課題】 超LSIや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】 特定の繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】超LSIや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)ラクトン基を有する分子量2000以下の芳香族化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】高感度で、1,200J/m以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、柔軟性と高回復率、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等に優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】
(a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、
(a2)分子内に1つの水酸基を有する水酸基含有不飽和化合物
(a3)(a1)及び(a2)以外の他の不飽和化合物の共重合体に、イソシアネート化合物を反応させて得られる重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、透明性及び溶融成形性の全てに優れる新規な環化共重合体、並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系単量体(ノルボルネン類,テトラシクロドデセン類)と非共役ジエン化合物とを(Cp)で示される特定の重合触媒の存在下に重合した、架橋脂環式繰り返し単位と、脂環式繰り返し単位とを有する、重量平均分子量1,000〜1,000,000である環化共重合体、及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】100nm以下の微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、(B)成分の樹脂が、同一繰り返し単位内に環状炭化水素構造と特定の部分構造とを有する繰り返し単位を有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】 ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 (A)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するレジスト組成物。
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【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、解像力、ラインエッジラフネスが改良され、且つ液浸露光に於いてラインアンドスペースパターンを良好に解像し得るレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するレジスト組成物であって、(B)成分の樹脂が、特定構造のモノマーによる繰り返し単位を有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】レーザー光による描画に適し、適切な明るさの作業環境を達成可能なセーフライト下でスクリーン線数200線以上の高精細AMスクリーンやFMスクリーンが使用可能な感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】支持体上に、(A)バインダーポリマー、(B)鉄アレーン錯体化合物、(C)重合可能なエチレン性不飽和結合基含有化合物及び、(D)360〜450nmの波長範囲に吸収極大を有する増感色素を含有する感光層を有する光重合型感光性平版印刷版において、バインダーポリマー(A)が一般式(1)で表される繰り返し単位を有する重合体であることを特徴とする光重合型感光性平版印刷版。
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【課題】化学増幅型ポジ型リソグラフィーにおいて、リソグラフィー薄膜のアルカリ現像液に対する最高溶解速度(Rmax)や現像コントラスト等のリソグラフィー特性に優れた、リソグラフィー用共重合体と該共重合体を含む組成物を提供する。
【解決手段】酸の作用で分解して極性基が生成する酸不安定構造を有する繰り返し単位(A)と、極性基を有する繰り返し単位(B)とを含む共重合体であって、繰り返し単位(A)が、式(1)で表される繰り返し単位(A1)と、エステル部分が水酸基含有アダマンチル基である不飽和モノカルボン酸エステルで表される繰り返し単位(A2)とを含む。
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本発明は、(メタ)アクリロイル部分に付着する環状ジチアン部分を含む、少なくとも1つのモノマーを含む組成物を特徴とする。組成物は、所望により、歯科組成物において通常使用されるエチレン性不飽和化合物のようなさらなる重合性化合物を含有してもよい。 (もっと読む)


【課題】
良好な硬化性と保存安定性を有し、かつ、硬化後に得られた硬化膜の耐熱性、耐溶剤性、耐熱着色性、密着性等の基本性能を備えた上で、優れた平坦化能を有するカラーフィルター保護膜用の熱硬化性樹脂組成物、ならびにその樹脂硬化物の層を有するカラーフィルターを提供する。
【解決手段】
重量平均分子量(Mw)が3,000〜300,000であり、かつ、オキセタン当量が140〜1,000g/molである、特定の構成単位を有するオキセタニル基含有重合体(A)と、多価カルボン酸(b1)のカルボキシル基がビニルエーテル化合物(b2)により潜在化された多価カルボン酸誘導体(B)とを含み、固形分に対して、該(A)成分を20〜80重量%、該(B)成分を20〜80重量%含有することを特徴とするカラーフィルター保護膜用の熱硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 乾燥収縮を効果的に低減できかつ十分な流動性/分散性をコンクリート部材等の水硬性材料に付与できる水硬性材料用混和剤組成物を提供する。
【解決手段】 下記式(1):
【化1】


ただし、式中、R、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基または−(CHCOOX基を表し、この際、Xは、水素原子、一価金属、二価金属、アンモニウム基、有機アミン基または炭化水素基を表し、pは、0〜2の整数であり;およびRは、炭素原子数4〜30の炭化水素基を表す、
で示される少なくとも1種の構成単位(I)を必須成分として含み、セメント上澄み液に重合体を0.2質量%含む溶液における表面張力が25〜50mN/mである重合体を含む乾燥収縮低減剤と、高性能AE減水剤と、を含むことを特徴とする、水硬性材料用混和剤組成物により、上記課題は解決される。 (もっと読む)


【課題】100nm以下の微細パターンの形成においても、疎密依存性に優れたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、(B)成分の樹脂が、ジアマンタン構造を有する繰り返し単位(Ba)と、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有し、該酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基の酸の作用により脱離する基内に非多環の炭化水素構造を有する繰り返し単位(Bb)とを有する樹脂であることを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】 カラーフィルター製造において、色素としてピグメントレッド254を用いる着色画像形成用の感光液に用いられる着色組成物であって、加熱工程による異物の発生を抑制し欠陥をなくした高耐熱性着色組成物を提供する。
【解決手段】 ピグメントレッド254を含有する色素及び樹脂を含有する着色組成物において、樹脂がジシクロ環又はトリシクロ環を有するモノマ、水酸基を有するモノマ及びN−置換マレイミド基を有するモノマを含有するモノマ成分を重合して得られる重合体(A)に、下記一般式(1)で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート(B)を付加させて合成された樹脂である着色組成物。
CH2=C(R1)−COO―X−NCO (1)
[式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、Xはアルキレン基、又は−R2−OCONH−R3−(R2はアルキレン基を表し、R3はジイソシアネート化合物中の2価の残基。)である。] (もっと読む)


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