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Fターム[4J100BC04]の内容

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【課題】電解液膨潤度が高く、長期使用時にも電解液の染み出しが少ない高分子固体電解質を提供する。
【解決手段】単官能モノマーによって形成される線状ポリマーと、概線状ポリマーを架橋する多官能モノマーとによって三次元架橋された網目構造を有する共重合体であって、架橋点間分子量(Mx)が9000〜25000と大きな重合組成物を用いる。
【効果】概高分子が有機溶媒と電解質塩を含む電解質は電解液膨潤度が高く、ラミネートフィルムを外装材とした薄型リチウムイオン電池用電解質に適している。 (もっと読む)


【課題】 金属不純物の含有量が低いビニルフェノールを、効率よく製造する方法、及びそれを付加重合して得られる重合体。
【解決手段】 酵素触媒の存在下、芳香族ビニル化合物を酸化させ、濾過膜により酵素触媒を除去するビニルフェノールの製造方法。酵素触媒除去後に、ビニルフェノールをアルカリ抽出により未反応芳香族ビニル化合物から抽出し、さらにビニルフェノールを酸中和により単離する方法が好ましい。また、酵素触媒としては好熱菌由来の酵素が好ましい。 (もっと読む)


【課題】紫外線吸収能に優れるとともにコート膜形成特性が良好なエマルションを提供する。
【解決手段】下記一般式(1);


で表される化合物を必須モノマー成分として重合させたガラス転移温度が40℃以上のポリマー微粒子と上記一般式(1)で表される化合物を必須モノマー単量体成分として重合させたガラス転移温度が30℃以下のポリマー微粒子とを含有してなることを特徴とするポリマーエマルション。 (もっと読む)


【課題】1枚の光学フィルムであっても広帯域で所望の位相差を与え、しかも、波長分散特性が任意に制御することのできる光学フィルムに好適なモノマーを提供する。
【解決手段】式(1)で表される重合性化合物。


(式(1)中、C1は4級炭素原子又は4級ケイ素原子を表す。G1及びG2はメチレン基などの−CR−を表す。A1及びA2は2価の環状炭化水素基、2価の複素環基等を表す。D1およびD2は炭化水素基、複素環基を表し、D1及びD2は連結されていてもよい。B1及びB2は−C≡C−、−O−などの2価の基を表す。X1及びX2は式(2)で表される2価の基を表す。


[式(2)中、A3はA1と同じ意味を表し、B3は前記B1と同じ意味を表す。nは1〜4の整数を表す。]
E1及びE2はアルキレン基を表し、P1及びP2は重合性基を表す。) (もっと読む)


【課題】 帯電防止性、被着体への接着性、高温条件下での耐ブロッキング性、及び透明性に優れた積層体を提供する。
【解決手段】 樹脂フィルム層上に、接着性樹脂層、及び2種以上のラジカル重合性単量体の共重合体を含む層が積層されてなり、前記共重合体が、4級アンモニウム塩型カチオン性基を共重合体1g中に0.7〜3.0mmol有し、ガラス転移温度が50℃以上100℃以下である共重合体である積層体。 (もっと読む)


【課題】1枚の光学フィルムであっても広帯域で所望の位相差を与え、しかも、波長分散特性が任意に制御することのできる光学フィルムに好適な化合物を提供する。
【解決手段】式(1)で表される化合物。


(式(1)中、C1は4級炭素原子又は4級ケイ素原子を表す。A1及びA2は2価の環状炭化水素基、2価の複素環基等を表す。D1およびD2は炭化水素基、複素環基を表す。B1及びB2は−C≡C−、−O−などの2価の基を表す。X1及びX2は式(2)で表される2価の基を表す。


[式(2)中、A3はA1と同じ意味を表し、B3は前記B1と同じ意味を表す。nは1〜4の整数を表す。]
E1及びE2はアルキレン基を表し、P1及びP2は重合性基を表す。) (もっと読む)


要約
本発明は3次元物体の製造方法に関し、3次元構造が、可視光及び/又は紫外線で固体高分子材料へと硬化できる組成物の層群の、個々の層の紫外及び/又は可視光線への一連の曝露による、一連の選択的硬化によって製造され、その後このようにして形成された3次元構造を用いることにより3次元物体を製造し、続いて3次元構造を3次元物体から除去することを含む方法において、3次元構造を除去することが、高分子材料を化学的に切断することに加えて、同時又は続いて材料を溶媒又は混合溶媒中で溶解すること及び/又は材料を融解することによって達成されることを特徴とする方法に関する。 (もっと読む)


【課題】1枚の光学フィルムであっても広帯域で所望の位相差を与え、しかも、波長分散特性が任意に制御することのできる光学フィルムを提供する。
【解決手段】重合性化合物(1)に由来する構造単位と棒状重合性液晶化合物に由来する構造単位とを含有するポリマーを有効成分とすることを特徴とする光学フィルム。


(式(1)中、Yは屈曲構造を有する2価の基を表す。(G1)s及び(G2)tは、単結合又はメチレン基等を表す。A1及びA2は、2価の環状炭化水素基、2価の複素環基等を表す。B1及びB2は−C≡C−、−O−などの2価の基を表す。X1及びX2は、それぞれ独立に、式(2)で表される2価の基を表す。


[式(2)中、A3はA1と同じ意味を表し、B3は前記B1と同じ意味を表す。nは1〜4の整数を表す。]
E1及びE2はアルキレン基を表し、P1及びP2は重合性基を表す。) (もっと読む)


本発明の発見は、主たる重合性の基に加えて可逆的な光架橋性の基を含有する単量体を使用する。これらの材料の機械的な性質及びその光活性化された形状記憶効果の可逆性は、弾性率及び形状記憶効果における変化をもたらすための光照射を使用することの有効性を立証する。その好適な実施形態において、その反応混合物は、光反応性の基及び重合性の基を含む光反応性の単量体;より好ましくは、アクリラートに基づいたものである、単量体の混合物である、第二の単量体;多官能性の架橋剤、好ましくは1,6−ヘキサンジオールジアクリラート(HDODA);開始剤、好ましくは遊離基開始剤;及び第五の、自由選択の、変性させる重合体である構成成分を含む。その第二の単量体、架橋剤、及び開始剤の混合物は、その反応性の単量体が、中へ組み込まれる基礎材料の重合体マトリックスを含む。その光反応性の単量体の重合性の基は、その光反応性の単量体が、その基礎材料の重合体マトリックスと重合することを許容する。

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【課題】 レジスト溶剤への溶解性が良好で、かつ露光量が変化した際のパターンサイズの変動を小さく抑えることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】 (A)樹脂成分、および(B)酸発生剤成分を含有し、前記(A)樹脂成分が、カルボキシ基および/または水酸基を含有するモノ(α−低級アルキル)アクリルレート系構成単位(a0)、酸解離性溶解抑制基を含むモノ(α−低級アルキル)アクリルレート系構成単位(a1)、ラクトン環を有するモノ(α−低級アルキル)アクリルレート系構成単位(b1)、および式(1)から誘導される構成単位(c1)を有する共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化1】


(式中、Rは低級アルキル基または水素原子;R11、R12はそれぞれ独立して低級アルキル基;nは1〜5の整数;Aは2〜6価の有機基である。) (もっと読む)


【課題】 レジスト溶剤への溶解性が良好で、かつ露光量が変化した際のパターンサイズの変動を小さく抑えることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および(B)放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記(A)成分が、酸解離性溶解抑制基を含むコア部と、該コア部に結合し、かつカルボキシ基および/または水酸基を含有するモノ(α−低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a0)を含むアーム部とを有するスターポリマーであることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】 接着力、耐熱性、絶縁性、平坦性、耐化学性などの性能に優れ、特に液晶表示素子の有機絶縁膜形成時、感度、残膜率、UV透過率が優れているため層間有機絶縁膜として適し、オーバーコート用、ブラックマトリックス用、コラムスペーサ用またはカラーフィルター用レジスト樹脂として使用され、感度及び残膜率を向上させることができる。
【解決手段】 本発明によるネガティブ感光性樹脂組成物は、a)i)アリルアクリル系
化合物、ii)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物、iii)エポキシ基含有不飽和化合物、及びiv)オレフィン系不飽和化合物を共重合させて得られたアクリル系共重合体;b)光開始剤;c)エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマー;d)エポキシ基またはアミン基を含むシリコン系化合物;及びe)溶媒
を含む。 (もっと読む)


【課題】 プラスチックフィルム等の基材上に組成のバラツキが少ない無機層を形成でき、しかもガスバリア性、防湿性、透明性、耐熱性が優れ、かつ基材と無機層との密着性に優れた積層体を与えることのできるメタライジング用アンカーコート剤を提供すること。
【解決手段】 カルボキシル基不含有オレフィン系不飽和化合物(a1)とカルボキシル基含有オレフィン系化合物(a2)を重合させて得られるカルボキシル基含有共重合体(A)、および特定の構造を有するエポキシ化合物(b1)とメトキシシラン部分縮合物(b2)との脱メタノール反応によって得られるグリシジル基含有メトキシシラン部分縮合物(B)を、開環エステル反応させてなるメトキシ基含有シラン変性重合体(1)、ならびに有機溶剤(2)を含有することを特徴とするメタライジング用アンカーコート剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】 液晶表示装置において、山構造を有する有機膜パターンの裾部を含む表面における凹凸の発生を防止できるような、感光性樹脂組成物と、これを用いた薄膜トランジスタ基板の製造方法、及び共通電極基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 感光性樹脂組成物が、(A)イソボニルカルボキシレート系化合物5〜60重量%と、不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物またはこれらの混合物10〜40重量%と、エポキシ基含有不飽和化合物20〜40重量%と、オレフィン系不飽和化合物20〜40重量%と、を共重合させて得られたアクリル系共重合体100重量部、及び(B)1,2−キノンジアジド化合物5〜100重量部を含む。 (もっと読む)


【課題】
湿し水を用いたオフセット印刷において活性エネルギー線硬化性インキの改良により、地汚れ、パイリング等のトラブルを解消する活性エネルギー線硬化性組成物を提供する事にある。
【解決手段】
本発明はジグリセリン骨格を有する(メタ)アクリレートおよび疎水性超微粒子シリカを適宜添加する事により、湿し水を用いたオフセット印刷において、乳化による粘弾性変化が極めて小さく、更に乳化に伴う湿し水のインキへの取り込み能力を高め、パイリング地汚れ、濃度変動等のトラブルを解消する。 (もっと読む)


【課題】焼却時に有毒なガス等が発生せず、生産性が良好で、得られるアクリル系重合体を用いた成型品の耐水性、耐温水白化性が良好なアクリル系重合体粉末の製造方法及び、得られる成型品の耐水性、耐温水白化性が良好なプラスチゾル組成物を提供すること。
【解決手段】懸濁重合またはソープフリー乳化重合により単量体を重合して得られる重合体粒子を含む重合体分散液を得る工程と、得られた重合体分散液に反応性乳化剤を含むアクリル系単量体混合物を滴下して重合体粒子に被覆を形成したアクリル系重合体分散液を得る工程と、得られたアクリル系重合体分散液を噴霧乾燥することによってアクリル系重合体粉末を回収する工程とを含む。 (もっと読む)


本発明は、基移動重合により重合体ニトロキシドラジカルを製造する方法に関する。本発明の更なる態様は、ニトロキシドラジカルを有する重合体はもとより、その使用、特に有機ラジカル電池の活性電極材料としての使用である。 (もっと読む)


【課題】液浸リソグラフィに使用可能なフォトレジスト用のトップコーティング組成物及びそれを用いたフォトレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】アルキル保護基又は酸分解性基で置換されたカルボキシル基を有する第1反復単位、酸基を有する第2反復単位及び極性基を有する第3反復単位を含む少なくとも3個の異なる構造の反復単位を含むポリマー並びにアルコールを含む有機溶媒を含むトップコーティング組成物である。 (もっと読む)


【課題】 半導体リソグラフィーにおいて、現像コントラストやDOF等のリソグラフィー特性の優れた共重合体と該共重合体を含む組成物及び該共重合体を与えるチオール化合物を提供する
【解決手段】 本発明の半導体リソグラフィー用共重合体は、少なくとも、酸解離性溶解抑制基でアルカリ可溶性基を保護した構造を有する繰り返し単位(A)と、式(F)
【化46】


(式中、X及びXはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子が置換しても良い炭素数1〜4の炭化水素基を表し、Y11〜Y14は水素原子、若しくは、Y11とY12の間又はY13とY14の間で形成したエーテル結合或いは炭素数1〜2の炭化水素結合を表し、Y21〜Y25はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を表し、nは0又は1の整数を表す。)
で表される末端構造(F)を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 248nm(KrF)および193nm(ArF)の露光波長での十分な透過性と、フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、さらに液浸露光時の水に溶出することなく安定な被膜を維持し、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。
【解決手段】 フッ素原子含む基をその側鎖に有する繰返し単位を含み、水との接触角が90°以上となる膜を形成することができ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が2,000〜100,000であることを特徴とする液浸上層膜用重合体であって、この重合体は、液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための液浸上層膜形成組成物の樹脂成分として利用できる。 (もっと読む)


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