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Fターム[4J100BC04]の内容

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【課題】 紫外線等の照射によって架橋による3次元硬化が可能な重合体、及びこれを含有する樹脂組成物において、反応成形時の収縮等による歪(ゆが)みや割れを防止することができ、最表面の硬化不良をも防止できるものを提供する。
【解決手段】下記に示すような1〜3個のエポキシ基及び1個のラジカル反応基を分子中に含むエポキシ基含有モノマーを、単独で、または1個のラジカル反応基を分子中に含む非エポキシ基含有モノマーとの組み合わせで、ラジカル反応基の重合により、可塑性、熱可塑性または液状の重合体を得る。この重合体は、エポキシ当量が200〜2000(g/eq)であり、かつ、重量平均分子量が2000〜20万である。紫外線等の照射により、光カチオン重合機構による3次元架橋により硬化が行われる。この硬化の際の体積収縮率は2%未満とすることができ、各種光学材料として使用可能な硬化物を得ることができる。
【化1】
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【課題】 光拡散性樹脂、およびこの光拡散性樹脂を含む光拡散性光学材料組成物、さらにはこの光拡散性光学材料組成物を熱成形して得られる光拡散性光学物品を提供する。
【解決手段】 (メタ)アクリル酸エステルモノマーと芳香族ビニルモノマーとを含むモノマー組成物を重合して得られる共重合体の構成単位において芳香族ビニルモノマー由来の構成単位(Bモル)に対する(メタ)アクリル酸エステルモノマー由来の構成単位(Aモル)のモル比(A/B)が0.25〜4.0である共重合体の芳香環の25%以上70%未満を水素化反応することによって得られる光拡散性樹脂。
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【課題】 空気界面近傍の配向欠陥のない光学異方体を提供することにあり、該光学異方体を作製することのできる重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】 1)フッ素基を有する側鎖と一般式(h)で表される基を有する側鎖を有し、
【化1】


(h)
(式中、nは0又は1の整数を表わし、Y及びYはそれぞれ独立して、単結合、−CHCH−等を表わし、Yは水素原子、アルキル基等を表わす。)
2)フッ素基含有率が3〜30質量%であり、3)一般式(h)で表される基を有する側鎖の全側鎖に対する割合が9〜95モル%であり、4)質量平均分子量が10000〜300000である(メタ)アクリル共重合体(H)を、0.1〜6.0質量%含有する重合性液晶組成物、及び、該重合性液晶組成物を配向機能を有する基板上に塗布し、配向させた状態で重合させて得られる光学異方体を提供する。 (もっと読む)


【課題】 ホルムアルデヒド発散量が充分に低減されることにより、化学物質の発散に対する衛生上の支障を生じるおそれが充分に抑制され、建築分野等における建築材料の仕上げ材等に好適であるラジカル硬化性樹脂を含有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 2価以上のアルコールを含むアルコール類と(メタ)アクリル酸とのエステル化物を主成分とするラジカル硬化性樹脂を含有するラジカル硬化性樹脂組成物であって、該ラジカル硬化性樹脂組成物は、アミン化合物、β−ジケトン化合物、尿素化合物、チオ尿素化合物、ヒダントイン化合物及びチウラムスルフィド化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を必須とし、該化合物の総含有量は、ラジカル硬化性樹脂100重量部に対して、0.005重量部以上、10重量部以下であるラジカル硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】DUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に、解像性がよく、ラインエッジラフネスが小さく、ディフェクトおよびパーティクルの生成も少ないレジスト用重合体を提供する。
【解決手段】2−エチル−1,3,3,トリメチルビシクロ[2.1.1]ヘプタン−2−イル−メタクリレート,2−エチル−1,7,7,トリメチルビシクロ[2.1.1]ヘプタン−2−イル−メタクリレート,2−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−exo−2−イル−メタクリレート,2−エチル−エチルトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−exo−8−イル−メタクリレート等、エステル酸素と特定位置の炭素との間の結合が酸素によって開裂し脂環構造が脱離しうる構造特性を与える特定物質と、2−または3−シアノ−5−ノルボルニルメタクリレート,1−メタクリロイルオキシ−3−ヒドロキシアダマンチル等の特定物質を反応させてなるレジスト用重合体。 (もっと読む)


【課題】 微細解像性に優れ、レジストパターンのLERおよびSWの少なくとも一方を改善できる化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むレジスト組成物であって、沸点が220℃以上の高沸点溶剤成分(X)を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】 分子量及び分子量分布の制御された高分子量のピペリジル基を有する重合体又は共重合体を提供すること。
【解決手段】 下記一般式(I)で表される構成単位より構成される、数平均分子量30,000以上であるピペリジル基含有高分子量重合体又は共重合体。
【化1】
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【課題】ヒドロキシル基および/またはアセチルオキシ基を含有する環状オレフィンの付加重合活性に優れた環状オレフィン付加重合触媒及び環状オレフィン付加重合体の製造方法、環状オレフィン付加重合体を提供。
【解決手段】カルベン化合物を配位子とする、周期表第10族遷移金属の錯体、好ましくは一般式(1)で表されるカチオン錯体を重合触媒として用いる。


(式中、Lはカルベン化合物配位子、Lは中性の電子供与性配位子を示す。LとLは互いに結合して多座配位子を形成していてもよい。〔Yは一価のアニオンを表す。) (もっと読む)


【課題】官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、かつ、Tgの低下をもたらさない含フッ素ポリマー。
【解決手段】式(1)で表される含フッ素ジエンを環化重合してなるモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。CF2=CFCH2−CHQ−R2・・・(1)ただし、式(1)中Qは(CH2nC(CF32OR1(nは0または1であり、R1は水素、炭素数20以下のアルキル基、炭素数15以下のアルコキシカルボニル基またはCH23(R3は炭素数15以下のアルコキシカルボニル基)であり、R2は環状不飽和炭化水素基または少なくとも1つの水素原子が環状不飽和炭化水素に置換されたアルキル基を表す。R2において、環状不飽和炭化水素基中の炭素原子の一部はヘテロ原子やカルボニル基に置換されていてもよく、また環状不飽和炭化水素基中の水素原子の一部はフッ素原子、アルキル基、フルオロアルキル基に置換されていてもよい。 (もっと読む)


【課題】ガス及び薬液のバリア性に優れるテトラフルオロエチレン共重合体の提供。
【解決手段】テトラフルオロエチレンに基づく繰り返し単位(a)、及びCF=CFOR(ここで、Rはシクロヘキサン骨格を含むペルフルオロアルキル基である。)で表されるペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく繰り返し単位(b)を含有し、(a)/(b)=90/10〜99.8/0.2(モル比)であり、380℃における容量流速が0.1〜1000mm/秒であるテトラフルオロエチレン共重合体(例えば、テトラフルオロエチレン/ペルフルオロ(シクロヘキシルメチルビニルエーテル)共重合体。)。 (もっと読む)


【課題】 DOFの広いポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記(A)成分が、相互に構造が異なるn[nは4〜6の整数]種の構成単位からなる共重合体であり、該共重合体中の各構成単位の割合がいずれも0モル%超100/(n−1)モル%以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明はDTMP4A等と同等以上の硬化性、印刷適性(水幅)を持ち低コストのアクリルモノマー、さらにそれを使用した紫外線もしくは電子線等の照射により硬化し活性エネルギー線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】脂肪酸(C2m±1−COOH)とアクリル酸(CH2=CH−COOH)との反応による、(a1+a2)モルの下記式1、2で示される多量体混合物(A)と、bモルのポリオール(B)とをエステル化反応させて得られる脂肪酸変性アクリルモノマー(C)。
なお、多量体混合物(A)は特定の式を満足するものである。 (もっと読む)


【課題】配線等のパターニングにおける従来の現像工程を省略し、サイドエッチングが無く、低コスト、高スループットを実現可能とした表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板SUB上に成膜した金属膜MTを覆って酸現像タイプのネガ型ホトレジストNRGを塗布し、所要の開口パターンを有するネガ型露光マスクNMKを通してホトレジストを露光して露光部のホトレジストを硬膜化し、酸現像液を用いて硬膜化したホトレジストの露光部を残し、露光されなかった非露光部を除去するとともに、当該非露光部のホトレジストの除去で露出した金属膜MTをエッチングして除去した後、ホトレジストNRGを除去する。 (もっと読む)


【課題】 臭気、残留溶剤量が少なく、架橋可能な加水分解性シリル基を含有するメタアクリル酸エステル系重合体(A)の重合に用いることができる溶媒を用いた製造方法の提供。
【解決手段】 架橋可能な加水分解性シリル基を含有するメタアクリル酸エステル系重合体(A)の製造方法であって、エチルアルコール系溶媒中で(メタ)アクリル酸エステル単量体を主成分とする単量体を重合せしめる重合体(A)の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 水中では不溶であり電解質水溶液中では溶解又は膨潤する塩溶性マイクロカプセルの提供、また、この特徴に基づく放出機能を利用して、化粧料、衛生用品、芳香剤、外用剤、繊維処理剤、毛髪処理剤等の様々な用途に好適に使用することができる組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のマイクロカプセルは、塩溶性高分子を膜材とすることを特徴とする。用いる塩溶性高分子としては、水に不溶であり、0.01〜10%以上の塩濃度で溶解するスルホベタイン系高分子であるものが好ましい。
また、本発明の組成物は、上記マイクロカプセルを含有することを特徴とするものであり、組成物としては、例えば、化粧品組成物、衛生用品組成物、芳香剤組成物、繊維処理剤組成物などが挙げられる。 (もっと読む)


【課題】 波長が300nm帯以下の露光光に対する透過性に優れると共に、基板密着性及び現像溶解性に優れるレジスト材料の提供。
【解決手段】 一般式(1)で表わされるユニットを含むベース樹脂を有するレジスト材料。
(1)


但し、R5 は水素原子、炭素数1以上で且つ20以下の直鎖状のアルキル基、分岐状若しくは環状のアルキル基、フッ素化されたアルキル基、又は酸により脱離する保護基であり、R6 は環状エステル化合物を有する基、水酸基を含む脂環族化合物を有する基、又はヘキサフルオロイソプロピルアルコールを含む化合物を有する基。 (もっと読む)


【課題】 塗料、接着剤、粘着剤、インキ用レジン、レジスト、成型材料、光学材料等の構成成分樹脂の原料として有用な(メタ)アクリル酸エステル、該(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び該重合体を用いたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 式(1)の(メタ)アクリル酸エステル及びこれを単量体とする重合体及び該重合体をレジスト樹脂とすることにより上記課題は達成される。
【化1】


(式中、Rは水素原子またはメチル基であり、R1〜R4は、R1、R2の少なくとも一つとR3、R4の少なくとも一つとが一緒になって、それぞれが結合している炭素原子と共に環式炭化水素基を形成し、環を形成しない残りのR1〜R4は水素原子またはアルキル基を表わす。) (もっと読む)


【課題】 波長が300nm帯以下の露光光に対する透過性に優れると共に、基板密着性及び現像溶解性に優れるレジスト材料を提供する。
【解決手段】 レジスト材料は、[化1]の一般式で表わされる第1のユニットからなる共重合体を含むベース樹脂を有する。
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【課題】官能基含有重合体を、黄変や高分子量化、熱劣化を惹き起こさずに、比較的小規模の装置により短時間でかつ多量に連続して処理する方法を提供する。
【解決手段】1つのベント口を有しかつ内部が減圧および/または加熱されている混練機の供給口から、揮発成分を含んでいてもよい官能基含有重合体(A)と該重合体(A)を溶解している有機溶剤(B)とを含む官能基含有重合体の有機溶剤溶液(C)を供給し、混練中に揮散する有機溶剤(B)および揮発成分をベント口から排出しつつ官能基含有重合体を溶融状態または固体状態で取出し口から回収することを特徴とする揮発分含有量が低減化された官能基含有重合体の製造法。この製造法は、特に粉体塗料用含フッ素共重合体の製造に適する。 (もっと読む)


【解決手段】 式(1)及び(2)で示される繰り返し単位をそれぞれ1種以上含む重量平均分子量1,000〜50,000の高分子化合物。
【化1】


[R1、R3はH又はCH3、R4はアルキレン基、R2は式(R2−1)〜(R2−4)から選ばれるラクトン構造を有する置換基。
【化2】


(YはCH2又はO、YがCH2の場合、R5はCO27、YがOの場合、R5はH又はCO27、R6はH又はアルキル基、R7はアルキル基又は該アルキル基の炭素−炭素結合間に酸素原子が挿入された基。)]
【効果】 本発明の高分子化合物は、レジスト材料、特に化学増幅型ポジ型レジスト材料のベース樹脂として使用されて、高い感度、解像性、ドライエッチング耐性を与えると共に、基板密着性が良好で、パターン側壁の荒れが防止されたレジストパターンを与える。 (もっと読む)


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