【課題】線幅感度が高く、直線性に優れ、現像におけるしわ発生が抑制され、耐熱性に優れた硬化膜が形成され、ポストベーク後の輝度低下が小さいパターンを形成しうる着色感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）分子内にアリルメタクリレート化合物からなる構造単位、及びＮ位−置換マレイミド基を有するアクリレート化合物構造単位から選択される構造単位を含むバインダー樹脂、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）チオフェンを含むカルバゾール構造を有するオキシム化合物からなる光重合開始剤、及び（Ｅ）溶剤を含有し、（Ｄ）光重合開始剤の含有量が、５質量％〜１５質量％である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れ及び欠陥が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^２は、フッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１は置換基を有していてもよいスルトン環を表す。］ （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が環構造を有する酸不安定基で置換されている（メタ）アクリレートの繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物と、ジヒドロキシナフタレンのノボラック樹脂と、光酸発生剤とを含有するポジ型レジスト材料。
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、高反射の段差基板上での解像性と埋め込み特性と密着性に優れ、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージンが良好であり、欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基；Ａ^１はアルカンジイル基；Ｒ^２はフッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^３は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子；環Ｘ^１は、複素環を表す。］ （もっと読む）

【課題】樹脂組成物の重合硬化時における収縮が大きいため、重合硬化時に発生する歪が大きい。また、エステル(メタ)アクリレートの分子量が大きい場合は粘度が高くなり、樹脂層は黄変劣化しやすい。
【解決手段】窒素（Ｎ）を含まない以下の［化１］で表わされる非Ｎエステル（メタ）アクリレートと、多官能イソシアヌレート化合物と、重合開始剤とを含む樹脂組成物が重合されている樹脂層を備える複合光学素子としたものである。
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【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるとともに、得られたレジストパターンの欠陥が少なく、良好な形状が得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｅ）溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；環Ｘ^１は置換されていてもよい複素環を表す。］ （もっと読む）

【課題】低発熱性と耐摩耗性と貯蔵弾性率とを鼎立させることができるゴム組成物を提供する。
【解決手段】本発明のゴム組成物は、変性共役ジエン系重合体、及び共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体、並びに充填材を含むゴム組成物であって、該変性共役ジエン系重合体は、その分子鎖中に該充填材と親和性を持つ官能基を有する。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れ及び欠陥の少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ａ¹はアルカンジイル基；Ｒ²はフッ素含有炭化水素基；Ｒ^３及びＲ^４は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は飽和炭化水素基を表し、該基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｒ^５は、環状エーテル構造を含む基；Ｚ^１＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ａ^１はアルカンジイル基；Ｒ^２はフッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環；Ｚ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｚ^２は、単結合又はカルボニル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性を有し、かつ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂及び（Ｂ）アルカリ現像液の作用により開裂する構造を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ¹は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。Ｒ²は、フッ素原子を有する炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｅ）溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^２は、フッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１は、置換基を有していてもよい炭素数３〜３４のスルトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】ネガ型現像プロセスにおいて、エッチング耐性に優れたレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法、及び該レジストパターン形成方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、レジスト膜を露光する工程、及びレジスト膜を、有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、基材成分（Ａ）として、アクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有する樹脂成分（Ａ１）を用い、酸発生剤成分（Ｂ）が、環構造をアニオン部に有する酸発生剤（Ｂ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージンが良好であり、欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、酸発生剤及び式（ＩＡ）で表されるアニオンを有する塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ａ¹はアルカンジイル基；Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^１Ａ及びＲ^２Ａは、それぞれ、水素原子、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基又はアラルキル基を表し、これら基は置換基を有していてもよく、あるいはＲ^１Ａ及びＲ^２Ａは互いに結合してＮとともに環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】化学発光免疫診断測定等において使用する固相表面や器具・容器などへのタンパクなどの非特異吸着を防止することができる生体関連物質の非特異吸着防止剤、ならびに、該非特異吸着防止剤を用いた物品のコーティング方法を提供する。
【解決手段】生体関連物質の非特異吸着防止剤は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位（Ａ）と、特定の式で表される繰り返し単位（Ｂ）とを有する共重合体を含有する。


・・・・・（１） （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有し、かつ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す；Ａ¹は炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す；Ｒ²は、フッ素原子を有する炭素数１〜１０の炭化水素基を表す；環Ｗ^１は炭素数２〜３６の飽和複素環を表す；Ｒ^３は炭素数１〜３０の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる１以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっている。］ （もっと読む）

【課題】透明性、耐衝撃性が良好かつ吸湿性の低いアクリル樹脂板を提供することであり、また該樹脂板の積層体及び表示装置を提供する。
【解決手段】炭素数６〜２０の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）１５〜５０質量％、炭素数１〜５の直鎖または分岐した炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステル（Ｂ）４５〜８４質量％、及び下式（１）で表されるジ（メタ）アクリル酸エステル（Ｃ）０．５〜７質量％を含む重合性組成物を重合して得られるアクリル樹脂板。
ＣＨ_２＝ＣＲ−ＣＯＯ−（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ−ＣＯＣＲ＝ＣＨ_２・・・（１）
但し、Ｒは水素原子又はメチル基、ｎは５〜１６の整数を示す。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有し、かつ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹はアルカンジイル基；Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子；ｍ’及びｎ’は、それぞれ独立に、０〜４の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ＩＡ）で表されるアニオンを有するヨードニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［式（ＩＡ）中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^２は、炭素数７〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数７〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合してＮとともに炭素数４〜２０の環を形成してもよい。］
（もっと読む）

【課題】本発明の目的は、基材や下地などとの密着性が良好であり、膜硬度、耐熱性および耐酸性が高く、かつ透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い感光性樹脂組成物と、それを用いたタッチパネル用絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、多官能単量体（Ｃ）と、を含有する感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が一般式（１）で表される化合物（ａ１）と、化合物（ａ１）と共重合可能な他の化合物（ａ２）とを共重合してなる樹脂（Ａ１）を含み、多官能単量体（Ｃ）が、１分子中に７個以上のエチレン性不飽和結合を有することを特徴とする感光性樹脂組成物によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）