【課題】優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位（ａａ）と、式（ａｂ）で表される構造単位（ａｂ）とを有する樹脂及びこの樹脂を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１及びＲ^ab1は水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により、酸素原子との間の結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断されない原子又は基；ｎ^aa１は１又は２を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、ニトリル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ａ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】パターン形成性、ＭＥＥＦ性能及びエッチング耐性に優れる感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物を提供すること。
【解決手段】式（１）を有する重合体及び酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】太陽電池として実際に使用される環境だけでなく、太陽電池モジュールを評価する際に検討される高温多湿の雰囲気中における促進試験を行なった場合であっても、太陽電池に用いられる充填材に対する接着性および耐候性に優れ、電気出力特性を維持し、バックシートの外観不良が生じがたい太陽電池モジュール用接着剤、太陽電池モジュール用バックシート、太陽電池モジュールおよび太陽電池を提供すること。
【解決手段】太陽電池モジュールに用いられるバックシートと充填材と貼り合わすために用いられる接着剤であって、ヘテロ原子を含む１，５−ジエン構造含有単量体およびヘテロ原子を含む１，６−ジエン構造含有単量体からなる群より選ばれた少なくとも１種のジエン構造含有単量体を含有する単量体成分を環化重合させてなるヘテロ原子を含む環構造を主鎖に有する重合体を含有することを特徴とする太陽電池モジュール用接着剤。 （もっと読む）

【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物、及び、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法を用いて製造され、明度およびコントラスト比に優れ、かつ、色むら、濃度むらの発生が抑制されたカラーフィルターの製造に好適に用いることのできるカラーフィルター用インクを提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルター用インクは、顔料と、式（１）で表される単量体成分ｍ１、カルボキシル基または酸無水物基を有する単量体成分ｍ２、および、式（３）で表される単量体成分ｍ３を含む重合体Ｍと、顔料を分散させる分散媒とを含み、分散媒は、成分ａと、成分ａよりも高い沸点を有する成分ｂとを有し、２５℃における成分ｂの表面張力は、２５℃における成分ａの表面張力よりも低いことを特徴とする。


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【課題】リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として好適な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）として、一般式（ａ５−１）で表される構成単位（ａ５）を有する高分子化合物（Ａ１）を含むレジスト組成物。
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【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩を有効成分として含有する酸発生剤と、式（ａ３−２）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は２価の飽和炭化水素基；Ｌ^２は単結合又は２価の飽和炭化水素基；Ｒ^１は脂肪族炭化水素基；Ｒ^２は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基等；Ｚ^＋は有機対イオン；Ｌ^a5は、酸素原子又は＊−Ｏ−（ＣＨ₂）_k3−ＣＯ−Ｏ−、ｋ３は１〜７の整数、＊は−ＣＯ−との結合手；Ｒ^a22はカルボキシ基、シアノ基又は脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】アルコール系溶剤を含有する有機溶剤に溶解してなるレジスト組成物において、微細な寸法のパターンを良好な形状で形成できるレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを、アルコール系溶剤を含有する有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸の作用により極性が増大する共重合体（Ａ１）を含有し、該共重合体（Ａ１）は、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であってラクトン含有環式基を含む構成単位（ａ２）が分子内で均一に分散して配置されているものであることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】新規な樹脂、該樹脂を用いたレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ａ−０）で表される構成単位（ａ０）、及び、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大することを特徴とするレジスト用樹脂。式（ａ−０）中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基を表し；ａは０〜２の整数であり；ｂは１〜３の整数であり；ｃは１〜２の整数であり；ａ＋ｂは２以上の整数である。
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【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）のレジストパターンの製造。
【解決手段】式（ａａ）、（ａｂ）で表される構造単位を有する樹脂（Ｘ）及び酸発生剤（Ｂ）を含有する組成物。


［式中、Ａ^aa1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等で表される基等；Ｒ^aa2は、脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2は芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】フォーカス余裕度及び疎密依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する第１樹脂と、（Ｂ）フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含み且つ前記第１樹脂とは異なった第２樹脂と、（Ｃ）カチオン部に窒素原子を含み且つ活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩とを含有している。 （もっと読む）

【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、アルカリ現像液に対する反応性に優れ、現像欠陥を抑制することができ、さらに被覆率依存性が良好な感放射線性樹脂組成物、これに用いることができる重合体及びこの重合体のモノマーとなる化合物を提供することである。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。Ｒ２は、下記式（２）で表される酸解離性基である。
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【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及びこの樹脂と酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１、Ｒ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により酸素原子との結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断されない１価の基；ｎ^aa１、ｎ^ab1は１又は２；Ａ^aa１は炭化水素基；Ａ^ab1は炭化水素基又は単結合；Ｗ^１は脂環式炭化水素基；Ａ^ab2は脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2はフッ化アルキル基等を表す。］ （もっと読む）

【課題】フォトレジストポリマーに重合可能な新規光酸発生剤化合物、およびこの重合性光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）を有する化合物：


式中、Ｑはハロゲン化されているかもしくはハロゲン化されていないＣ_２−３０オレフィン含有基であり、Ａはフッ素置換Ｃ_１−３０アルキレン基、フッ素置換Ｃ_３−３０シクロアルキレン基、フッ素置換Ｃ_６−３０アリーレン基、もしくはフッ素置換Ｃ_７−３０アルキレン−アリーレン基であり、Ｚはスルホナート、スルホンアミドもしくはスルホンイミドを含むアニオン性基であり、並びにＧ^＋は特定のカチオンである。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性が高い塗膜を得ることができる高分子化合物を提供すること。
【解決手段】式（１）：


［式（１）中、Ｒ^１は炭素数２〜８の２価の炭化水素基を表し、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す；ｍは１〜２０の整数を表し、ｍが２以上の整数である場合、複数のＲ^１は互いに同一でも異なっていてもよい］
で表される単量体（ａ）に由来する構造単位、及び
カルボキシ基とビニルオキシ基とを有する単量体（ｂ）に由来する構造単位
を含む高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターでのレジストパターン製造用レジスト組成物の提供。
【解決手段】構造単位（ａａ）と、構造単位（ａ１−１）又は構造単位（ａ１−２）の構造単位（ａｂ）とを有する樹脂（Ａ１）；構造単位（ａａ）を有さず、樹脂（Ａ１）が有する構造単位（ａｂ）と同一の構造単位（ａｂ）を有する樹脂（Ａ２）；酸発生剤を含有し、かつ「０．８＜α／β＜１．２、αは樹脂（Ａ１）の全構造単位に対する樹脂（Ａ１）中の構造単位（ａｂ）のモル％；βは樹脂（Ａ２）の全構造単位に対する樹脂（Ａ２）中の構造単位（ａｂ）と同一の構造単位のモル％」の関係を満たすレジスト組成物。
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【課題】複素環アミノ誘導体含有化合物と重合性窒素含有誘導体含有化合物とを反応させることによって形成される準安定性窒素含有重合体を提供する。
【解決手段】重合性窒素含有誘導体含有化合物（Ａ）と複素環アミノ誘導体含有化合物（Ｂ）とを反応させることによって形成される準安定性窒素含有重合体であり、化合物（Ａ）が反応型末端官能基を備えるモノマー（単量体）であり、マレイミド含有化合物であり、化合物（Ｂ）が開始剤としての複素環アミノ誘導体である。化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とのモル比が１０：１から１：１０である。準安定性窒素含有重合体が５５℃で１ヶ月間保存された後、狭い分子量分布の変化率が２％未満である。 （もっと読む）

【課題】反射防止フィルムとの密着性が良好であり、且つ糊残りせずに剥がすことが可能な保護フィルム付の反射防止フィルム積層体を提供すること。
【解決手段】少なくとも１種のシリコーン（メタ）アクリレートと、少なくとも１種の２官能（メタ）アクリレートとを含むことを特徴とする、モスアイ構造を有する反射防止フィルムの保護フィルム用（メタ）アクリレート系重合性組成物、それを用いた反射防止フィルム積層体及びその積層体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸強度ｐＫ_ａが−２〜３の酸を発生するスルホニウム化合物、
（Ｂ）塩基強度ｐＫ_ｂが５〜１０の塩基性化合物、及び
（Ｃ）下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される各繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂
を含有する感活性光線性又は感放射性樹脂組成物。


上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ_１は水素原子又はアルキル基を表す。 （もっと読む）