【課題】レジストパターンを形成する際の露光マージン（ＥＬ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）に優れるレジスト組成物用の重合体を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される基及び式（ＩＩ）で表される基を有する重合体。［Ｒ^１は炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｒ^２は置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^３は置換基を有してもよい炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。Ｂ^１は単結合、−（ＣＨ_２）ｍ−ＳＯ_２−Ｏ−^＊１又は−（ＣＨ_２）ｍ−ＣＯ−Ｏ−^＊１を表す。］
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【課題】パターンを形成する際のマスクエラーファクター（ＭＥＦ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）に優れるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される基及び式（ＩＩ）で表される基を有し、酸に不安定な基を有さない重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸との作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［Ｒ^１は、炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｒ^２は、炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｒ^３は、水素原子又は炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。＊は結合手を表す。］
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【課題】 ＬＷＲ、パターン倒れ性能及びＤＯＦに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）下記一般式（Ｉ）により表される部分構造を備えた繰り返し単位を含み、且つ、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、（Ｂ）プロトンアクセプター性官能基を有し、且つ、活性光線又は放射線の照射により分解して、プロトンアクセプター性が低下、消失、又はプロトンアクセプター性から酸性に変化した化合物を発生する化合物（ＰＡ）と、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有し、前記樹脂の前記組成物の全固形分に対する含有率は５０質量％以上である。
【化１】


式中、Ｒ_１３は、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】パターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に、第一のポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜を形成し、第一のレジスト膜を露光し、露光後ベークを行い、アルカリ現像して第一のレジストパターンを形成する工程（１）と、第一のレジストパターンが形成された支持体上に、第一のレジスト膜を溶解しない有機溶剤を含有する第二の膜形成用組成物を塗布して第二の膜を形成し、アルカリ現像することによりレジストパターンを形成する工程（２）とを有し、第一のポジ型レジスト組成物は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分及び露光により酸を発生する酸発生剤成分）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分が酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する樹脂成分を含有することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】粒体を用いた造形時において粒体の飛散を抑制することが可能な造形用スラリー
を提供するとともに、この造形用スラリーを用いた造形方法を提供する。
【解決手段】
造形物用スラリーは、造形物を構成する疎水性粒体と、造形物を構成するとともに疎水性
粒体と同系であるモノマー及びオリゴマーの少なくとも一方からなる疎水性液状体とを混
合してなる。同系とは、疎水性粒体を構成する繰り返し単位構造の主骨格と、疎水性液状
体の単位構造の主骨格とが同一であること、該単位構造における側鎖官能基や該単位構造
における主骨格の一部が異なるものの、疎水性液状体と疎水性粒体との相互作用が疎水性
粒体間の相互作用と略同じになる程度に、該単位構造の主骨格同士が一部重複することを
意味している。それゆえに、疎水性粒体及び疎水性液状体がそれぞれ共重合体である場合
には、これらに含まれる原子の組成比が一致していないものも同系であるとする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、懸濁重合法にて、反応容器内のカレットや二次凝集物の生成を防ぎ、工程安定性、生産性が向上するトナー用スチレンアクリル系バインダー樹脂を製造する方法を提供する。
【解決手段】スチレン系単量体と（メタ）アクリル酸エステル系単量体を含む単量体混合物を、シリコーン型消泡剤やポリアルキレングリコール系やポリエーテル系、高級アルコール、界面活性剤等の有機系消泡剤の存在下で懸濁重合させる、トナー用スチレンアクリル系樹脂を製造する方法にある。 （もっと読む）

【課題】単安定性を示す強誘電性液晶を用いた液晶表示素子において、強誘電性液晶の自発分極の向きを制御することが可能な液晶表示素子を提供する。
【解決手段】第１基材と、第１基材上に形成された第１電極層２ａと、第１電極層上に形成された第１配向膜３ａとを有する第１配向処理基板、および、第２基材と、第２基材上に形成された第２電極層２ｂと、第２電極層上に形成された第２配向膜３ｂと、第２配向膜上に形成され、反応性液晶を固定化してなる反応性液晶層４とを有する第２配向処理基板を、第１配向膜と反応性液晶層とが対向するように配置し、第１配向膜と反応性液晶層との間に強誘電性液晶を挟持してなる液晶表示素子であって、強誘電性液晶が単安定性を示すものであり、第２電極層が負極となるように電圧を印加したときに、強誘電性液晶の分子方向が上記第１配向処理基板面に対して平行に強誘電性液晶のチルト角の約２倍変化する。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される塩とを含むレジスト組成物。［Ｒ^１〜Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜１２の炭化水素基又は炭素数２〜１３のアシル基を表す。Ｒ^６及びＲ^７は水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。Ｒ^８〜Ｒ^１０は水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素基を表すか、Ｒ^８及びＲ^９が互いに結合して環を形成し、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ^１１−で置き換わっていてもよい。Ｒ^１１は水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素基を表すか、Ｒ^８と結合して環を形成する。］
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【課題】経時安定性に優れる偏光子を製造可能な組成物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される液晶化合物、及び式（２）で表される液晶化合物を含む組成物。［Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、１，４−フェニレン基又はトランス−シクロへキサン−１，４−ジイル基を表す。Ｕ^１は、水素原子又は重合性基を表す。Ｕ^２及びＺは、重合性基を表す。Ｖ^１、Ｖ^２及びＴ^１は、アルカンジイル基を表す。Ａ^１及びＡ^２は、１，４−フェニレン基を表す。Ａ^３は、１，４−フェニレン基又はナフタレン−１，４−ジイル基を表す。Ａ^４は、フェニル基、フェニルフェニル基、等を表す。Ｙ^１、Ｙ^２、Ｗ^１、Ｗ^２、Ｂ^１、Ｂ^２及びＢ^３は、２価の連結基又は単結合を表す。］
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【課題】塩素化ポリオレフィンを含まず、ポリプロピレンとの接着性に優れた塗膜を与えるエマルションが求められている。
【解決手段】下記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含むことを特徴とする水性エマルション。
（Ａ）α，β−不飽和カルボン酸（１）に由来する構造単位と、
下記＜化合物群＞から選ばれる少なくとも一つの化合物（２）に由来する構造単位と
を含むアクリル樹脂
＜化合物群＞
リン酸基と（メタ）アクリロイル基とを有するモノマー及びその塩、
スルホ基と（メタ）アクリロイル基とを有するモノマー及びその塩、
エポキシ基と（メタ）アクリロイル基とを有するモノマー、
フタル酸に由来する基と（メタ）アクリロイル基とを有するモノマー及びその塩、
炭素数２〜２０の脂肪族不飽和スルホン酸及びその塩、並びに、
炭素数６〜２０の芳香族スルホン酸及びその塩
（Ｂ）熱可塑性ポリマー（ただし、（Ａ）とは異なる）
（Ｃ）水 （もっと読む）

【課題】パターン倒れマージンやブリッジマージンに優れ、かつ基板上にレジスト組成物の残渣が残らず、更には散乱（フレア）光に対する耐性に優れた、Ｘ線、電子線又はＥＵＶ光露光用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】（ａ）活性光線又は放射線の照射により、下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物、及び
（ｂ）側鎖にアリール基を有する（メタ）アクリル酸エステル構造単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とする、Ｘ線、電子線又はＥＵＶ光露光用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性、硬化性に優れた含フッ素（メタ）アクリル変性有機ケイ素化合物、これを含む硬化性組成物、及び紫外線又は電子線硬化型ハードコート組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）


（Ｒｆはフルオロアルキル又はフルオロポリエーテル構造を含む一価又は二価の基である。Ｑ¹はＳｉ原子を有する（ａ＋ｂ）価の、シロキサン、シルアルキレン、シルアリーレン構造の連結基、Ｑ²は二価炭化水素基であり、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子又は一価炭化水素基であり、Ｒｆが一価のときａ’は１、ａは１〜６の整数であり、Ｒｆが二価のときａは１、ａ’は２である。ｂは１〜２０の整数である。）
で表される含フッ素エポキシ変性有機ケイ素化合物に、（Ｂ）（メタ）アクリル基を有する不飽和モノカルボン酸を付加反応させることにより得られた含フッ素（メタ）アクリル変性有機ケイ素化合物。 （もっと読む）

【課題】螺旋誘起力が大きく、他の液晶化合物との溶解性に優れ、重合性を有する液晶性化合物及び重合体を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。この化合物を含有する液晶組成物、およびこの化合物または組成物を重合させることによって得られる重合体。


式（１）において、Ｑ^１〜Ｑ^４は独立して、式（２）、水素、ハロゲン、アルキルなどであり、Ｑ^１〜Ｑ^４の少なくとも２つはそれぞれ異なる基を表してもよい式（２）であり；式（２）において、Ａは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレンなどであり；Ｘは独立して、単結合、アルキレンなどであり；Ｚは、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−などであり；ｎは、０〜３の整数であり；Ｐは、３種類の重合性基である。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、感光性を有するため微細加工が可能であり、希アルカリ水溶液で現像可能であり、低温（２００℃以下）で硬化可能であり、得られる硬化膜が柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性、難燃性に優れ、硬化後の基板の反りが小さい感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも（Ａ）バインダー樹脂と、（Ｂ）感光性樹脂と、（Ｃ）光重合開始剤とを含み、上記（Ａ）バインダー樹脂が、少なくとも（ａ）（メタ）アクリル酸と、（ｂ）下記一般式（１）で示されるホスフィンオキサイド化合物とを共重合させたものであることを特徴とする感光性樹脂組成物を用いることで上記課題を解決しうる。
【化１】
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【課題】水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、式［Ｒ^１_ａＳｉＸ_４−ａ］で表されるシラン化合物、及び式［ＳｉＸ_４］で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも１種を加水分解縮合させて得られる構造を有し、且つＧＰＣによる重量平均分子量が１０００〜２０００００であるケイ素含有重合体と、フッ素含有重合体と、酸発生剤と、溶剤とを含有する〔尚、各式におけるＲ^１はフッ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、又は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、Ｘは塩素原子、臭素原子又はＯＲ（Ｒ：１価の有機基）を示し、ａは１〜３の整数を示す。〕。 （もっと読む）

【課題】 露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位ａを含む、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。
【化１】
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【課題】良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位（ａ１）を有する第一の重合体を含む重合体成分と、（Ｂ）溶剤と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


（一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子等を示す。Ｒ^２及びＲ^３は、相互に独立に、炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基等を示す。Ｒｆは、少なくとも１つのフッ素原子を有するともに、ＣＯＯＲ^４で表される基を有する有機基等を示す。） （もっと読む）

【課題】良好な圧縮特性を有するとともに、その表面に良好な状態でめっき層を形成することが可能なポリマー粒子を提供すること。
【解決手段】官能基を有する架橋ポリマーから形成された母粒子を、２個以上のアミノ基を有するアミノ化合物と接触させて、前記官能基とアミノ基との反応により架橋ポリマーを更に架橋する工程（ａ）を備える製造方法により得ることのできる架橋ポリマー粒子。上記アミノ化合物は、分子量５００未満の低分子量アミノ化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、かつ可撓性に富むトリクロロエチルメタクリレートをコア部モノマーの主成分とする高速通信可能な光ファイバーを提供することを目的とする。
【解決手段】コア部及び該コア部の外周に配置されたクラッド部からなる光ファイバーであって、前記コア部が、トリクロロエチルメタクリレート（ＴＣＥＭＡ）７０重量％以上を含むモノマーの重合体を主たる構成成分としてなり、前記クラッド部が、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）２０重量％以上を含むモノマーの重合体を主たる構成成分としてなる光ファイバー及びコア部及び該コア部の外周に配置されたクラッド部からなる光ファイバーであって、前記コア部が、ＴＣＥＭＡ７０重量％以上を含むモノマーの重合体を主たる構成成分としてなり、前記クラッド部の外周がポリカーボネートを主成分とするプラスチックで被覆されている光ファイバー。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】炭素数が２又は３の環状エーテル構造及び酸に不安定な基を有する化合物に由来する構造単位を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸との作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、式（Ｂ１）で表される酸発生剤とを含むレジスト組成物。［Ｑ^１及びＱ^２はフッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^１は単結合又は置換基を有していてもよい２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表しす。Ｙ^１は炭素数１〜３６の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜３６の飽和環状炭化水素基又は炭素数６〜３６の芳香族炭化水素基を表す。Ｚ^＋は、有機対カチオンを表す。］
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