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Fターム[4J100BC04]の内容

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Fターム[4J100BC04]に分類される特許

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【課題】光酸発生剤を用いずに、特定の部分をアルカリ溶液で溶解して除去した高分子膜の提供。
【解決手段】(A)窒素カチオンを有するオニウム塩と(B)アルカリ難溶性樹脂を含有する組成物を支持体の上に適用して膜を形成すること、および上記膜の表面の一部または全部に、プラズマを照射してプラズマ照射した部分をアルカリ溶液で溶解除去することを含む高分子膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】疎水性が高く液浸水への溶出が低く、酸拡散制御による、高解像性パターンプロファイルの構築。
【解決手段】(A)式(1−1)の化合物(B)式(1−2)で示される酸発生剤、(C)ベース樹脂、(D)有機溶剤を含有するArF液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料。


(Arはアリール基。)


(R1はアルキル基、アルケニル基又はアラルキル基。R2は水素原子又はトリフルオロメチル基。Arはアリール基。) (もっと読む)


【課題】異物が少なく、YIが低いアクリル系樹脂、該組成物およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明によるアクリル系樹脂の製造方法は、上記アクリル系樹脂の単量体の重合または脱揮を行った押出機内で添加剤を混入することを特徴としている。このため本発明に係るアクリル系樹脂の製造工程は、製造装置内と外部環境の酸素との接触防ぐことができ、また、アクリル系樹脂に対する熱履歴が少ない。この効果から、15重量%クロロホルム溶液中でのYIが5以下であり、粒径20μm以上の異物量が1gあたり100個以下であるアクリル系樹脂を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】太陽電池モジュールにおける光利用効率を向上させ、発電効率を安定的に向上させることを可能にする球状蛍光体、これを含む波長変換型太陽電池封止材、これを用いた太陽電池モジュール、及び、これらの製造方法を提供する。
【解決手段】蛍光物質と透明材料とを含有する球状蛍光体において、前記透明材料が、ビニル化合物含有組成物を懸濁重合し球状としたものであり、さらに前記ビニル化合物含有組成物が、脂環式構造を有する(メタ)アクリル酸誘導体を含有する球状蛍光体、この球状蛍光体と封止樹脂とを含む光透過性の樹脂組成物層を備える波長変換型太陽電池封止材、太陽電池セルと前記太陽電池セルの受光面上に配置された前記封止材とを備える太陽電池モジュール、およびこれらの製造方法。 (もっと読む)


【課題】EUV用又はEB用として有用なレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式(a5−0−1)又は(a5−0−2)で表される基を含む構成単位(a5)を有する重合体(A1)を含有し、該構成単位(a5)を誘導するモノマー量が、該重合体(A1)に対して100ppm以下であるレジスト組成物。式中、Q及びQは単結合又は2価の連結基である。R、R及びRは有機基であり、RとRとは相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。ただし、式中の基−R−S(R)(R)は全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
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【課題】反射率が高く、しかも経時的に安定な反射率を有する白色反射膜を提供すると共に、そのような白色反射膜を有するLED光源を提供すること。
【解決手段】配線パターンが形成された基板上に、アルカリ可溶感光性樹脂及び白色顔料を含有する白色反射膜形成材料から成る白色反射膜とLEDチップ又はLEDパッケージとを有するLED光源に用いられるアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法であって、カルボキシル基(a1)及び水酸基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)と、グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)とを、四級ホスホニウム塩(C)の存在下にエステル化反応させることを特徴とする側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系重合体(D)からなるアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法。 (もっと読む)


【課題】高感度、高解像性、良好なパターン形状、残渣低減、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガス性能が充分に良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、また、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス、並びに、樹脂の製造方法の提供。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸を発生する繰り返し単位(A)と、下記一般式(I)で表される繰り返し単位(C)とを有する樹脂(P)を含有し、前記樹脂(P)の分散度が1.20以下である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】高感度であり、保存安定性に優れ、得られる硬化膜の信頼性(特に耐薬品性)に優れ、硬化膜製造の際の露光マージンや現像マージンが広い感光性樹脂組成物等の提供。
【解決手段】 (A)酸分解性基で保護されたカルボキシ基を有するモノマー由来の繰り返し単位、および/または、酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位(a1)と、架橋基を有する繰り返し単位(a2)とを、同一の重合体および/または異なる重合体に含む重合体成分(B)下記一般式(b1)で表されるオキシムスルホネート残基を含む化合物、および(C)溶剤、を含有し前記溶剤として、少なくとも1種の沸点が180℃未満の溶剤と、少なくとも1種の沸点が180℃以上の溶剤を含み、(沸点が180℃未満の溶剤の合計量):(沸点が180℃以上の溶剤合計量)が質量換算で99:1〜50:50である、感光性樹脂組成物。
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【課題】塗布面状に優れ、耐刷性および耐汚れ性に優れた平版印刷版原版の提供。
【解決手段】支持体上に、下塗り層と、画像記録層とを該順に有し、前記下塗り層が、(a1)一般式(O)で表される繰り返し単位と、(a2)エチレン性不飽和結合を側鎖に有する繰り返し単位とを含む重合体(A)を含むことを特徴とする平版印刷版原版。
一般式(O)
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【課題】優れたレジストパターンのCD均一性(CDU)を有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物、その化合物に由来する構造単位を有する樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法。


[式(I)中、QI1及びQI2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。nは、0又は1を表す。Xは、単結合又は炭素数1〜10のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよいが、nが0のとき、Xは単結合ではない。Wは、特定式(Ia1−1)又は特定式(Ia1−2)で表される構造を表す。Rは、水素原子又はメチル基を表す。Z1+は、有機対イオンを表す。] (もっと読む)


【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式(I)で表される化合物と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸との作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


[式(I)中、AI1は、炭素数1〜49の4価の炭化水素基を表し、該炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。mは2又は3を表し、複数存在する環WI1は、それぞれ独立に炭素数2〜36の飽和複素環を表す。nは1又は2を表す。但し、m+n=4の関係を満たす。] (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、撥水性、耐溶出性及び溶解性についての特性を満たしつつ、剥がれ耐性及び露光余裕度をバランス良く両立することができる液浸上層膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A1]下記式(i)で表される基を含む構造単位(I−1)を有する重合体、[A2]上記[A1]重合体と異なる重合体、及び[B]溶媒を含有する液浸上層膜形成用組成物である。下記式(i)中、Rは、炭素数1〜20の(n+1)価の炭化水素基である。nは、1〜3の整数である。[A2]重合体の成膜状態での水との後退接触角は、[A1]重合体よりも大きいことが好ましい。
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【課題】レジスト膜の環境からの影響を低減させ、OOB光を効率よく遮断させ、レジストパターンの膜減りやパターン間のブリッジを低減させ、レジストを高感度化させるレジスト保護膜材料を提供する。
【解決手段】ウエハー3に形成したフォトレジスト膜2上にレジスト保護膜材料によりレジスト保護膜1を形成し、露光を行った後、レジスト保護膜の剥離及びフォトレジスト膜の現像を行うことで、フォトレジスト膜にパターンを形成する方法において用いるレジスト保護膜材料であって、下記一般式(1)に記載のフェノール基を含有するトルクセン化合物を含むレジスト保護膜材料。
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【課題】低極性被着体に対する接着性が向上したアクリル系粘着テープを提供する。
【解決手段】アクリル系粘着剤組成物は、アクリル系ポリマー(A)100質量部と、側鎖にテルペン骨格を有し、重量平均分子量が1000以上30000未満の(メタ)アクリル系重合体(B)1〜70質量部と、を含む。(メタ)アクリル系重合体(B)は、粘着性組成物としてのアクリル系ポリマー(A)より重量平均分子量が小さい重合体であり、粘着付与樹脂として機能する。 (もっと読む)


【課題】着色パターン上異物を低減することが可能な着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、着色剤が染料を含む着色剤であり、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種に由来する構造単位と、炭素数2〜4の環状エーテル構造及びエチレン性不飽和結合を有する単量体に由来する構造単位と、式(x)で表される単量体に由来する構造単位とを含む共重合体を含む樹脂であり、式(x)で表される単量体に由来する構造単位の含有量が、該共重合体を構成する構造単位全量に対して、0.1モル%以上20モル%以下である着色感光性樹脂組成物。[式(x)中、Ra1は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。Xa1は、単結合、−Xa2−、*−Xa2−O−、*−Xa2−S−又は*−Xa2−NH−を表す。Xa2は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。*はOとの結合手を表す。]
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【課題】集束性および密着性に優れ、かつ工業的に有利に製造できる高分子量ポリオレフィン樹脂の水性分散体を提供する。
【解決手段】重量平均分子量が2万以上であるポリオレフィン樹脂(A)と、不飽和カルボン酸(b−1) 3.5〜90質量部および(メタ)アクリルアミド単量体(b−2) 10〜96.5質量部(ただし、(b−1)と(b−2)との合計は100質量部)を含む単量体成分を共重合して得られる高分子分散剤(B)と、を含む、水性分散体である。 (もっと読む)


【課題】パターン形状に優れるレジストパターンを形成でき、パターン倒れ耐性を向上させ、ブロッブ欠陥及びブリッジ欠陥の発生を低減できる液浸用上層膜形成組成物の提供。
【解決手段】本発明は、[A]同一又は異なる重合体中にカルボキシル基を含む構造単位(I)、スルホ基を含む構造単位(II)、α−トリフルオロメチルアルコール基を含む構造単位(III)、スルホンアミド基を含む構造単位(IV)及び下記式(i)で表される基を含む構造単位(V)からなる群より選ばれる少なくとも1種を有する重合体成分を含有する液浸用上層膜形成組成物であって、この液浸用上層膜形成組成物が[A]重合体成分の同一又は異なる重合体中に、芳香族含窒素複素環を含む構造単位(A)をさらに有するか又は[B]芳香族含窒素複素環を有する化合物をさらに含有するかの少なくともいずれか一方であることを特徴とする。
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【課題】レジストパターン製造時のラインエッジラフネス(LER)が良好なレジスト組成物を構成する酸発生剤の提供。
【解決手段】式(1)で表される基を有するヒドロキシ芳香族誘導体。


[式中、Q及びQは、同一又は相異なり、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lは、炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Zは、有機カチオンを表す。*は、ヒドロキシ芳香族環との結合手を表す。] (もっと読む)


【課題】電子線あるいは極紫外線(EUV光)を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、優れたパターン形状、高解像性(高い限界解像性など)、高ラインウィズスラフネス(LWR)性能を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】(A)酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、(B)電子線又は極紫外線の照射により酸を発生する化合物と、(C)フッ素原子、フッ素原子を有する基、珪素原子を有する基、炭素数が6以上のアルキル基、炭素数が6以上のシクロアルキル基、炭素数が9以上のアリール基、炭素数が10以上のアラルキル基、少なくとも1個の炭素数3以上のアルキル基で置換された芳香環基、及び、少なくとも1個の炭素数5以上のシクロアルキル基で置換された芳香環基からなる群より選択される1つ以上の基を有する樹脂と、(D)溶剤とを含有する感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程(1)、該膜を電子線又は極紫外線を用いて露光する工程(2)、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像して、ネガ型のパターンを形成する工程(4)をこの順番で有するパターン形成方法、これに供される感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、これを用いて形成されたレジスト膜。また、上記パターン形成方法を用いた、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。 (もっと読む)


【課題】高感度、高解像性(高解像力など)、高ラインウィズスラフネス(LWR)性能を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、(1)感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、(2)前記膜を電子線または極紫外線で露光することと、(3)有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含み、前記感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物は、(A)電子線又は極紫外線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位(R)を有する樹脂と、(B)溶剤とを含有している。 (もっと読む)


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