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Fターム[4J100BC04]の内容

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【課題】高解像性と共に、良好なパターン形状を与えることができるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を使用した、保護膜を形成して行う液浸リソグラフィーにおけるパターン形成方法の提供。
【解決手段】(A)酸不安定基として、3級炭素にアダマンチルを含むメタアクリル系繰り返し単位及び3級炭素が環状構造を形成してるメタアクリル系繰り返し単位を有し、酸によってアルカリ溶解性が向上する樹脂、(B)光酸発生剤、(C)下記一般式(3)で表される化合物、及び(D)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。
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【課題】ラインエッジラフネス(LER)がより良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】酸分解性基を有する樹脂(A)と、式(B4)


[式(B4)中、Aは、酸分解性基及び窒素原子を有さない有機カチオンを表す。Q及びQは、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lb1は、窒素原子を有さない2価の連結基を表す。Xb1は、窒素原子を有さない酸分解性基を表す。]で表される塩(B4)と、式(E2)


[式(E2)中、Aは、窒素原子を有さない有機カチオンを表す。Xは窒素原子を有する有機スルホン酸アニオンを表す。]で表される塩(E2)と、を含有するレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


[式中、A14は、脂肪族炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】優れらマスクエラーファクターのレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(aa)で表される構造単位(aa)と、式(ab)で表される構造単位(ab)とを有する樹脂及びこれを用いたレジスト組成物。


[式中、Raa2は、水素原子又はフッ化アルキル基;Raa3はフッ化アルキル基;Raa4は、酸により、酸素原子との間の結合〔O−Raa4〕が切断される1価の基 (もっと読む)


【課題】優れたフォーカスマージン(DOF)で、欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(式(I)で表される構造単位を含まない)、酸発生剤及び式(IA)で表されるアニオンを有する塩を含有するレジスト組成物。
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【課題】有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】単糖類のヒドロキシ基の1つがメタクリルエステルとして結合し、残りのヒドロキシ基が酸不安定基で置換された(メタ)アクリレートの繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤を含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規な重合体、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位(a1)を有し、該構成単位(a1)として、前記酸分解性基の活性化エネルギーが3.0kJ/mol以上異なる2種を含む重合体。該重合体を含有するレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】パターン形成時の露光マージンが広い感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種に由来する構造単位を有する重合体であり、重合開始剤が式(1)で表される化合物を含む重合開始剤である感光性樹脂組成物。


[式(1)中、Ra1及びRa2は、Ra11、ORa11、CORa11、SRa11、CONRa12a13又はCNを表し、Ra11、Ra12及びRa13は、水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基等を表し、Ra3及びRa4は、Ra11等を表し、s及びtは、0〜4の整数を表し、Lは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、CRa31a32、CO、NRa33又はPRa34を表し、Ra5は、ヒドロキシ基又はカルボキシ基等を表す。] (もっと読む)


【課題】レジスト膜の面方向における断面形状に関して整形性が良好な(変形度が低い)コンタクトホールを形成できるパターン形成方法、並びに、これを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】(1)基板上に、(A)化学増幅型レジスト組成物によって、レジスト膜を形成する工程、(2)露光して、ラインアンドスペースの潜像を形成する工程、(3)第1の加熱処理を行う工程、(4)第2のラインアンドスペースの潜像を、前記第1のラインアンドスペースの潜像におけるライン方向と交差するように形成する工程、(5)第2の加熱処理を行う工程、及び、(6)前記第2の加熱処理が行われたレジスト膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像を行う工程を、この順で有するパターン形成方法、並びに、このパターン形成方法を用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。 (もっと読む)


【課題】溶媒の冷却や溶解時の加熱を必要とせず、乾燥時間と溶解時間の合計の工程通過時間を短縮できるようにした、リソグラフィー用重合体溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】重合溶媒の存在下に、重合開始剤を使用して、単量体をラジカル重合させて重合反応溶液を得る重合工程と、前記重合反応溶液を重合体に対する貧溶媒と混合し、重合体を析出させて析出物を得る回収工程と、前記析出物を固形分含有量が65〜90質量%の範囲内となるように乾燥させて、微乾燥粉末を得る微乾燥工程と、前記微乾燥粉末を、重合体に対する良溶媒に溶解させる溶解工程とを有し、前記溶解工程において、前記微乾燥粉末の温度が0〜45℃であり、前記良溶媒の温度が0〜40℃である、リソグラフィー用重合体溶液を製造する。 (もっと読む)


【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン(DOF)が良好なレジスト組成物に好適な塩及びレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 式(I)で表される塩。


[式(I)中、
及びQは、互いに独立に、フッ素原子等を表す。
は、単結合又は炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
は、酸素原子又は硫黄原子を表す。
は、ヒドロキシ基又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
lは、0〜3の整数を表す。mは、0〜3の整数を表す。nは、1〜3の整数を表す。
は、有機カチオンを表す。]、及び、当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】ラインエッジラフネス(LER)がより良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 酸分解性基を有する樹脂(A)と、
式(B3)


[式(B3)中、
は、酸分解性基を有し、窒素原子を有さない有機カチオンを表す。
は、酸分解性基及び窒素原子を有さない有機スルホン酸アニオンを表す。]
で表される塩(B3)と、
式(E1)


[式(E1)中、
は、窒素原子を有する有機カチオンを表す。
は、窒素原子を有さない有機スルホン酸アニオンを表す。]
で表される塩(E1)と
を含有するレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】熱可塑による成形が可能であり、耐ケミカルクラック性や機械強度が高く、さらには表面硬度にも優れているメタクリル系樹脂組成物及びこの成形体が得る。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位:80〜98.5質量%と、前記メタクリル酸エステル単量体に共重合可能な、少なくとも1種の他のビニル単量体単位:1.5〜20質量%と、を含むメタクリル系樹脂(A):100質量部と、
以下の(i)及び(ii)の条件を満たすテトラフルオロエチレン樹脂(B):0.01〜10質量部と、
を、含有する
メタクリル系樹脂組成物。
(i)数平均分子量(Mn)が0.5万以上50万未満
(ii)平均粒子径が0.5μm以上8μm以下 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−SO−含有環式基を含む構成単位(a0)を有する重合体;該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、耐湿性、耐傷性、機械的な強度、偏光膜との密着性、及び、光学等方性に優れる偏光膜保護フィルム、並びに、それを備える偏光板を提供する。
【解決手段】メタクリル酸単量体及びメタクリル酸エステル単量体から形成される第一の構造単位50〜95質量%と、N−置換基がアリール基もしくはアリールアルキル基からなるN−置換マレイミド化合物から形成される第二の構造単位0.1〜20質量%と、N−置換基がアルキル基もしくはシクロアルキル基からなるN−置換マレイミド化合物から形成される第三の構造単位0.1〜49.9質量%とを有するアクリル系熱可塑性樹脂から形成される光学等方性偏光膜保護フィルム。 (もっと読む)


【課題】本発明は、アルカリ水溶液に対して十分な耐性を有する被めっき層形成用組成物、および、めっきの均一性に優れた金属層を有する積層体の製造方法、を提供することを目的とする。
【解決手段】熱、酸または輻射線により疎水性から親水性に変化する官能基と、カルボキシル基、ヒドロキシル基、イソシアネート基、アルコキシシリル基、アセトキシシリル基、クロロシリル基、1級アミノ基、2級アミノ基、3級アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、(メタ)アクリルアミド基、アリル基、スチリル基、マレイミド基、およびシンナモイル基からなる群より選択される少なくとも一種の架橋性基とを有するポリマーを含む被めっき層形成用組成物。 (もっと読む)


【課題】耐屈曲性及び絶縁性を損なうことなく、難燃性と耐ブリード性を備えた硬化物を形成できる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】芳香環を少なくとも1つ含み且つリン元素を含有する2価の有機基(X)を側鎖に有するカルボキシル基含有(メタ)アクリル系樹脂(A)と、
分子内に2個以上のエポキシ基を有する多官能性エポキシ化合物(B)と、
塩基性触媒(C)と、を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】フォーカスマージン(DOF)が良好なレジストパターンを製造することのできる化合物、および該化合物およびその他モノマーから調整される樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される化合物。


[式中、R1は、メチル基等を表す。Xは、カルボニルオキシ、フェニレンオキシまたはフェニレンカルボニルオキシ結合基であり、Aは、単結合又は結合置換基を表し、Xは、単結合または酸素等を表す。Rは、炭素数1〜36の炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】従来から知られるレジスト組成物では、レジストパターン製造時のフォーカスマージン(DOF)が必ずしも十分ではない場合があった。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、式(I)で表される塩とを含有するレジスト組成物。


[式(I)中、Q及びQは、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lは、炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Lは、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。Yは、芳香族炭化水素基を含む炭素数6〜30の2価の有機基を表す。Rは、炭素数1〜12のフッ化アルキル基を表す。Zは、有機カチオンを表す。] (もっと読む)


【課題】フォーカスマージン(DOF)に優れ、欠陥の少ないレジストパターンを製造することのできる化合物を提供すること。
【解決手段】式(I)で表される化合物。


[式(I)中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。Aは、式(a−g1)


式(a−g1)中、Yは、アントラセン環、フルオレン環又はフェナントレン環を含む2価の有機基を表す。R2は、炭素数1〜12のフッ化アルキル基を表す。] (もっと読む)


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