【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分および添加剤として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、さらに、側鎖に、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基であるエステル基を有する炭素原子が第３級炭素原子である置換基を有する２価の脂肪族炭化水素基を有する（メタ）アクリレート単位を有する。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むレジスト組成物［式中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”は、それぞれ独立に、アリール基またはアルキル基を表し；Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよく；Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、水素原子の一部または全部が下記一般式（ｂ１−０１）で表される基で置換された置換アリール基であり；Ｘ⁻はアニオンであり；Ｒ^２０は塩基解離性部位を有する二価の基であり；Ｒ^３０は２価の連結基であり；Ｒ^４０は酸解離性基を有する基である。］。
［化１］
（もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ且つ液浸露光時に接触した水等の液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水等の液浸露光用液体との後退接触角及び前進接触角のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本樹脂組成物は、式（１）で表される繰り返し単位、及びフッ素原子を有する繰り返し単位を含有する樹脂（Ａ）と、酸解離性基を有する繰り返し単位を含有し、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有しない樹脂（Ｂ）と、酸発生剤（Ｃ）とを含む。
（もっと読む）

【課題】微細なレジストパターンを良好な形状で形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１０）、側鎖に３級炭素を有する脂肪族単環式基を有する構成単位（ａ１１）および側鎖に３級炭素を有する脂肪族多環式基を有する構成単位（ａ１２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分（Ｆ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（Ｉａ）で表されるアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を有し、前記光塩基発生剤成分（Ｆ）が下記一般式（ｆ１）で表される化合物からなる光塩基発生剤（Ｆ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
（もっと読む）

【課題】向上した復元力、耐化学性、耐熱性、寸法安定性及び硬化密度を有する有機膜を形成するためのインプリンティング用感光性樹脂組成物及びこれを用いて基板上に有機膜を形成する方法を提供すること。
【解決手段】特定の構造を有するエリスリトール系のモノマー又はオリゴマーを含むインプリンティング用感光性樹脂組成物である。この感光性樹脂組成物を用いて形成された有機膜は、向上した復元力、耐化学性、耐熱性、寸法安定性及び硬化密度を有する。この感光性樹脂組成物は、インプリンティング工程に適しているため、インプリンティング工程によって微細なパターンを含む有機膜を基板上に容易に形成することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体リソグラフィーに用いられるレジスト膜や、レジスト膜の上層又は下層に形成される反射防止膜、ギャップフィル膜、トップコート膜等において、その膜厚やリソグラフィー特性のばらつきが極めて少ない半導体リソグラフィー用共重合体溶液の製造方法の提供。
【解決手段】本発明による半導体リソグラフィー用共重合体溶液の製造方法は、水酸基を有する繰り返し単位（Ａ）、アルカリ現像液への溶解を抑制すると共に酸の作用で解離する基で水酸基を保護した構造を有する繰り返し単位（Ｂ）、ラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｃ）、および環状エーテル構造を有する繰り返し単位（Ｄ）からなる群から選ばれる少なくとも１種以上の繰り返し単位を含む共重合体と、塗膜形成用溶媒とを含む共重合体溶液の製造方法において、同一製造ロットを充填した複数容器における容器毎の共重合体濃度の幅を特定の範囲以下とすること、あるいは、特定の製造工程を含むものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、疎水性が高く、成型加工性に優れ、めっき層と良好な密着性を示すめっき可能な樹脂複合体、この樹脂複合体からなる層を備える積層体、およびこの積層体を製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】めっき触媒若しくはその前駆体または金属と相互作用できる官能基を有する疎水性化合物Ａと、前記疎水性化合物Ａとは相溶しない疎水性樹脂Ｂとを含み、前記疎水性化合物Ａが分散相、前記疎水性樹脂Ｂが連続相となる相分離構造を形成し、表面上の少なくとも一部に疎水性化合物Ａが露出している、めっき可能な樹脂複合体。 （もっと読む）

【課題】表面が粗面である部材を加工後、温水と接触した場合、剥離性に優れる組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、（Ｃ）発泡剤及び（Ｄ）光重合開始剤を含有する組成物。（Ｃ）発泡剤が分解し、気体を発生するものであることを特徴とする該組成物。粗面用接着剤や被覆剤として使用できる。該組成物を用いて、部材を仮固定し、該加工された部材を９０℃以下の水に浸漬して、前記組成物の硬化体を取り外すことを特徴とする部材の仮固定方法であり、積算光量が３６５ｎｍにおいて１００〜４００００ｍＪ／ｃｍ^２である可視光線又は紫外線を照射することにより仮固定することを特徴とする該部材の仮固定方法。 （もっと読む）

【課題】重合生成物あるいはポリマーから残留モノマーを簡単な操作で効率よく低減できる方法を提供する。
【解決手段】残留モノマーの低減方法は、極性の反応性基を有するモノマーを少なくとも含む複数種のモノマーからなるモノマー混合物の重合生成物から残留モノマーを低減する方法であって、前記モノマー混合物を重合に付した後、得られた重合生成物を、前記極性の反応性基に対して反応性を有する官能基を有する化合物Ｘで処理する工程Ａを含む。極性反応基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成において、優れたリソグラフィー特性を示し、ディフェクトを低減できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にオキシラン環を有する構成単位（ａ０）、前記構成単位（ａ０）に該当しない酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）、およびラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】金属表面等の極性の高い表面に対する密着性、疎水性および耐熱性に優れ、レジスト用の溶剤に対する溶解性が良好な共重合体および該共重合体を含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】脂環式骨格を有する単量体と、ラクトン骨格を有する単量体と、脂環式骨格を有する単量体よりも高い極性を持ち、かつラクトン骨格を有する単量体よりも低い極性を持つ他のビニル系単量体とを重合して得られる共重合体を用いる。 （もっと読む）

少なくとも１つの（ａ）着色剤と、（ｂ）少なくとも１つのランダムターポリマーと、任意に、（ｃ）他の化粧品として許容される成分とを含む、ヒトの皮膚および／または毛髪のための化粧品着色組成物に非常に適した、局所的に適用可能な耐水性化粧品または皮膚科学的組成物。 （もっと読む）

【課題】低屈折率かつ高耐擦傷性の反射防止フィルムの提供。
【解決手段】下記一般式（１）の化合物、および無機微粒子を含む組成物を硬化してなる層を含有する。（式（１）中、Ｙは式（２）で表される基（但し、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、又は水酸基を表す。）又はビニル基を表し、Ｌ_１は式（３）又は（４）で表される基を表し、Ｌ_２及びＬ_３は、式（５）、（６）又は（７）で表される基を表し、Ｒｆ_１は飽和パーフルオロアルキル基、Ｒｆ_２はパーフルオロアルキル基又はフッ素原子を表し、Ｒｆ_３は、パーフルオロアルキル基又は塩素原子を表す。）
（もっと読む）

【課題】低粘度で高い転写パターン精度を有しつつ、機械的強度に優れたナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 （メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種と、酸化防止剤とを含む、光ナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物及びその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ^１は、少なくとも１の水素原子がフッ素置換されている炭素数１〜１０のアルキル基であり；Ｒ^２は、置換基を有していてもよい炭化水素基であり；Ａ^＋はカチオンである。］。
［化１］
（もっと読む）

【課題】特にアルカリに対する耐性に優れ、かつ、使用後には定盤から糊残りなく剥離できる定盤固定用粘着剤層を有する研磨布固定用両面粘着テープを提供する。
【解決手段】アルカリ性溶液を用いた研磨工程において、研磨布を研磨機の定盤に固定するための研磨布固定用両面粘着テープであって、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された研磨布固定用粘着剤層と、該基材フィルムの他方の面に形成された感圧アクリル粘着剤からなる定盤固定用粘着剤層とからなり、前記定盤固定用粘着剤層は、ｐＨ１３．０の水酸化ナトリウム水溶液に３０℃、１７０時間浸漬した後の重量増加率が１０重量％未満であり、かつ、一辺２０ｍｍの平面正方形状の試験片を用いて、ＪＩＳ−Ｚ０２３７に規定する保持力試験を、２３℃、１ｋｇｆ、１時間の条件で行って得られる剥離長さが０．５ｍｍ以下である研磨布固定用両面粘着テープ。 （もっと読む）

【課題】インプリント性、基板密着性、インプリント性、エッチング適正、基板密着性、耐熱性（着色）に優れたナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性単量体と、（Ｂ）光ラジカル重合開始剤と、（Ｃ）ウレタン化合物とを含有する組成物であって（但し、（Ａ）光重合性単量体と、（Ｃ）ウレタン化合物は１種類の化合物が兼ねる構成であってもよい）、前記（Ａ）光重合性単量体が有する９８モル％以上の光反応性基の、反応率が５０％以上であり、実質的に溶剤を含まず、かつ、組成物の粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする光ナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

【課題】イマージョンリソグラフィ工程において使用される溶媒に対して安定であり、感度、レジストパターンプロファイル形状に優れる、レジスト組成物、及びこれらレジスト組成物を用いるレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】（ａ１）酸解離性溶解抑制基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位、（ａ２）ラクトン単位を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位、並びに（ａ４）多環式基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位を有し、かつ（ａ０）（ａ０−１）ジカルボン酸の無水物含有構成単位及び（ａ０−２）フェノール性水酸基含有構成単位を有さない、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を溶解する有機溶剤（Ｃ）と、含窒素有機化合物（Ｄ）とを含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が下記一般式（１−１）〜（１−３）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位のいずれか１種以上を有する高分子化合物であることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｘは単結合又はメチレン基を示す。Ｙは水酸基又はヒドロキシメチル基を示す。ｍは０、１又は２である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）