【課題】透明性、耐衝撃性が良好かつ吸湿性の低いアクリル樹脂板を提供することであり、また該樹脂板の積層体及び表示装置を提供する。
【解決手段】炭素数６〜２０の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）１５〜５０質量％、炭素数１〜５の直鎖または分岐した炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステル（Ｂ）４５〜８４質量％、及び下式（１）で表されるジ（メタ）アクリル酸エステル（Ｃ）０．５〜７質量％を含む重合性組成物を重合して得られるアクリル樹脂板。
ＣＨ_２＝ＣＲ−ＣＯＯ−（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ−ＣＯＣＲ＝ＣＨ_２・・・（１）
但し、Ｒは水素原子又はメチル基、ｎは５〜１６の整数を示す。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージンが良好であり、欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基；Ａ^１はアルカンジイル基；Ｒ^２はフッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^３は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子；環Ｘ^１は、複素環を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ＩＡ）で表されるアニオンを有するヨードニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［式（ＩＡ）中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^２は、炭素数７〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数７〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合してＮとともに炭素数４〜２０の環を形成してもよい。］
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【課題】高速でパターン転写を行っても良好なパターン形成性を有し、欠陥が少なく、基板加工用途に用いた際にエッチング後のラインエッジラフネスが良好であるインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性単量体（Ａ）を少なくとも１種と、光重合開始剤（Ｂ）とを含有するインプリント用硬化性組成物であって、前記重合性単量体（Ａ）が、水素結合性官能基と含フッ素基を有する重合性単量体（Ａｘ）を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】照明光反射が残る基板にも、良好なコンタクトホールパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｒ１−ａ）又は（Ｒ１−ｂ）の繰り返し単位（ａ）、下記一般式（Ｒ２）の繰り返し単位（ｂ）、下記一般式（Ｒ３）の繰り返し単位（ｃ）、（ｃ）と異なり且つ酸分解性基を備えた繰り返し単位（ｄ）による樹脂（Ａ）、活性光線又は放射線照射で酸を発生する化合物（Ｂ）、特定の化合物（Ｃ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつＬＷＲ性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］炭素数５〜２１の直鎖状のアルキル基が結合している炭素原子と共に、核原子数４〜２０の２価の脂肪族環状炭化水素基又は脂肪族複素環基を側鎖に有するアクリル構造単位（Ｉ）を有する含フッ素重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、スタンパからの離型性、基材との密着性及び強度に優れる隔壁を形成可能な電気泳動表示素子の隔壁形成用組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］脂環式アルキル骨格を有する重合性化合物、［Ｂ］フッ素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種の元素を有する化合物、並びに［Ｃ］重合開始剤を含有する電気泳動表示素子の隔壁形成用組成物である。［Ａ］重合性化合物は、ジ（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】低粘度で硬化性に優れ、各種プラスチックフィルム等、特に親水性プラスチックフィルム等に対する接着力に優れ、厳しい耐久性が要求される用途においても十分な性能を有し、具体的には、高温及び高湿条件下においても高い接着力を維持することができるプラスチックフィルム等用の活性エネルギー線硬化型接着剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレート、（Ｂ）カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する化合物、（Ｃ）リン酸基及びエチレン性不飽和基を有する化合物、（Ｄ）脂肪族基又は脂環式骨格及びエチレン性不飽和基を有する化合物及び（Ｅ）光ラジカル重合開始剤を含むプラスチック製フィルム又はシート用活性エネルギー線硬化型接着剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能、及び、コーナー・プロキシミティ（Ｃｏｎｅｒ ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）性能に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、及び、（Ｄ）溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。



一般式（Ａ１）において、Ｒ_３は酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｒ_４は水素原子又は−ＣＯ_２Ｒ_５で表される基を表す。Ｒ_５は、ヘテロ原子を含んでもよい、１価の炭化水素基を表す。Ｒ_６は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。 （もっと読む）

【課題】異物の少ない重合体粉末を得ることができる重合体粉末の製造方法、異物の少ない重合体粉末およびレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体が分散媒に分散した分散液をろ過して重合体湿粉を製造する工程と、減圧乾燥装置５０を用いて重合体湿粉を乾燥させる工程とを有し、前記減圧乾燥装置５０内に乾燥中および乾燥終了後に気体を流入させる際、孔径が０．１〜１．０μｍのフィルター５２を通過した気体を流入させる重合体粉末の製造方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として好適な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）として、一般式（ａ５−１）で表される構成単位（ａ５）を有する高分子化合物（Ａ１）を含むレジスト組成物。
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【課題】高解像性を有し、プロセス適応性に優れ、露光後のパターン形状が良好で、ラインエッジラフネスが小いポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される単量体。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、Ｒ²はＨ又は一価又は二価の炭化水素基、Ｒ³は特定の酸不安定基、Ａ¹は二価の炭化水素基、Ａ²は二価又は三価の炭化水素基、Ａ²とＲ²は互いに結合して隣接する窒素原子と共に環を形成してもよい。ｋ¹は０又は１。） （もっと読む）

【課題】新規な樹脂、該樹脂を用いたレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ａ−０）で表される構成単位（ａ０）、及び、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大することを特徴とするレジスト用樹脂。式（ａ−０）中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基を表し；ａは０〜２の整数であり；ｂは１〜３の整数であり；ｃは１〜２の整数であり；ａ＋ｂは２以上の整数である。
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【課題】低酸拡散性と高い溶解コントラストを両立すると共に、発生酸やクエンチャーなどによるケミカルフレアを抑制することにより、ホールパターンやトレンチパターンのＤＯＦと真円性もしくはＬＷＲを改善したポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）高エネルギー線に感応した結果、側鎖にスルホン酸ジフロロメチル構造の酸を発生する繰り返し単位（ａ１）と、酸不安定繰り返し単位（ａ２）とを有し、酸によってアルカリ溶解性が変化する高分子化合物、及び（Ｂ）下記一般式（２）で示されるスルホン酸オニウム塩を共に含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】線幅の面内均一性（ＣＤＵ）に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のラクトン構造を有する繰り返し単位と、特定の単環脂環構造を有する繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造を有する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ブリッジ前寸法等の解像力、ＬＷＲ及びＤＯＦに優れると共に、感度及びＰＥＤ安定性も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（ＥＩ）で表される構造の繰り返し単位を有する樹脂（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。


Ｒ_Ｅ１、Ｒ_Ｅ２及びＲ_Ｅ３は各々独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒ_Ｅ１とＲ_Ｅ２は結合して環を形成していても良い。Ｒ_Ｅ４及びＲ_Ｅ５は各々独立に、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒ_Ｅ６及びＲ_Ｅ７は各々独立に、水素原子又は一価の有機基を表す。Ｂ_ｃ１は単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ_Ｅ４、Ｒ_Ｅ５、Ｒ_Ｅ６、Ｒ_Ｅ７及びＢ_Ｃ１はそれぞれ結合して環を形成していても良い。＊は前記樹脂（Ａ）の主鎖又は側鎖連結の結合手。 （もっと読む）

【課題】感度及び酸転写性が向上された酸転写膜を用いて化合物を合成する方法、マイクロアレイ、酸転写用組成物及びバイオチップ製造用組成物の提供。
【解決手段】第１化合物を基板に結合して第１膜を形成する工程、特定のアクリルアミド単位および特定のアクリル酸エステル単位を有する重合体Ａ、感放射線性酸発生剤Ｂ、増感剤Ｃを含む酸転写用組成物を用いて、第１膜上に第２膜を形成する工程、第２膜を露光し、第２膜の露光部に生じた酸を第１膜に転写して保護基を除去する工程、露光後の第２膜を除去する工程及び保護基が除去された第１化合物に第２化合物を結合する工程からなる化合物合成法。 （もっと読む）

【課題】外観、塗布性、防曇性、耐水性及び耐熱性等に優れた、透明防曇性塗膜を形成できる吸水性樹脂組成物およびこれを用いた積層体を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリルアミド系モノマーを他のモノマーと共重合した特定の（メタ）アクリルアミド系共重合体（Ａ）と、少なくとも１種類の２官能以上の（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）とを組み合わせることで、優れた防曇性を有する活性エネルギー線硬化型の吸水性樹脂組成物およびこれを用いた積層体を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢ温度が低温であっても、感度等に優れ、ＬＷＲ、ＤＯＦ等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】耐熱性などの特性が改善された新規なポリマー（特に熱可塑性ポリマー）およびこのポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】重合性不飽和結合を有する非フルオレン系モノマー（例えば、単官能性（メタ）アクリル酸エステル）に、重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基など）を有するフルオレン化合物（例えば、２以上の重合性不飽和結合を有する９，９−ビスアリールフルオレン類）を共重合させる。このような方法では、少量の（例えば、重合成分全体の１０モル％未満の割合で）フルオレン化合物を共重合させるだけでも、ベースとなる重合性不飽和結合を有する非フルオレン系モノマーの単独重合体に比べて、耐熱性などの特性を十分に改善又は向上できる。 （もっと読む）