【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって、下記一般式（２）（式中、Ｒ₁は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表し、Ｒ₂は水素原子、フッ素原子又は炭素数２０以下の低級アルキル基又は炭素数２０以下のフッ素化低級アルキル基を表す。）で示される化合物から誘導される構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環または多環式基を含む（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）と、を含有することを特徴とする高分子化合物。
［化１］
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【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ、露光により酸を発生する基材成分（Ａ’）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ’）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^２は２価の連結基であり、Ｒ^３は、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基である。］
。
［化１］
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【課題】本発明は、高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、レジスト材料として用いることのできるスルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるスルホニウム塩。


（式中、Ｘ、Ｙは重合性官能基を有する基を示す。Ｚはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３３の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^１はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３６の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３０の一価の炭化水素基を示すか、あるいはＲ^２及びＲ^３が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】従来の添加剤と比較して改善された潤滑油及びバイオディーゼル燃料の流動特性を低温で達成できる添加剤を提供することである。
【解決手段】本発明は、ＡＴＲＰ法によって得られるコポリマー、これらのコポリマーを含有する濃縮物及び潤滑油、これらのコポリマーの製造方法により、この課題は解決できた。 （もっと読む）

【課題】 向上した塗膜硬度および光学的特性を有する塗膜を形成でき、先行技術の欠点を有さない水性結合剤分散液を提供する。
【解決手段】 カルボン酸基および／またはカルボキシレート基を有する少なくとも１種のコポリマーを含む水性結合剤分散液であって、該コポリマーが、脂環式構造を持つカルボキシル無含有(メタ)アクリル酸エステルの構造単位を有し、分散液中におけるコポリマーのカルボン酸基の少なくとも２５モル％が、トリエタノールアミンで中和された形態で存在し、かつ、５００〜３０,０００の数平均分子量を有し、１００％の形態におけるコポリマーのＯＨ含有量は３.５〜７.５質量％であり、１００％形態のコポリマー（Ｐ）の酸価は１５〜４０ｍｇ ＫＯＨ／ｇである水性結合剤分散液。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物自体の熱安定性・保存安定性が良好で、ＣｌやＮａなどのイオン性の不純物が少なく、広い波長領域で透明性に優れ、厚膜かつアスペクト比の高いレジストパターンが得られるイオンビーム描画用ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】次の成分（Ａ）および（Ｂ）を含有するイオンビーム描画用ネガ型レジスト組成物並びに上記のネガ型レジスト組成物を利用するパターン形成方法。（Ａ）下記式（１）または環状オレフィンを開環重合した後水素添加した重合体単位、ビニルエーテル重合体単位から選ばれ、イオンビームの照射により現像液に難溶又は不溶となる樹脂、（Ｂ）樹脂（Ａ）を溶解する少なくとも一種以上の有機溶剤。
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【課題】優れた解像度及び露光マージンを有するパターンを形成できるフォトレジスト組成物用の樹脂の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基；Ｘ^１は複素環基；Ｚ^１は、２価の飽和炭化水素基；Ｒ^３２及びＲ^３３は水素原子、メチル基又は水酸基、ただしＲ^３２及びＲ^３３の少なくともいずれか一方は、水酸基；Ｒ^３４及びＲ^３５は、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基を表す。] （もっと読む）

【課題】硬化性に優れ、かつ、筋ムラがなく、光沢性、柔軟性に優れた画像が得られるインクジェットインク組成物、及び、インクジェット記録方法を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）Ｎ−ビニルラクタム類、（成分Ｂ）式（Ｂ）で表される化合物、及び、（成分Ｃ）炭素数６〜１８の炭化水素ジオールのジ（メタ）アクリル酸エステル、を含有することを特徴とするインクジェットインク組成物。（ａ）前記インクジェットインク組成物をインクジェット方式により吐出して支持体上に画像を形成する画像形成工程、及び、（ｂ）得られた画像に活性放射線を照射して、前記インクジェットインク組成物を硬化させて、前記支持体上に硬化した画像を有する印刷物を得る硬化工程を含むことを特徴とするインクジェット記録方法。
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【課題】パターン上の現像欠陥を低減できる化学増幅型レジスト組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が変化する樹脂、（Ｃ）塩基性化合物、（Ｄ）界面活性剤、（Ｅ）溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の製造方法において、（Ａ）成分の溶液と（Ｂ）成分の溶液を準備し、（Ｂ）成分の溶液をフィルターでろ過する工程、（Ａ）成分の溶液と（Ｂ）成分の溶液を混合する工程を含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物の製造方法及びその方法により得られた化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、ドライエッチング耐性、ラインエッジラフネスに優れるレジスト組成物の樹脂原料を提供する。
【解決手段】β−シアンヒドリン類縁体を原料とした（メタ）アクリル酸エステル及び重合体。


（Ｒ１はアルキル基を有していてもよい炭素数４〜１６の環式炭化水素基を有する炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。あるいは、Ｒ１とＲ２は結合している炭素原子とともにアルキル基を有していてもよい炭素数４〜１６の環式炭化水素基を形成する。ここで前記アルキル基、環式炭化水素基は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアシル基、または、炭素数１〜６のアルコールとエステル化されたカルボキシ基で置換されていてもよい。アルキル基は直鎖状でも分岐状でもよい。） （もっと読む）

【課題】塗布性に優れ、放射線感度、及び良好なパターン形状が得られると共に、耐熱性、耐溶剤性、光線透過率、耐ドライエッチング性に優れた層間絶縁膜を形成することが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物、その組成物から得られた層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することである。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］アルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、［Ｃ］一般式（１）で示される化合物を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物であり、それから形成された層間絶縁膜並びにそれらの製造方法によって達成される。 （もっと読む）

【課題】ハードコート材の基材とハードコート層との間に設けられるプライマー層を形成する際に好適に用いられ、かつ、実質的に溶剤を含有しない感光性組成物、その感光性組成物を用いて形成されたプライマー層を有するハードコート材、及びそのハードコート材を備えた画像表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性組成物は、トリアセチルセルロースに対して相溶性である単官能の重合性化合物（Ａ）と、カルボキシ基、水酸基、イミド基、及びアミド基の少なくとも１種を有し、かつ、トリアセチルセルロースに対して非相溶性である単官能の重合性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、を含有し、実質的に溶剤を含有しない。（Ａ）の含有量は、（Ａ）と（Ｂ）との合計に対して２５モル％以上である。また、該感光性組成物中の重合性化合物に占める単官能の重合性化合物の割合は９０モル％以上である。 （もっと読む）

【課題】現像性が良好で且つポストベーク後の表面レチキュレーションの発生を抑制し得る着色感光性樹脂組成物及びパターン形成方法、並びに、表面レチキュレーションがなく、線幅感度、直線性及び耐熱性に優れた着色パターンを有するカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び表示装置を提供する。
【解決手段】着色剤、バインダー樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、及び溶剤を含有し、前記着色剤の含有量が着色感光性樹脂組成物の固形分に対し質量分率で１５質量％〜６０質量％であり、前記バインダー樹脂が分子内に、アリル基を有する構造単位、Ｎ位−置換マレイミド基を有する構造単位、及び環状イミド基を有する構造単位から選択される構造単位と、酸性基を有する構造単位とを有し、前記重合性化合物がカルボキシル基含有多官能性単量体であり、前記光重合開始剤がロフィン系光重合開始剤又はオキシム系光重合開始剤である着色感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】粘度が高く、スクリーン印刷性、又はディスペンス印刷性に優れ、かつ、低温で焼成することができる無機微粒子分散ペースト組成物を提供する。
【解決手段】架橋（メタ）アクリル樹脂を含むゲル状粒子、無機微粒子、及び、有機溶剤を含有する無機微粒子分散ペースト組成物であって、前記架橋（メタ）アクリル樹脂を含むゲル状粒子は、前記有機溶剤で膨潤しており、かつ、粒子径が１０μｍ以下であり、前記架橋（メタ）アクリル樹脂は、単官能（メタ）アクリルモノマーに由来するセグメントと多官能（メタ）アクリルモノマーに由来するセグメントとを有する共重合体である無機微粒子分散ペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】 高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 感活性光線または感放射線樹脂組成物を基板上に塗布して膜を形成する工程、マスクを介して該膜を選択的に露光する工程、及び有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であり、該感活性光線または感放射線樹脂組成物が、(Ａ)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(Ｂ)活性光線または放射線の照射によりフッ素原子を含有する酸を発生する光酸発生剤、および(Ｃ)溶剤を含有してなり、光酸発生剤（Ｂ）の含有率が、該組成物の全固形分を基準として８〜２０質量％であるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】解像性およびＭＥＦなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素有機化合物（Ｄ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖に、２価の連結基で結合された環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を有するエステル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ０）を有し、かつ、その構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、エーテル性酸素原子、エステル基、カルボニル基、シアノ基、置換基を有していてもよいフェニル基、および含窒素複素環式基からなる群から選択される少なくとも１種を含むアミン（Ｄ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、（Ｂ）は一般式（ｂ０）で表される化合物（Ｂ１）を含有する。
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【課題】４５０ｎｍ以下の紫外線領域においても優れた透明性を示し且つ紫外線や青色光に対する耐光性に優れた（メタ）アクリル系硬化物。
【解決手段】（メタ）アクリル系モノマーまたは（メタ）アクリル系オリゴマーと、リン系触媒またはリン系硬化剤とを含有する（メタ）アクリル系硬化性組成物を硬化させてなるものであることを特徴とする（メタ）アクリル系硬化物。 （もっと読む）

【課題】ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）感放射線性酸発生剤として、所定の一般式で表されるオニウム塩と、（Ｂ）酸解離性基を有し、酸解離性基が解離することでアルカリ可溶性となる、アルカリ不溶性又は難溶性の樹脂成分とを含有し、（Ｂ）樹脂成分が、特定の繰り返し単位（ｉ）を含むものであるポジ型感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性やディフェクト低減効果に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、ならびに該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを有する高分子化合物を含む基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物。
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