【課題】通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素及び／又はケイ素原子を含有し、下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を含有する樹脂、並びに（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。式（Ｉ）中、各記号は所定の基を表す。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。
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【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適した、ラインエッジラフネスが良好で、パターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)の繰り返し単位と式(II)〜(V)から選ばれた繰り返し単位の一つ以上とを有する樹脂及び酸発生剤を含む感放射線組成物。




（Ｙは、脂環式炭化水素基。Ｚは、２価の炭化水素基。） （もっと読む）

【課題】半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、その他のフォトファブリケーション工程等に使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する為のパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射により、アルカリ現像液であるポジ型現像液に対する溶解度が増大し、有機溶剤を含有するネガ型現像液に対する溶解度が減少するレジスト組成物を塗布することで、膜を形成し、前記膜を液浸媒体を介して露光し、ネガ型現像液を用いて現像を行うことを含み、前記組成物が、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有し、かつ、アルカリ可溶性基、アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する基、及び特定の繰り返し単位、のいずれかを有する樹脂を含有するパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】耐摩擦性、定着性、保存安定性に優れ、連続印刷時の印字物間の擦れや、水またはアルコール系溶剤、ガソリン系溶剤との接触にも耐え、さらには吐出性を向上させる水性インクジェットインキを得ることが可能な水性インクジェットインキ用バインダー樹脂組成物の提供。
【解決手段】アミド基含有エチレン性不飽和単量体、水酸基含有エチレン性不飽和単量体、およびカルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体からなる群より選ばれる少なくとも１種の単量体、ならびに、炭素数８〜１８のアルキル基含有エチレン性不飽和単量体、芳香環含有エチレン性不飽和単量体、脂環式エチレン性不飽和単量体からなる群より選ばれる少なくとも１種の２０℃における水への溶解度が２．０×１０^-3ｇ／ｃｍ³以下の単量体、を含むエチレン性不飽和単量体を乳化重合してなる官能基含有樹脂微粒子を含む水性インクジェットインキ用バインダー樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は溶解速度調整剤を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、多環式オレフィンモノマー、及び所望によりアリル的又はオレフィン的モノマーのオリゴマー、並びに多環式オレフィンモノマーを、Ｎｉ又はＰｄを含有していてもよい触媒の存在中で、或いはアリル的モノマーの場合、フリーラジカル開始剤の存在中で反応させることを含むこのようなオリゴマーを製造する方法に関する。オリゴマーは、フォトレジスト組成物中に溶解速度調整剤として含めることができる。フォトレジスト組成物は、更にポリマーの結合樹脂、光酸発生剤、及び溶媒を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法に於いて、パターン形状、ＰＥＢ温度依存性、露光ラチチュードが改善されたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する特定構造の化合物、及び、（Ｂ）酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる酸分解性基として、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン骨格にエステル結合を有する基が結合した基、並びに、特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物及び当該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】耐溶剤性、耐吸湿性に優れ、溶剤に触れても基材に対して高い密着性に優れた硬化物を得ることのできる共重合体を提供する。
【解決手段】（１）スチレンのパラ位にエーテル基と結合したエポキシ基を持つモノマー単位と、（２）スチレンのパラ位に−ＣＨ_２−ＣＯＯＨを持つモノマー単位を少なくとも含む共重合体。この共重合体は、下記式（３）で表わされるモノマー単位を含んでいてもよい。
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【課題】硬化樹脂層の架橋密度を大きくすることが可能であり、硬度が高く、微細化された顔料の顔料分散性に優れ、ポストベークおよび配向膜形成等の画素形成後の工程において顔料が溶出することのないカルボキシル基およびアミノ基含有重合体、カラーフィルター用熱硬化性インクジェットインク組成物およびカラーフィルターを提供する。
【解決手段】カルボキシル基およびアミノ基含有重合体は、下記式１の構造で表され、数平均分子量が３０００〜５００００であり、下記式１中のｋ、ｍ、ｎのモル分率がそれぞれ、ｋが５〜２０ｍｏｌ％、ｍが６０〜９０ｍｏｌ％、ｎが５〜２０ｍｏｌ％である。


（式１中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^４はそれぞれ水素原子もしくはメチル基であり、Ｒ^３は炭素数６〜１２の環状炭化水素基であり、Ｒ^５は炭素数１〜８のアルキレン基であり、Ｒ^６およびＲ^７は炭素数１〜３のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】
電子情報分野の部材を形成するレジスト用のバインダー樹脂として好適な、感光性、アルカリに対する現像速度、耐溶剤性能やパターン形状、密着性に優れた新規な共重合体を提供する。また、該樹脂を含む感光性樹脂組成物を用いて高品質のカラーフィルター部位を歩留まりよく形成する。
【解決手段】
イタコン酸とアクリル酸エステルモノマーを含むモノマーを共重合して得られる共重合体をバインダー樹脂として用いる。また、該樹脂、ラジカル重合性化合物、光開始剤、及び溶剤を必須成分として含む感光性樹脂組成物を、カラーフィルター用レジストとして用いる。 （もっと読む）

【課題】良好な感度などを有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】酸解離性基含有樹脂、下記一般式：Ｍ^＋Ｚ⁻（Ｍ^＋はオニウムカチオン、Ｚ⁻は下記一般式（１−１）または（１−２）で表されるアニオン）で表される感放射線性酸発生剤、及び下記一般式（ｃ１）で表される化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。


（Ｒ^１〜Ｒ^５はフッ素原子置換の炭素数１〜２０のアルキル基など、Ａは単結合など、Ｒ^６及びＲ^７は炭素数１〜２５の炭化水素基などである） （もっと読む）

【課題】単官能モノマーのみで硬化させると、膜の硬化性が悪く、一方、官能数を増やすと硬化するが、硬化収縮性が大きくなりやすかったので良好なパターン転写を行うパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を提供する。
【解決手段】イソボルニルアクリレートが８０ないし９５重量％、３官能アクリレートが１ないし２０重量％、及び重合開始剤が０．５ないし６重量％含まれるパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料６を使用する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント方法において、レジスト膜のはがれが生じ難い形状転写層を形成することができるナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】２５℃、１ａｔｍの条件下において、光又は熱により気体を発生する気体発生剤（Ａ）と、第二の反応性基を有し、光及び熱に対して安定な化合物（Ｂ）と、を含有するナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物である。 （もっと読む）

【課題】支持体への塗布性に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法及びレジスト組成物の製造方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は、１−ブトキシ−２−プロパノールと２−ブトキシ−１−プロパノールとを含み（ただし、１−ブトキシ−２−プロパノールと２−ブトキシ−１−プロパノールとを混合して調製されたものを除く）、かつ、前記２−ブトキシ−１−プロパノールの割合が、前記１−ブトキシ−２−プロパノール１００質量部に対して１．５質量部以上であることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスを維持しつつ、優れたパターントップ形状を形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸の作用により２個以上のカルボキシル基を生じ、酸の作用により水酸基を生じず、且つラクトン環を有さないモノマーに由来する構造単位（ｂ１−１）を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】十分な耐熱性（低着色、高Ｔｇ）を有しつつ、かつ吸水率が低い重合性組成物、およびその硬化物を提供する。
【解決手段】成分Ａ、および成分Ｂを含む、重合性組成物。成分Ａ：環状脂肪族炭化水素基を有する多官能（メタ）アクリレート成分Ｂ：分子内に酸素原子を含まない単官能チオール化合物


（式（Ｉ）中、Ｒ^１１およびＲ^１２は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^１３およびＲ^１４は置換基を有していてもよい炭素数１〜４の直鎖アルキレン基を表す。ｍは１又は２を、ｎは０または１を表し、ｐおよびｑは０または１を表す。） （もっと読む）

【課題】被形状転写層にスタンパを用いて微細パターンを転写形成するインプリント方法において、レジスト膜がはがれる問題を解決する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも１つの反応性基を有し、フッ素原子を含有する化合物と、（Ｂ）少なくとも１つの反応性基を有し、フッ素原子を含有しない化合物と、（Ｃ）前記化合物（Ａ）の反応性基および／または前記化合物（Ｂ）の反応性基を活性化する化合物と、を含有するナノインプリントリソグラフィー用光硬化性組成物である。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】コーナー・プロキシミティ（Corner proximity）が良好で、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、液浸液への酸の溶出が少なく、液浸液に対する追随性が良好である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及びケイ素原子の少なくともいずれかを含有する樹脂、および、（Ｄ）下記一般式（１）で表される含窒素ヘテロ環を有する含窒素有機化合物を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線樹脂組成物。（一般式（１）の各符号は明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】初期接着性、接着安定性、耐熱性に優れ、使用後はエネルギー照射することにより、容易に解体（剥離）できる(メタ)アクリル系樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、及び（Ｃ）オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ］−エチルエステル及び／又はオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステルを含有する (メタ)アクリル系樹脂組成物。（Ｄ）（Ａ）〜（Ｃ）成分に溶解しない粒状物質を含有してもよい。該 (メタ)アクリル系樹脂組成物を用いる易解体性接着剤。 （もっと読む）

【課題】下塗り反射防止コーティング層として使用されることができ、かつ水性フォトレジスト現像剤で除去されうる新たな組成物の提供。
【解決手段】ジエン／ジエノフィル反応生成物を含む有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物が提供される。好ましい本発明の組成物は、基体から上塗りフォトレジスト層に戻る露光放射線の反射を低減させるのに有用であり、および／または平坦化、一体化もしくはビアフィル層として機能する。 （もっと読む）