【課題】初期接着性、接着安定性、耐熱性に優れ、使用後はエネルギー照射することにより、容易に解体（剥離）できる(メタ)アクリル系樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、及び（Ｃ）オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ］−エチルエステル及び／又はオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステルを含有する (メタ)アクリル系樹脂組成物。（Ｄ）（Ａ）〜（Ｃ）成分に溶解しない粒状物質を含有してもよい。該 (メタ)アクリル系樹脂組成物を用いる易解体性接着剤。 （もっと読む）

【課題】圧縮した場合の回復性、耐熱性、緩衝性、断熱性、軽量性、防音性に優れるアクリル系発泡シート、及び該アクリル系発泡シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のアクリル系発泡シートは、アクリル系樹脂から構成されたアクリル系発泡シートであって、構成するセルにおいて、セル長径が５００μｍ以下のセルの割合が８０％以上を占め、且つ発泡倍率が３倍以上であって、厚みが０．５〜５ｍｍであり、シートの厚さ方向に縦長の異方性セル構造を有することを特徴とする。前記アクリル系発泡シートでは、異方性セル構造が独立気泡構造であり、厚さ方向の切断面での異方性セル構造の平均セル長径Ｌと平均セル短径Ｓとの比（Ｌ／Ｓ）が１．１〜３．０であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する方法、該方法に用いられる樹脂組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液を提供する。
【解決手段】（ア）基板上に、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、ポジ型レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程、及び（エ）ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法、該方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液。 （もっと読む）

【課題】電圧保持率に優れ、かつ、カラーフィルターとＩＴＯ膜との密着性が高いＩＴＯ膜付きカラーフィルターを提供すること、また、該ＩＴＯ膜付きカラーフィルターを備えた画像表示装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明のＩＴＯ膜付きカラーフィルターは、インクジェット方式によってカラーフィルター用インクを吐出して形成された着色部を備えたカラーフィルターと、前記カラーフィルターの前記着色部が形成されている側の面に設けられた酸化インジウムスズで構成されたＩＴＯ膜とを有し、前記ＩＴＯ膜の平均膜厚が、１０００〜２０００Åであり、前記カラーフィルター用インクは、着色剤と、前記着色剤が溶解および／または分散する液性媒体と、下記式（１４）で表される重合体Ｍとを含むことを特徴とする。
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【課題】電圧保持率に優れ、かつ、カラーフィルターとＩＴＯ膜との密着性が高いＩＴＯ膜付きカラーフィルターを提供すること、また、該ＩＴＯ膜付きカラーフィルターを備えた画像表示装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明のＩＴＯ膜付きカラーフィルターは、インクジェット方式によってカラーフィルター用インクを吐出して形成された着色部を備えたカラーフィルターと、カラーフィルターの着色部が形成されている側の面に設けられ、ケイ素化合物で構成された中間膜と、中間膜の前記カラーフィルターとは反対側の面に設けられ、酸化インジウムスズで構成されたＩＴＯ膜とを有し、ＩＴＯ膜の平均膜厚が、１０００〜２０００Åであり、前記カラーフィルター用インクは、着色剤と、着色剤が溶解および／または分散する液性媒体と、下記式（１４）で表される重合体Ｍとを含むことを特徴とする。
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【課題】単一でありながら逆波長依存性を有するフィルムを作製できる重合体、該重合体により作製したフィルム、およびその他の光学材料を提供すること。
【解決手段】エチレンまたは炭素原子数が３〜２０のα−オレフィンから導かれる構成単位（Ａ）を３０〜７０モル％、
所定の化学式で表される環状オレフィンから導かれる構成単位（Ｂ）を２０〜５０モル％、
芳香族ビニル化合物から導かれる構成単位（Ｃ）を０．１〜２０モル％含み、
下記要件［１］〜［３］を同時に満たすことを特徴とする、環状オレフィン系重合体。
［１］移動粘度計によりＡＳＴＭ Ｊ１６０１に準じた測定方法にて測定を行った場合の１３５℃のデカリン中での極限粘度［η］が０．４〜５．０ｄｌ／ｇの範囲にある。
［２］^１Ｈ−ＮＭＲにおいて６．０〜６．８ｐｐｍの範囲にピークが存在する。
［３］示差走査熱量計（ＤＳＣ）より求められるガラス転移温度が１００℃〜２００℃の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖に多環構造を有し、かつ該多環構造が酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する部位を有する繰り返し単位（a）を含む樹脂（ＨＲ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】既存の研磨パッドよりも研磨レートが高く、ディッシングが低減され、寿命が長い研磨パッドを提供する。
【解決手段】ポリウレタンと、少なくとも３種のビニル化合物から重合される重合体が一体化して、独立気泡を有する相互侵入高分子網目構造体からなる研磨パッドであって、前記ビニル化合物が、イソボルニル基を有するビニル化合物Ａ、２個以上のビニル基を有するビニル化合物Ｂ、ＣＨ₂＝ＣＲ₁ＣＯＯＲ₂（Ｒ₁：メチル基、エチル基、Ｒ₂：メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基）から選ばれるビニル化合物Ｃを有する研磨パッド。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、側鎖に、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基含有エステル基を有する構成単位（ａ０−１）を有し、質量平均分子量（Ｍｗ）が１００００以下の高分子化合物（Ａ１−１）と、高分子化合物（Ａ１−１）が有する構成単位と同一の構成単位（ａ０−１）を有し、Ｍｗが、高分子化合物（Ａ１−１）のＭｗの１．５倍以上である高分子化合物（Ａ１−２）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の製造方法において良好なパターン転写を行うことが可能なパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を得る。
【解決手段】２−フェノキシエチルアクリレート及びベンジルアクリレートのうち少なくとも１つ、イソボルニルアクリレート、及び重合開始剤を含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を使用する。 （もっと読む）

【課題】露光により発生された酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成できるバイオチップを製造するための樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（１）の構造単位及び式（２）の構造単位を有する重合体と、（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、を含む。
【化１】
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【課題】低誘電率で、かつ、強度に優れ、膜厚の不本意なばらつきが抑制された絶縁膜を提供すること、前記絶縁膜の形成に好適に用いることができる膜形成用組成物を提供すること、また、前記絶縁膜を備えた半導体装置を提供すること。
【解決手段】本発明の膜形成用組成物は、重合性の官能基を有する重合性化合物および／または当該重合性化合物が部分的に重合した重合体を含むものであり、前記重合性化合物は、分子内に、アダマンタン型のかご型構造を含む部分構造Ａと、重合反応に寄与する２つの重合性反応基とを有するものである。そして、前記重合性反応基は、芳香環と、当該芳香環に直接結合する２つのエチニル基とを有するものであり、前記重合性化合物は、前記部分構造Ａを中心に、前記重合性反応基が対称的に結合した構造を有するものである。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び／又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）及び／又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１’）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、高分子化合物（Ａ１）中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が１５〜８０モル％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖の末端に「−ＳＯ_２−を含む環式基」を含有する構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）と、酸発生剤成分（Ｂ）と、フッ素原子を有していてもよい酸解離性溶解抑制基含有基を含み、かつ少なくとも１つのフッ素原子が含まれる構成単位（ｆ１）を有する含フッ素樹脂成分とを含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】低粘度で高い転写パターン精度を有しつつ、光照射後の密着性に優れた光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物および／または下記一般式（２）で表される化合物の少なくとも一種と、下記一般式（３）で表される化合物の少なくとも１種を質量比２０：８０〜８０：２０の割合で含む、光硬化性組成物。


（一般式（１）および一般式（２）中、Ｘは、有機基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。一般式（３）中、Ｙは有機基を表し、ｍは１〜４の整数を表し、Ｒは水素またはメチル基を表す。但し、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物および一般式（３）で表される化合物は、いずれも分子量が１５０〜４００である。） （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成時においてスカムが発生せず、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、カルボキシル基を含有する構成単位、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む構成単位、及び酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、芳香族基を有する構成単位（ａ０）、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ５）及び酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンを不溶化して硬化させる性能（硬化性能）に優れ、その後の露光処理、現像液、及びポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なレジストパターンコーティング剤を提供する。
【解決手段】ヒドロキシアクリルアニリドとヒドロキシメタクリルアニリドの少なくともいずれかの単量体に由来する構造単位を含む（Ｉ）樹脂と、（ＩＩ）ラジカル発生剤と、を含有するレジストパターンコーティング剤である。 （もっと読む）

【課題】モノマー組成比の偏りの小さいフォトレジスト用共重合体の製造方法の提供。
【解決手段】本発明によるフォトレジスト用共重合体の製造方法は、少なくとも２種の繰り返し単位を含むフォトレジスト用共重合体の製造方法であって、モノマー溶液と、重合開始剤を含む溶液とを重合反応系内に供給する供給工程を有し、重合反応開始からモノマー溶液の供給終了までの間の重合反応系内において、未反応モノマーのモノマー組成比の変動幅が上下１５％以内である、あるいは未反応モノマーのモノマー組成比の標準偏差が２以内である、フォトレジスト用共重合体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】分子量の安定したベースポリマーを得ることができる半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法の提供。
【解決手段】本発明による半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法は、少なくとも２種の繰り返し単位を含む半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法であって、前記共重合体を含水率が３５０ｐｐｍ〜１０質量％である溶液として保持する工程を有するものである。 （もっと読む）