説明

Fターム[4J100BC07]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) |  (19,108) | 飽和脂環 (7,963) | 有橋脂環(←C60等も含む) (3,276)

Fターム[4J100BC07]の下位に属するFターム

Fターム[4J100BC07]に分類される特許

1 - 20 / 566


【課題】耐高温圧痕性、低反り性、耐高温高湿性が良好な光記録媒体の光透過層に使用する硬化性組成物、光記録媒体を提供すること。
【解決手段】ラジカル重合性化合物と光重合開始剤を含み、ラジカル重合性化合物として1分子あたり7〜22個のプロピレンオキシドにより変性された多官能(メタ)アクリレート化合物をラジカル重合性化合物の全量に対して20〜100質量%含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物層からなる光透過層を形成させることにより、耐高温圧痕性、低反り性、耐高温高湿性に優れる光記録媒体が得られる。 (もっと読む)


【課題】EUV用またはEB用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するEUV用又はEB用レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0−1)又は(a0−2)で表される基を含む構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)を含有し、前記基材成分(A)に加えて、光反応型クエンチャー(C)を含有することを特徴とするEUV用又はEB用レジスト組成物。式中の基−R−S(R)(R)は、全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。Mm+は、芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
(もっと読む)


【課題】ラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部が良好なドライエッチング耐性を有するパターン形成方法、及び、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】酸によって分解しカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位(a1)を含む樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、ヘテロ原子及び炭素原子を含み、且つ、炭素原子数が7以上の有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含み、繰り返し単位(a1)が、酸分解後のカルボキシル基を生じた際の該単位中に含まれる各原子の数を下式に代入し得られる値Xが0<X≦5であるパターン形成方法。X=(酸による分解後の繰り返し単位を構成する原子数の合計)/{(炭素原子の数)−(炭素原子でも水素原子でもない原子の数)} (もっと読む)


【課題】感光性水系エポキシ樹脂組成物に配合した場合に、分散性に優れるとともに硬化効率を向上させることのできるエポキシ樹脂硬化用微粒子、該エポキシ樹脂硬化用微粒子の製造方法、及び、該エポキシ樹脂硬化用微粒子を含有する感光性水系エポキシ樹脂組成物の提供。
【解決手段】表面に酸増殖反応を引き起こす基を有するエポキシ樹脂硬化用微粒子であって、水系媒体中で、下記一般式(1)で表される構造を有するモノマーを主成分とするラジカル重合性モノマーを重合させることによって得られるエポキシ樹脂硬化用微粒子。


一般式(1)中、Xは水素原子又はメチル基を表し、Aは酸増殖反応を引き起こす基を表す。 (もっと読む)


【課題】レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、新規な化合物の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有し、基材成分(A)は、式(a0−1)で表される構成単位(a0−1)を有する樹脂成分(A1)を含有する[式中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基]。
(もっと読む)


【課題】疎水性が高く液浸水への溶出が低く、酸拡散制御による、高解像性パターンプロファイルの構築。
【解決手段】(A)式(1−1)の化合物(B)式(1−2)で示される酸発生剤、(C)ベース樹脂、(D)有機溶剤を含有するArF液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料。


(Arはアリール基。)


(R1はアルキル基、アルケニル基又はアラルキル基。R2は水素原子又はトリフルオロメチル基。Arはアリール基。) (もっと読む)


【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位含有高分子化合物及び酸発生剤又はヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位と露光により酸を発生する繰り返し単位含有高分子化合物と、パーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のスルホニウム塩又はヨードニウム塩と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】ヒドロキシ基の水素原子を酸不安定基で置換した繰り返し単位含有高分子化合物と酸発生剤とパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のオニウム塩を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】太陽電池モジュールにおける光利用効率を向上させ、発電効率を安定的に向上させることを可能にする球状蛍光体、これを含む波長変換型太陽電池封止材、これを用いた太陽電池モジュール、及び、これらの製造方法を提供する。
【解決手段】蛍光物質と透明材料とを含有する球状蛍光体において、前記透明材料が、ビニル化合物含有組成物を懸濁重合し球状としたものであり、さらに前記ビニル化合物含有組成物が、脂環式構造を有する(メタ)アクリル酸誘導体を含有する球状蛍光体、この球状蛍光体と封止樹脂とを含む光透過性の樹脂組成物層を備える波長変換型太陽電池封止材、太陽電池セルと前記太陽電池セルの受光面上に配置された前記封止材とを備える太陽電池モジュール、およびこれらの製造方法。 (もっと読む)


【課題】レジスト膜の環境からの影響を低減させ、OOB光を効率よく遮断させ、レジストパターンの膜減りやパターン間のブリッジを低減させ、レジストを高感度化させるレジスト保護膜材料を提供する。
【解決手段】ウエハー3に形成したフォトレジスト膜2上にレジスト保護膜材料によりレジスト保護膜1を形成し、露光を行った後、レジスト保護膜の剥離及びフォトレジスト膜の現像を行うことで、フォトレジスト膜にパターンを形成する方法において用いるレジスト保護膜材料であって、下記一般式(1)に記載のフェノール基を含有するトルクセン化合物を含むレジスト保護膜材料。
(もっと読む)


【課題】高感度、高解像性(高解像力など)、高ラインウィズスラフネス(LWR)性能を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、(1)感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、(2)前記膜を電子線または極紫外線で露光することと、(3)有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含み、前記感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物は、(A)電子線又は極紫外線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位(R)を有する樹脂と、(B)溶剤とを含有している。 (もっと読む)


【課題】低極性被着体に対する接着性が向上したアクリル系粘着テープを提供する。
【解決手段】アクリル系粘着剤組成物は、アクリル系ポリマー(A)100質量部と、側鎖にテルペン骨格を有し、重量平均分子量が1000以上30000未満の(メタ)アクリル系重合体(B)1〜70質量部と、を含む。(メタ)アクリル系重合体(B)は、粘着性組成物としてのアクリル系ポリマー(A)より重量平均分子量が小さい重合体であり、粘着付与樹脂として機能する。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性、塗布性及び引き置き安定性に優れたレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】構成単位(a0−1)と、酸分解性基を含む構成単位(a1)とを有し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するる樹脂成分(A1)を含有する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、及び含窒素有機溶剤成分(S)を含有するレジスト組成物。
(もっと読む)


【課題】接着性に優れており、また、熱伝導性及び塗布作業性も良好に維持された樹脂ペースト組成物と、この樹脂ペースト組成物を用いた半導体装置とを提供する。
【解決手段】(A1)1分子中に、2個のアクリロイルオキシ基と、炭素数5〜20の脂環式構造又は炭素数4〜20の脂肪族構造とを有するアクリロイルオキシ基含有化合物、(A2)特定の一般式で表される化合物、(B)重合開始剤、及び(C)充填材を含有する樹脂ペースト組成物。支持部材、前記支持部材の表面に設置された半導体素子、前記支持部材の表面と前記半導体素子との間に介在して前記支持部材と前記半導体素子とを固定する前記の樹脂ペースト組成物の硬化物、及び前記支持部材の一部と前記半導体素子とを封止する封止材、を有する半導体装置。 (もっと読む)


【解決手段】酸不安定基と結合する窒素原子を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明の酸不安定基と結合する窒素原子を有する繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、即ち溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する効果が非常に高い特徴を有する。このレジスト膜を用いてドットパターン又は格子状パターンのマスクを使って露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よく形成することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れ、ディフェクトを低減可能なレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつフッ素原子を含む構成単位(f1)を有する重合体;該重合体は主鎖の少なくとも一方の末端に式(I−1)で表される基を有することが好ましい;該重合体を含有するレジスト組成物;該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法
(もっと読む)


【課題】ラフネス特性およびパターン倒れの改善を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び(C)下記一般式(ZI−3)、(ZI−4)又は(ZI−5)で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、樹脂(A)が酸の作用により分解する基を有する繰り返し単位を少なくとも1種含有し、該酸分解性の基が分解して脱離する基が環構造を有し、該環構造が極性基を置換基として有し、もしくは、該環構造が極性原子を環構造内に含み、且つ、前記脱離基が脱離して生成する化合物のlogP値が0以上2.8未満であることを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
(もっと読む)



【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、現像時間依存性が小さく、かつ現像により形成されるパターン部の膜べりを抑制する。
【解決手段】(ア)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂(P)、及び、活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)によって表される酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含む、パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。
(もっと読む)


【課題】有機溶剤現像において溶解コントラストが大きく、かつ高感度なネガティブパターン形成用レジスト組成物及び有機溶剤による現像によってポジネガ反転によるホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】スルホンアミド基が酸不安定基で置換された式(1)の繰り返し単位a1及び/又はa2を有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、露光し、有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
(もっと読む)


【課題】有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】単糖類のヒドロキシ基の1つがメタクリルエステルとして結合し、残りのヒドロキシ基が酸不安定基で置換された(メタ)アクリレートの繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤を含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。 (もっと読む)


1 - 20 / 566