【課題】リオトロピック液晶化合物と溶媒を含むコーティング液を、基材に塗布し、該化合物の配向方向を、塗布方向に平行（平行配向）する製造方法を提供する。
【解決手段】工程Ａと工程Ｂを含む、光学積層体の製造方法を用いる。工程Ａ：ボルナン環を側鎖に有するアクリレートポリマーを含む高分子基材１０の表面１０ａを、一方向にラビング処理する。工程Ｂ：工程Ａで得られた高分子基材１０のラビング処理面１０ａに、リオトロピック液晶化合物１１を含む溶液を塗布して、リオトロピック液晶層を形成する。 （もっと読む）

【解決手段】下記で示される含フッ素単量体。


（Ｒ⁴〜Ｒ⁶はＣ１〜６のフッ素化１価炭化水素基。ｋ¹は０〜２の整数。）
【効果】波長５００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像欠陥の少ない感放射線レジスト材料の添加剤用樹脂を製造するための単量体。得られる高分子化合物は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用で、撥水性、加水分解性などの調整が可能。 （もっと読む）

【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって、下記化学式（３０）又は（３１）の少なくともいずれか一方で表される構成単位中のフェノール性水酸基の水素原子が、下記一般式（１）（式中、Ｒ₁は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表す。）で示される酸解離性溶解抑止基（ii）で置換されていることを特徴とする高分子化合物。
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【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつアルカリ現像時における親水性を向上させることができ、未露光部の現像欠陥を抑制し得ることに加えて、現像後のパターン形状に優れるレジスト塗膜を与えることが可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】酸解離性基を有する重合体（Ａ）と、放射線照射により酸を発生する酸発生剤（Ｂ）と、下記一般式（ｘ）で表される官能基及びフッ素原子を有する重合体（Ｃ）と、を含有し、前記重合体（Ｃ）は、前記重合体（Ａ）よりもフッ素原子含有量が高い重合体である感放射線性樹脂組成物。


［一般式（ｘ）中、Ｒ^１はアルカリ解離性基、Ａは酸素原子（但し、芳香環、カルボニル基及びスルホキシル基に直結するものを除く。）、イミノ基、−ＣＯ−Ｏ−＊又は−ＳＯ_２−Ｏ−＊（「＊」はＲ^１に結合する結合手を示す。）を示す。］ （もっと読む）

【課題】環境に優しい炭素数３〜７のパーフルオロアルキル基を側鎖に有する、撥水撥油性に優れた含フッ素重合体の提供。
【解決手段】８０％以上の高いシンジオタクチシチィーを有する結晶性の含フッ素重合体、ならびにアニオン重合開始剤を用いる該重合体の製造方法。該重合体は、優れた撥水撥油性を有することから、紙、繊維、プラスチック等用の撥水撥油剤として広範な利用が期待し得る。 （もっと読む）

【課題】 露光ラチチュード（ＥＬ）及びデフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れたパターンを形成可能とするパターン形成方法並びにレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。上記レジスト組成物は、（ａ）酸の作用により分解する樹脂であって、下記式（１）により表されるΔＳＰが２．５（ＭＰａ）^１／２以上である樹脂と、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、（ｃ）溶剤とを含有している。 （もっと読む）

【課題】透明性の良好な樹脂の原料となる新規なビスイミド化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるビスイミド化合物。


（Ｘ_１、Ｘ_２は、式（２−１）または（２−２）を表す。


） （もっと読む）

【課題】洗浄溶剤に対する溶解性に優れ、スリットノズルの汚染および基板の異物発生率を最小化することができるアルカリ可溶性樹脂およびこれを含む感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】上記アルカリ可溶性バインダー樹脂は次の式で代表される。


ｂ＝１０〜９０モル％、ｃ＝１０〜９０モル％。 （もっと読む）

【課題】 溶解性および解像性能に優れ、かつ、マスク依存性が小さくＬＷＲの小さい化学増幅型レジストを形成可能な感放射線性樹脂組成物およびそれに用いる重合体を提供すること。
【解決手段】 特定のイオン性構造を有する繰り返し単位を７モル％以上含有しラクトン骨格を有しない重合体、および、（Ａ）特定のイオン性構造を有する繰り返し単位を７モル％以上含有しラクトン骨格を有しない重合体と、（Ｂ）溶剤とを含むことを特徴とする、感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】
塗布量が低減でき、経時における異物を生じにくく、さらにＢｌｏｂ欠陥を生じにくい上層膜を得ることができる上層膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】
溶剤としてエーテル系溶剤を含む上層膜形成用組成物に特定の繰り返し単位を含む重合体を用いること。 （もっと読む）

【課題】 解像性能に優れ、かつ、ＭＥＥＦが小さくＬＷＲの小さい化学増幅型レジストを形成可能な感放射線性樹脂組成物およびそれに用いる重合体を提供することである。
【解決手段】 分子鎖の末端に脂環式炭化水素基を有し、かつ下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する重合体と、（Ａ）該重合体および（Ｂ）溶剤とを有することを特徴とする、感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 塗布欠陥、塗布膜厚均一性、ＰＥＢＳ性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含む樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、前記溶剤として、下記Ｘ群およびＹ群に列挙された溶剤のうち少なくとも１種を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（Ｘ群）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、乳酸アルキルエステル類、アルコキシ酢酸アルキル類、アルコキシプロピオン酸アルキル類、ピルビン酸アルキル類、酢酸アルキルエステル；
（Ｙ群）環状ラクトン類、アルキレンカーボネート類。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて、２回目以降のパターニングの影響を受けにくいレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法、及びこれに用いる樹脂の精製方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、樹脂（Ａ１）と有機溶剤（Ｓ１）とを含有する第一のレジスト材料を用いて第一のレジストパターンを形成する工程と、前記第一のレジストパターンが形成された前記支持体上に、樹脂（Ａ２）と、該樹脂（Ａ２）を溶解し且つ前記樹脂（Ａ１）を溶解しない有機溶剤（Ｓ２）とを含有する第二のレジスト材料を用いてレジストパターンを形成する工程とを含むレジストパターン形成方法であって、前記樹脂（Ａ１）を、該樹脂（Ａ１）を溶解せず且つ前記樹脂（Ａ２）を溶解する有機溶剤（Ｗ）を含有する洗浄液で洗浄することにより精製して前記第一のレジスト材料に配合することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】酸の作用により分解するアセタール保護基で保護されたカルボン酸部分を有する樹脂成分（Ａ）と活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）のアセタール保護基で保護されたカルボン酸部分の脱保護がβ−脱離反応に依らないポジ型レジスト材料であって、
上記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（１−３）で示される単位の１種以上と、更に下記一般式（２）、（３）、（４）及び（５）から選ばれる１種以上の繰り返し単位を含有するものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。


【効果】本発明のレジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有しており、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】トップロスを抑制して矩形性が良好であり、ＬＷＲ抑制能も満足し、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］側鎖に３級炭素を有するエステル基が窒素原子に結合する構造を含む構造単位（１）を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。上記構造単位（１）が、（メタ）アクリレートの側鎖に含まれている構造単位であることが好ましい。上記［Ａ］重合体が、ラクトン構造を含む構造単位及び環状カーボネート構造を含む構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位をさらに有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥性能、液浸欠陥性能、及び限界解像力に優れ、且つ良好な形状を有したパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた第１繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、疎水性樹脂とを含有している。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、フォーカス余裕度及びパターン形状の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）と、下記一般式（１）乃至（５）の何れかにより表される化合物（Ｑ）とを含有している。
【化１】
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【課題】優れた解像度を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位を有する樹脂と、式（Ｂ１）で表される塩を有効成分とする酸発生剤とを含有するレジスト組成物。［Ｒ^１〜Ｒ^４は脂肪族炭化水素基を表すか、又はＲ^１及びＲ^２並びにＲ^３及びＲ^４は、互いに結合して環を形成する。Ｒ^５は水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基を表す。Ｔ^１は２価の飽和炭化水素基を表す。ｍは０又は１を表す。］
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【課題】ラフネス特性、露光ラチチュード（Exposure Latitude）、及び現像欠陥性能の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）と、酸の作用により脱離する基を備え且つ下記一般式（Ｃ−Ｉ）より表される化合物、又は、酸の作用により脱離する基を備え且つ前記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物の複数が連結基を介して結合された構造を有する化合物とを含有している。
【化１】
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【課題】ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、ＥＵＶ等の（極）遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線に有効に感応し、感度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表されるスルホンイミド化合物と、酸解離性基含有化合物と、溶剤と、を含有する感放射線性組成物である。


（一般式（１）中、Ｍ^＋は一価のオニウムカチオンを示し、Ｙは、カルボニル基等を示し、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、相互に独立に、炭素数１〜１２の直鎖状又は分岐状のアルキル基等を示す。） （もっと読む）