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Fターム[4J100BC08]の内容

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Fターム[4J100BC08]に分類される特許

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【課題】通常露光(ドライ露光)のみならず液浸露光に於いても、プロファイルの劣化が少なく、パターン倒れが改良され、スカムの発生が抑制された、レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)疎水性樹脂及び
(D)溶剤を含有し、樹脂(A)の重量平均分子量と疎水性樹脂(C)の重量平均分子量との差が、下記式を満たすレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
樹脂(A)の重量平均分子量 − 疎水性樹脂(C)の重量平均分子量 ≧3000 (もっと読む)


【課題】PEB温度が低温であっても、感度等に優れ、LWR、DOF等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。
【解決手段】[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】優れたフォーカスマージンで、レジストパターンを製造できるレジスト組成物及び該レジスト組成物に有用な樹脂などを提供する。
【解決手段】以下の〔1〕及び〔2〕の提供。〔1〕式(aa)で表される構造単位を有する樹脂及び当該構造単位を誘導する化合物。


[式(aa)中、Tは、置換基を有していてもよい炭素数4〜34のスルトン環基。Raは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基。Zは、*−X−CO−(但し、Xは、炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基)で表される基などを表す。]〔2〕前記樹脂と、酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】映像品位に関して輝度やコントラストに悪影響を及ぼさず、透明性、接着信頼性、耐久性に優れるとともに、リワーク(修復)に適した紫外線硬化型光学樹脂接着剤組成物を提供する。
【解決手段】画像表示パネルと保護カバープレートとの間の隙間を埋めるための光学樹脂接着剤組成物であって、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するアクリル系重合体(A)と、光重合開始剤(B)とを必須成分とする紫外線硬化型光学樹脂接着剤組成物である。 (もっと読む)


【課題】EUVリソグラフィー又は電子線リソグラフィーに用いられる高感度のレジスト組成物を提供する。
【解決手段】以下の(A)、(B)、(D)及び(E)を含むレジスト組成物の提供
(A)特定の構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂
(B)酸発生剤
(D)溶剤
(E)式(a)で示される化合物


[Rは、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基などを示し、Rは、水素原子、脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】透明性に優れ、紫外光に対して安定で黄変が発生せず、耐熱性、屈折率のバランスに優れ、また、リフローはんだ等の加熱工程において変形や割れを生ぜず加工性にも優れた特性を有し、光半導体装置(半導体発光装置)における発光素子や受光素子などの封止材料として好適に使用できる光半導体封止材料を提供する。
【解決手段】アダマンチル基、ノルボルニル基、ジシクロペンタニル基などの炭素数7以上の脂環式炭化水素基含有メタクリル酸エステルをラジカル重合してなる重合体を含む光半導体封止材料および、前記脂環式炭化水素基含有メタクリル酸エステル50〜97質量%と、水酸基含有アクリル酸エステル3〜50質量%とをラジカル重合してなる重合体を含む光半導体封止材料である。 (もっと読む)


【課題】接合時には高い初期接着力と接着信頼性(特に耐反撥性)を維持しつつ、被着体から剥がす際には容易に剥離して、容易に接合部を分離・解体できる粘着剤層を形成する粘着剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の粘着剤組成物は、下記(a1)、(a2)及び(a3)を含有するモノマー混合物又はその部分重合物、並びに、熱発泡性微粒子を含有することを特徴とする。
(a1):ホモポリマーとした時のガラス転移温度が0℃未満である、炭素数4〜12のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートモノマー
(a2):分子内に少なくとも1の窒素原子と1のエチレン性不飽和結合とを有するモノマー
(a3):ホモポリマーとした時のガラス転移温度が0℃以上である、分子内に1のエチレン性不飽和結合を有するモノマー(前記(a2)は除く) (もっと読む)


【課題】残膜率が優れたパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含み、樹脂がナフタレン骨格を有する化合物に由来する構造単位を樹脂の全構造単位100モルに対して、50モル以上有する樹脂であるレジスト組成物。ナフタレン骨格を有する化合物に由来する構造単位は、式(I)で表される構造単位であることが好ましい。[式(I)中、Rは、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Aは、単結合、−CO−O−又は−CO−O−(CH2ka−CO−O−を表し、kaは1〜7の整数を表し、*はナフチル基との結合手を表す。]
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【課題】有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、パターンの線幅均一性及び感度の現像時間依存性のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】(ア)(A)樹脂中の全繰り返し単位に対して、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位を35モル%以上含有し、かつ酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂と、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有する化学増幅型レジスト組成物によって膜を形成する工程、
(イ)該膜を露光する工程、及び
(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程
を含み、形成されるパターンがネガ型である、パターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】離型性に優れたインプリント用の樹脂モールド材料および樹脂レプリカモールド材料組成物の提供、該材料組成物を含んでなる樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド並びにそれらの製造方法の提供。
【解決手段】インプリント用のモールド樹脂もしくはレプリカモールド樹脂と、硬化性のフッ素系ポリマー(A)0.1〜10重量%とを含む、インプリント用の樹脂モールド材料もしくは樹脂レプリカモールド材料組成物。好ましくは、フッ素系ポリマー(A)が、
(a1)炭素数4〜6のフルオロアルキル基を有するα位置換アクリレート、および
(a2)ホモポリマー状態でのガラス転移点または軟化点が50℃以上を示す高軟化点モノマー 5〜120重量部を繰り返し単位として含んでなり重量平均分子量が3,000〜20,000であるフッ素系ポリマー(A1)である材料組成物。 (もっと読む)


【課題】半硬化物の変形性をコントロールすることにより、成形時のバリの発生が抑制され、成形後の良品率が高く、リフロー工程に用いられる程度に耐熱性が高い硬化物の製造方法の提供。
【解決手段】(メタ)アクリレートモノマー、非共役ビニリデン基含有化合物、および熱ラジカル重合開始剤を含有する硬化樹脂組成物に対して光照射および加熱のうち少なくとも一方を行って、25℃、周波数10Hzにおける複素粘度が105〜108mPa・sの半硬化物を得る工程と、前記半硬化物を成形型に入れ加圧変形し、加熱して熱重合させて硬化物を得る熱重合工程と、を含む硬化物の製造方法(但し、非共役ビニリデン基含有化合物は、(メタ)アクリレートモノマーを含まない。前記半硬化物を得る工程が前記硬化樹脂組成物に対して光照射する工程を含む場合は、前記ラジカル重合開始剤がさらに光ラジカル重合開始剤を含む。)。 (もっと読む)


【課題】対象物を強固に接着して支持しつつ、支持体を対象物から分離可能な積層体およびその積層体の分離方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体は、光透過性の支持体と被支持基板と接着層と支持体および被支持基板との間に設けられ、光吸収性を有している構造をその繰返し単位に含んでいる重合体を含有している分離層とを備えており、重合体は支持体を介して照射される光を吸収することによって変質する。 (もっと読む)


【課題】活性光線又は放射線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、100nm以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れが改良され、現像欠陥の少なく、解像力、孤立DOF、PEB温度依存性など諸性能に優れたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】特定の酸分解性繰り返し単位及び特定の非酸分解性繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】レジスト溶剤への溶解性が高い、スルホニウム塩含有高分子化合物を提供する。
【解決手段】一般式(1a)、(2)及び(3)で示される繰り返し単位を含有する高分子化合物。


(R1はH、F、CH3又はCF3を示す。R2〜R4は、いずれか1つ以上は4−フルオロフェニル基である特定の置換基。R8はH、又はアルキル基を示す。pは0又は1、Bは単結合又は2価の有機基を示す。aは0〜3の整数、bは1〜3の整数、Xは酸不安定基を示す。) (もっと読む)


【課題】優れた形状のレジストパターンを製造できる新規な樹脂、及び、該レジスト組成物などを提供する。
【解決手段】〔1〕式(a)で表される構造単位を有する樹脂。


[式中、Aは、アルカンジイル基、単結合などを表し、Aは、アルカンジイル基などを表す。W及びWは、炭素数4〜36の脂環を表す。sは、1又は2を表す。]〔2〕〔1〕の樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤への再分散性に優れた樹脂粒子を提供することを課題とする。
【解決手段】ビニル系単量体100重量部と、エーテル基と水酸基またはエステル基と水酸基とを含む(メタ)アクリレート系単量体0.1〜30重量部と、リン酸部分エステル系単量体0.01〜1重量部とを含む混合物の重合体であることを特徴とする樹脂粒子により課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】材料の表面に塗布する抗菌剤用組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1):


(式中、R、Rはフルオロアルキル基を、Rは水素原子等を、R6は単結合、2価の有機基を表す。)で表される含フッ素重合性化合物を含む抗菌剤用組成物。 (もっと読む)


【課題】マスクエラーファクター(MEF)に優れるレジストパターンが製造できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂と酸発生剤とを含むレジスト組成物。
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【課題】軟化点が高く、感度が高いレジスト膜を作製できる高分子化合物の提供。
【解決手段】基材成分が、酸の作用により極性が増大するアクリル酸エステルからなる構成単位と、露光により酸を発生する構成単位(a3−0)とを有する高分子化合物を含有するレジスト組成物。
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【課題】長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、[A]塩基解離性基を含む構造単位(f)を有する含フッ素重合体を含有し、金属の合計含有量が30質量ppb以下である感放射線性樹脂組成物である。上記金属が、ナトリウム、マグネシウム又は鉄であり、このナトリウム、マグネシウム又は鉄の各含有量がそれぞれ3質量ppb以下であることが好ましい。上記構造単位(f)の塩基解離性基がフッ素原子を有することが好ましく、上記塩基解離性基がフッ素原子を有する芳香族炭化水素基であることがさらに好ましい。 (もっと読む)


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