【解決手段】下記一般式（１）で示されることを特徴とする重合性モノマー。


（式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基である。Ｒ²は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。Ｒ³は、酸不安定基である。ｍは、１〜４の整数である。）
【効果】本発明の重合性モノマーを（共）重合して得られる高分子化合物をベース樹脂とするポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、本発明によれば、特に超ＬＳＩ製造用又はフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料等として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】モールド剥離性およびドライエッチング耐性に優れるナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）芳香族基とフロロアルキル基を有する重合性単量体（Ａｘ）少なくとも１種と、（Ｂ）光重合開始剤とを含有するナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

【課題】吸湿性や透湿性が低く、適度な弾性を有し、脆さがなく、機械的強度に優れたフィルム、これを用いた偏光板および画像表示装置の提供を目的とする。
【解決手段】（Ａ）炭素数２〜２０のα−オレフィンの少なくとも一種と、（Ｂ）下記一般式で表される環状オレフィンの少なくとも一種とからなる共重合体を含むフィルムであって、該共重合体は該（Ａ）から誘導される繰返し単位のモル分率が１０〜７０モル％、該（Ｂ）から誘導される繰返し単位のモル分率が３０〜９０モル％であり、かつ、重量平均分子量が５０，０００〜１，０００，０００であるフィルム。


式中、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表すが、Ｒ^１〜Ｒ^４のうち、少なくとも一つは直鎖または分岐状の炭素数４以上のアルキル基である。ｍは０または１を表す。 （もっと読む）

【課題】連続的に製造することができる変性ポリオレフィン樹脂の製造方法を提供すること。
【解決手段】塊状のポリオレフィン樹脂（Ａ）と、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００重量部に対して、少なくとも１種の不飽和基（ａ）と少なくとも１種の極性基（ｂ）とを有する化合物（Ｂ）０．０１〜２０重量部と、有機過酸化物（Ｃ）０．００１〜１０重量部とを押出機（Ｉ）に供給する工程、および、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）と前記化合物（Ｂ）と前記有機過酸化物（Ｃ）とを溶融混練する工程とを含み、前記押出機（Ｉ）がコニカル型押出機、ならびに、単軸押出機および／または平行多軸押出機を備え、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）をコニカル型押出機に供給することを特徴とする変性ポリオレフィン樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】画像部のインキ着肉性に優れ、良好な印刷物が得られ、且つ、連続的に製版処理した場合でも、現像液中における析出物（ヘドロ）の発生が抑制された感光性平版印刷版を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物、重合開始剤、及び、界面活性剤として特定の高分子化合物を含有する重合性感光層を有する感光性平版印刷版。 （もっと読む）