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【課題】LWR等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ良好なドライエッチング耐性を有するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(ア)下記一般式(b1)で表される非酸分解性の繰り返し単位(b1)、および、酸によって分解し極性基を生じる基を有する繰り返し単位を含む樹脂(P)、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、(イ)該膜を波長が200nm以下の活性光線又は放射線により露光する工程、及び(ウ)ヘテロ原子及び炭素原子を含み、且つ、炭素原子数が7以上の有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含むパターン形成方法。(式中、Aは酸素原子を含まない、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、Xは水素原子又はアルキル基を表す。)
【化1】
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【課題】高解像のパターンを良好な形状で形成でき、PEB温度のパターン寸法への影響も少ないレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0−1)又は(a0−2)で表される基を含む構成単位(a0)と、酸の作用により極性が増大し且つ多環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a11)と、酸の作用により極性が増大し且つ単環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a12)と、を有する共重合体(A1)を含有するレジスト組成物。式中の基−R−S(R)(R)、Mm+はそれぞれ、全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
[化1]
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【課題】本発明の目的は、通常露光(ドライ露光)によるパターニングにおいて、100nm以下の微細パターンの形成においても、プロファイル形状、パターン倒れ、露光ラチチュード性能に優れ、液浸露光によるパターニングにも優れたポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(C)エステル結合が窒素原子に結合した構造を有するアミン化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】 レジスト組成物調製時の溶解性並びに安定性を高めると共に、レジスト成膜時の膜厚均一性、線幅均一性、現像時のレジスト膜の密着性等の特性を向上させ、且つ安全性を向上させた硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 (A)脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物に対応するモノマー単位及び(B)アルカリ可溶性基を含むモノマー単位を含む共重合体と、ジプロピレングリコールジメチルエーテルを全溶媒中30〜100質量%含有する溶媒とを含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物を提供する。 (もっと読む)


【解決手段】カルボキシル基が酸不安定基により保護された部分構造を有する繰り返し単位を含有するベース樹脂と光酸発生剤と架橋剤と有機溶剤を共に含み、架橋剤がオキシラン環又はオキセタン環から選ばれる官能基を分子内に2つ以上有する化合物であるレジスト組成物を基板上に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させることを特徴とするネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト組成物は、有機溶剤現像において解像性が高く、露光、加熱処理により酸不安定基が脱保護した状態においても高い耐ドライエッチング性を示す特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】 ラジカル硬化系を用いたキャスティング成形法でのレンズ等の光学部品の製造において、成形物の周辺部での不十分な硬化を防止できるラジカル硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のキャスティング成形向け光学材料用ラジカル硬化性組成物は、ラジカル硬化性化合物(A)の1種又は2種以上と、1分間半減期温度が100℃〜160℃の範囲にあり且つ該温度が互いに異なる2種以上の熱ラジカル重合開始剤(B)を含有する。前記ラジカル硬化性化合物(A)としては、分子内に芳香環又は脂環を有する(メタ)アクリル酸エステルが好ましい。前記分子内に芳香環を有する(メタ)アクリル酸エステルとして、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、スチルベン環、ジベンゾチオフェン環及びカルバゾール環からなる群より選択された少なくとも1種の芳香環を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。 (もっと読む)


【課題】電池の耐久性を向上しうるバインダーの提供。
【解決手段】電極用バインダーは、シクロヘキシル(メタ)アクリレートとこのシクロヘキシル(メタ)アクリレートと共重合可能なモノマーとを共重合して得られるポリマーを基材とする。好ましくは、この電極用バインダーでは、上記ポリマーの形成に使用したモノマー全質量に対する上記シクロヘキシル(メタ)アクリレートの質量の比率は、5.0質量%以上70.0質量%以下である。好ましくは、この電極用バインダーでは、上記ポリマーは粒子状を呈している。このポリマーは、コアとこのコアの外側に位置するシェルとを備えている。このシェルは、このコアとは異なる組成を有している。このシェルのガラス転移温度は、−60℃以上65℃以下である。このコアのガラス転移温度は、−60℃以上65℃以下である。 (もっと読む)


【課題】感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)により表される繰り返し単位(A)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位(B)とを備えた樹脂を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。


一般式(I)中、ARは、アリール基を表す。Rnは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。RnとARとは互いに結合して非芳香族環を形成してもよい。
は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。 (もっと読む)


【解決手段】下記一般式(1)で示されることを特徴とする重合性モノマー。


(式中、R1は、水素原子又はメチル基である。R2は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基である。R3は、酸不安定基である。mは、1〜4の整数である。)
【効果】本発明の重合性モノマーを(共)重合して得られる高分子化合物をベース樹脂とするポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、本発明によれば、特に超LSI製造用又はフォトマスクの微細パターン形成材料、EUV露光用のパターン形成材料等として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 (もっと読む)


【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式(1)で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 (もっと読む)


【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度(DOF)が広く、線幅バラツキ(LWR)が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。
【解決手段】(ア)化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記レジスト組成物が、(A)実質的にアルカリ不溶性である樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)架橋剤、(D)溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法、該方法に用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜。 (もっと読む)


【課題】解像性およびMEFなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、窒素原子を側鎖に含む構成単位(a)と、側鎖に、酸解離性基を有するエステル結合を連結基を介して有する(メタ)アクリレート単位(a0)とを有する高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】配向処理した支持基板に塗工することにより、均一なホメオトロピック配向が形成可能な重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】トリプチセン−1,4−ジイルを含む下式(1−1)、(2−1)で代表される化合物、硫黄を含む化合物、CNを含む化合物および縮合環を含む化合物からなる重合性化合物の混合物とアミン系シランカップリング剤とを含有する組成物であって、これを支持基板上に塗布することによってホメオトロピック配向の重合性液晶層を形成することができる重合性液晶組成物。


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【解決手段】紫外線、遠紫外線、電子線、EUV、X線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、下記一般式(1a)又は(1b)のいずれかで示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。
1−COOCH2CF2SO3-+ (1a)
1−O−COOCH2CF2SO3-+ (1b)
(式中、R1はステロイド骨格を有する炭素数20〜50のヘテロ原子を含んでもよい一価炭化水素基を示す。)
【効果】本発明の光酸発生剤は、スルホネートに、嵩高いステロイド構造を有しているため、適度な酸拡散制御を行うことができる。また、レジスト材料中の樹脂類との相溶性もよく、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程での塗布、露光前焼成、露光、露光後焼成、現像の工程に問題なく使用でき、疎密依存性、露光余裕度の問題も解決できる。 (もっと読む)


【課題】通常露光(ドライ露光)、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物に対応する繰り返し単位を含有し、活性光線又は放射線の照射により酸基を生成する樹脂(A)を含有することを特徴とする感光性組成物。
【化1】
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【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物用のモノマーとして有用な化合物およびその製造方法、前記製造方法において中間体として有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物。 (もっと読む)


【課題】基板との密着性、現像残渣の改善、顔料分散性、耐熱性のバランスのとれた感光性樹脂を提供する。
【解決手段】長鎖のモノ(メタ)アクリレート(a)5〜30モル%と、ロジン(メタ)アクリレート(b)5〜30モル%と、エポキシ基を含有するラジカル重合性化合物(c)30〜80モル%と、前記(a)、(b)及び(c)と共重合し得る他のラジカル重合性化合物(d)10〜60モル%とをその合計が100モル%となる量で共重合させ、得られた共重合体に含まれるエポキシ基の5〜100%に不飽和一塩基酸(e)を付加させ、前記(e)成分を付加させたときに生成した水酸基の5〜100%に多塩基酸無水物(f)を付加させて得られる感光性樹脂。 (もっと読む)


【課題】光照射によって屈折率が変化し、かつ、屈折率の変化量が大きく、しかも、容易に成膜することができる新規な化合物、その製造方法およびその化合物からなる屈折率変換材料、光−熱エネルギー変換蓄積材料を提供する。
【解決手段】上記化合物は、下記式(1)で表される。


[mは4〜8の整数、Rは側鎖にノルボルナジエン環を有する(メタ)アクリル系ポリマーを主鎖とする基である。] (もっと読む)


【課題】基板上に塗布する際に、基板上の非画像部に感光性着色組成物の未溶解物が残存することが少なく、基板との密着性にも優れ、硬化性等の画像形成能を低下させることなく、高濃度且つ低膜厚のカラーフィルタを製造することが出来、且つダイコートによる塗布に際して、ダイリップ先端での乾燥凝集を抑制し、高歩留まりでカラーフィルタを製造し得る色材分散液を提供する。
【解決手段】(A)色材、(B)分散剤及び(C)溶剤を含有する色材分散液であって、(B)分散剤が特定の化合物を必須とする単量体成分を重合してなるポリマーを含むことを特徴とする色材分散液。 (もっと読む)


【課題】画像部のインキ着肉性に優れ、良好な印刷物が得られ、且つ、連続的に製版処理した場合でも、現像液中における析出物(ヘドロ)の発生が抑制された感光性平版印刷版を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物、重合開始剤、及び、界面活性剤として特定の高分子化合物を含有する重合性感光層を有する感光性平版印刷版。 (もっと読む)


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