【課題】光学等方性、機械的強度及び高温下における寸法安定性に優れる光学フィルム、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】メタクリル酸単量体及びメタクリル酸エステル類から選ばれる第一の単量体から形成される第一の構造単位５０〜９５質量％、特定のＮ−置換マレイミド化合物から選ばれる第二の単量体から形成される第二の構造単位０．１〜２０質量％及び第二の単量体とは異なる、特定のＮ−置換マレイミド化合物から選ばれる第三の単量体から形成される第三の構造単位０．１〜４９．９質量％を有するアクリル系熱可塑性樹脂を主成分として含み、１２０℃で３０分間加熱した時の熱収縮率の絶対値が、ＭＤ方向及びＴＤ方向のいずれも１．５％以下であり、耐折回数が、ＭＤ方向及びＴＤ方向のいずれも５回以上であり、面内方向の位相差の絶対値が２０ｎｍ以下であり、厚さ方向の位相差の絶対値が２０ｎｍ以下である光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】厚膜においても微細パターンの形成が可能であり、優れた可視光透過率を有し、かつ、高温で長時間の熱履歴においても樹脂着色が少ない優れた耐熱性を有する感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、並びにこれらを用いた電子部品を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及びヒンダードフェノール系構造を有する化合物（Ｃ）を含む感光性樹脂組成物であって、（Ａ）成分が、（メタ）アクリレート化合物を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、工業的な水溶性重合体の製造に適用可能な光重合法として、紫外領域の光量が小さく、作業環境上安全性の高い光源で重合できる方法を完成し、その手法を利用して水溶性重合体、およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明者らは、前記課題を達成するために鋭意研究を重ねた結果、１種以上のビニル基を有する水溶性単量体、可視領域に吸収帯を有する有機色素および過酸化物を必須として含有する水性媒体からなる溶解液に、紫外領域の光量の小さい光源で可視光照射することにより、短時間でかつ残存単量体量の低減した重合体を得ることができることを見出し、本発明の完成に至った。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基によりカルボキシル基が保護された構造を有する繰り返し単位（ａ１）とアミノ基、アミド結合、カルバメート結合、含窒素複素環から選ばれる構造を１つ以上含む繰り返し単位（ａ２）とを含有する高分子化合物［Ａ］と、光酸発生剤［Ｂ］と、有機溶剤［Ｃ］とを共に含むレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の特定の構造の高分子化合物と光酸発生剤と有機溶剤を含むレジスト組成物を有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで表面難溶層の形成を防ぎ、微細トレンチパターンやホールパターンの広い焦点深度を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】製造工程での汚染による金属不純物量の増加を２ｐｐｂ以下に抑制できる重合体または重合体溶液の製造方法の提供。
【解決手段】下記（１ａ）〜（１ｂ）の工程を含む、重合体または重合体溶液の製造方法。（１ａ）重合体または重合体溶液の製造に使用される原料を、１立方メートル中に存在する粒径０．５μｍ以上の粒子の数が３，５２０，０００個（以下、「クラス８」と表記）以下の雰囲気下で取り扱い、クラス８を超える外気に接触させることなく重合釜に移送し、該重合釜にて単量体を重合し、重合体または重合体溶液を得る工程。（１ｂ）前記（１ａ）で得た重合体または重合体溶液を、クラス８を超える外気に接触させることなくクラス８以下の雰囲気下へ移送し、該雰囲気下にて容器に充填する工程。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ用又はＥＢ用として有用なレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（ａ５−０−１）又は式（ａ５−０−２）で表される基を含む構成単位（ａ５）と式（ａ６−１）で表される構成単位とを有する樹脂成分を含有し、構成単位（ａ５）を誘導するモノマー量が、該構成単位（ａ５）を有する重合体に対して１００ｐｐｍ以下のレジスト組成物。式中、Ｑ^１、Ｑ^２、Ｑ^３は単結合又は連結基；Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は有機基であり、Ｒ^４とＲ^５とは環を形成してもよい。式中の基−Ｒ^３−Ｓ^＋（Ｒ^４）（Ｒ^５）は全体で芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない。Ｖ⁻は対アニオン、Ａ⁻はアニオンを含む基；Ｍ^ｍ＋は芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない有機カチオン；ｍは１〜３の整数；Ｒは水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基；Ｐ^３は芳香族炭化水素基である。
［化１］
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【課題】低加湿状況下でのプロトン伝導率を高め得る新たなホスホン酸ポリマーを提供する。
【解決手段】本発明のホスホン酸ポリマーは、下記の構造式（1）で表される分子鎖構造を繰り返し単位として含む。こうした分子鎖構造により、側鎖末端のホスホン酸基を動き易くする。
【化1】
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【課題】ＥＵＶ用またはＥＢ用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するＥＵＶ用又はＥＢ用レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）又は（ａ０−２）で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記基材成分（Ａ）に加えて、光反応型クエンチャー（Ｃ）を含有することを特徴とするＥＵＶ用又はＥＢ用レジスト組成物。式中の基−Ｒ^３−Ｓ^＋（Ｒ^４）（Ｒ^５）は、全体で芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない。Ｍ^ｍ＋は、芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない。
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【課題】炭素数８以上のパーフルオロアルキル基を含まず、かつ入手が容易である含フッ素単量体を用いて、表面処理剤を提供する。
【解決手段】（i）含フッ素オレフィンから誘導された繰り返し単位、および
（ii）炭化水素系ビニルから誘導された繰り返し単位
を有してなる含フッ素重合体を含んでなる表面処理剤組成物。含フッ素オレフィンが、一般式：ＣＲ^１Ｒ^２＝ＣＲ^３Ｒ^４［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基、一般式：Ｃ_ｍＨ_ｎＦ_ｐ（式中、ｍは１〜１０の整数、ｎは、１〜２ｍの整数、ｐは２ｍ＋１−ｎである）で表される炭素数１〜１０のポリフルオロアルキル基、炭素数６〜１８のパーフルオロアリール基又は炭素数６〜１８のポリフルオロアリール基である。］で示されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこれを含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ^２はエチレン性二重結合を含む基；Ｗは２価の脂環式炭化水素基；Ｔ^１は、単結合、２価の脂肪族炭化水素基等；Ｔ^２は２価の脂肪族炭化水素基等］ （もっと読む）

【課題】アゾ顔料の結着樹脂への分散性が良好で、良好な色調を有し、画像カブリ抑制、転写効率が良好で長期的に安定した画像が得られるトナーの提供。
【解決手段】少なくとも、結着樹脂、特定の高分子樹脂ユニットに特定のビスアゾ骨格ユニットが結合した化合物、及び、着色剤としてアゾ顔料を含有するトナー母粒子を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】感光性水系エポキシ樹脂組成物に配合した場合に、分散性に優れるとともに硬化効率を向上させることのできるエポキシ樹脂硬化用微粒子、該エポキシ樹脂硬化用微粒子の製造方法、及び、該エポキシ樹脂硬化用微粒子を含有する感光性水系エポキシ樹脂組成物の提供。
【解決手段】表面に酸増殖反応を引き起こす基を有するエポキシ樹脂硬化用微粒子であって、水系媒体中で、下記一般式（１）で表される構造を有するモノマーを主成分とするラジカル重合性モノマーを重合させることによって得られるエポキシ樹脂硬化用微粒子。


一般式（１）中、Ｘは水素原子又はメチル基を表し、Ａは酸増殖反応を引き起こす基を表す。 （もっと読む）

【課題】高感度かつ露光後焼成が不要で、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた透明膜の形成に有用なポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】アルコキシシリルを有するラジカル重合性モノマー（ａ１）と、酸性基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）と、（ａ１）と（ａ２）以外のラジカル重合性モノマー（ａ３）とをラジカル共重合してなるポリマー（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、及び有機溶剤（Ｃ）を含有するポジ型感光性組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】炭素数６以下のパーフルオロアルキル基であっても撥水撥油剤、防汚剤または離型剤として要求される充分な性能を与える、含フッ素単量体として使用される含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】（ａ）式：CH₂=C(-X)-C(=O)-Y-Z-Ｗ-Rf
［式中、Ｘは、水素原子、一価の有機基またはハロゲン原子であり、
Y は、-O- または -NH-であり、
Ｚは、直接結合または二価の有機基であり、
Ｒｆは、炭素数1〜20のフルオロアルキル基であり、
Ｗは、-(CL¹L²-CL³L⁴)_a-、または-(CL⁵L⁶-CL⁷L⁸)_a-である。
（Ｌ¹〜Ｌ⁴の少なくとも１つは、塩素原子であり、
Ｌ¹〜Ｌ⁴の残りの少なくとも１つは、水素原子であり、
Ｌ⁵〜Ｌ⁸の少なくとも１つは、炭素数１〜２２の炭化水素基であり、
Ｌ⁵〜Ｌ⁸の残りの少なくとも１つは、フッ素原子であり、
aは、１〜５０の整数である。）］
で示される含フッ素単量体から誘導された繰り返し単位
を有してなる含フッ素重合体を含んでなる含フッ素組成物。 （もっと読む）

【課題】形状に優れたレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。
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【課題】良好な形状を有するレジストパターンレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこれを含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ、脂肪族炭化水素基を表すか、Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合し環を形成する；Ｒ^３は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基等；ｍ及びｎは、それぞれ０又は１；Ｘ^１は、単結合、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ−＊（ｌは１〜６の整数、＊はＯとの結合手を表す。）等を表す］ （もっと読む）

【課題】感度、解像性、リソグラフィー特性及びエッチング耐性に優れる高分子化合物、レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化し、（ａ５−０）で表される構成単位を有する高分子化合物を含む基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。（式（ａ５−０）中、Ｒは水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基である。Ｒ^１は硫黄原子又は酸素原子である。Ｒ^２は単結合又は２価の連結基である。Ｙは芳香族炭化水素基、又は多環式基を有する脂肪族炭化水素基である。）
（もっと読む）

【課題】解像性に優れ、良好な耐エッチング性及び硬化膜柔軟性を有する感光性樹脂組成物及び積層体の提供。
【解決手段】全固形分を基準として、以下の：（Ａ）アルカリ可溶性高分子：１０〜９０質量％、（Ｂ）エチレン性不飽和二重結合を有する単量体：５〜７０質量％、及び（Ｃ）光重合開始剤：０．０１〜２０質量％、を含む感光性樹脂組成物であって、該（Ａ）アルカリ可溶性高分子は、酸当量１００〜６００、及び重量平均分子量５，０００〜２００，０００を有し、かつベンジル（メタ）アクリレート系化合物と、脂環式炭化水素基又は複素環式基を有する（メタ）アクリレート系化合物とを含む単量体成分の共重合体である、前記感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板絶縁層組成物、これを用いたプリプレグ及び基板に関する。
【解決手段】本発明は、可溶性熱硬化性液晶オリゴマー（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｔｈｅｒｍｏｓｅｔｔｉｎｇ Ｏｌｉｇｏｍｅｒ）、アルコキシド金属化合物、及び酸化グラフェンを含む基板絶縁層組成物、これを用いた絶縁材料、及び基板に関する。
本発明による絶縁層組成物は、熱膨張係数を効果的に低減することができるため、これを基板の絶縁材料として使用することにより、熱による寸法変形が最小化され、熱的安定性が向上した基板を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】解像度、密着性、レジスト形状、めっき後の剥離性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びに、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、分散度が１．６以下のバインダーポリマーと、２，２−ビス［（４−（メタ）アクリロイルオキシポリアルキレンオキシ）シクロヘキシル］プロパンを含む光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）