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Fターム[4J100BC43]の内容

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Fターム[4J100BC43]に分類される特許

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【課題】高耐熱性、非結晶性及び溶媒への高い溶解性を有し、且つ正孔注入輸送材料として好適な高い正孔移動度を有する芳香族アミン誘導体の提供。
【解決手段】下記式(6),(7)で表される芳香族アミン誘導体。


式中、XはO、S又はN(R)であり、RはH、D、アルキル基等であり、R、Rはアルキル基、アルケニル基等であり、a,bは独立に0〜3の整数であり、Q,Qは飽和、不飽和の環の原子数5〜25の基である。 (もっと読む)


【課題】光及び/又は熱によって硬化する液晶シール剤であって、低液晶汚染性に極めて優れる為、液晶表示素子の高精細化、高速応答化、低電圧駆動化、長寿命化を可能とし、さらには保存安定性にも優れる為、作業性が非常に良い液晶滴下工法用液晶シール剤を提案すること。
【解決手段】(A)硬化性樹脂、(B)熱硬化剤を含有する液晶シール剤において、成分(A)中に、(a)一分子中にアクリル基及びメタクリル基をそれぞれ1つ以上有する化合物を含有する液晶シール剤。 (もっと読む)


【課題】十分な溶解性を示し、使用可能な濃度範囲が広くて、優れたヘイズ低下性を示す材料を提供すること。
【解決手段】下記一般式で表される化合物を含むヘイズ低下剤。


[式中、Xは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基;Cyは環状構造を有する二価の基を表し、Lは単結合、−O−、−CO−、−S−、−NR−(Rは水素原子または炭素数が1〜6のアルキル基)、−SO2−、−C=N−、−C=C−、−C≡C−、アルキレン基またはフッ化アルキレン基あるいはそれらを組み合わせてなる基;Hbは炭素数2〜30のフッ化アルキレン基を;nは1または2を表す。] (もっと読む)


【課題】高いエッチング耐性を有するレジストパターンを形成させることのできる微細パターン形成用組成物、およびそれを用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】側鎖に芳香族含有置換基を有する水溶性樹脂と純水とを含む微細パターン形成用組成物。この組成物は、水溶性樹脂に結合した酸基を含むか、または組成物中に遊離の酸を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】高解像性で良好な形状の孤立ラインパターンを形成することができ、且つ、ドライエッチング耐性を含む他のレジスト性能にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも1つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が下記一般式(1)で表される基によって置換されている基を少なくとも1つ含む化合物(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【化1】
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【課題】高感度、良好なラフネス特性、良好なパターン形状、及び現像欠陥の低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】フッ素原子を含有する繰り返し単位を含む樹脂(Aa)と、酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂であって、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位(B)を含む樹脂(Ab)を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】接着剤の設計の自由度、高接着強度を実現できる(メタ)アクリル樹脂、及び樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される(メタ)アクリル樹脂。
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【課題】 本発明が解決しようとする課題は、液晶組成物に大きな屈折率異方性、広い液晶相温度範囲及び高い保存安定性をもたらし、当該液晶組成物を重合させることによりパターン解像度が高く、耐熱性が高く、さらにヘイズ・白ムラが少ない高分子膜をもたらす重合性化合物を提供することである。
【解決手段】 一般式(I)で表される重合性化合物を提供し、併せて当該重合性化合物を構成部材とする重合性液晶組成物を提供する。
【化1】
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【課題】露光光源として電子線、X線又はEUV光を用いるリソグラフィーにおいて、高解像性であり、且つ、ラフネス特性及びパターン形状が良好な感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位(A)と、プロトンアクセプター基を有する繰り返し単位(B)と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する基を有する繰り返し単位(C)を含み、且つ、繰返し単位(A)として、下記一般式(I)〜(III)で表される少なくとも1つの繰返し単位を有する樹脂(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】耐熱性、無機密着性、湿熱安定性を有し、かつ、高度な光学等方性(低複屈折性)を有する光学等方性支持板、インナータッチパネル用光学等方性支持板及びインナータッチパネルを提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される第一の構造単位50〜95質量%と、下記式(2)で表される第二の構造単位0.1〜20質量%と、下記式(3)で表される第三の構造単位0.1〜49.9質量%とを有するアクリル系熱可塑性樹脂で形成される光学等方性支持板12。




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【課題】従来から知られるレジスト組成物では、レジストパターン製造時のフォーカスマージン(DOF)が必ずしも十分ではない場合があった。
【解決手段】式(I)で表される塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。


[式(I)中、Q及びQは、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lは炭素数2〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。但し、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基のうち、環Wと結合するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わらない。環Wは、炭素数2〜36の複素環を表す。Zは、有機カチオンを表す。] (もっと読む)


【課題】 高解像性で良好な形状の孤立ラインパターンを形成することができ、且つ、ラフネス特性を含む他のレジスト性能にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 少なくとも1つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が下記一般式(1)で表される基によって置換されている基を少なくとも1つ含む化合物(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。(式中の各符号は、特許請求の範囲及び明細書に記載の意味を表す。)
【化1】
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【課題】高屈折率を有し、紫外域の吸収や蛍光が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利な紫外線硬化装置で重合可能な化合物とその製造法、及びその化合物を含む重合性組成物を提供する。
【解決手段】10−ヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタノアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物をアシル化することよりなる10−アシルオキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタノアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物の製造法及び該(メタ)アクリレート化合物並びに該(メタ)アクリレート化合物を含む重合性組成物。 (もっと読む)


【課題】熱性、耐光性に優れ、光の拡散による表示コントラストの低下がない、着色力が強く高明度なカラーフィルタを製造可能な着色組成物、該着色組成物により得られた高明度なカラーフィルタ、及び該カラーフィルタを備える液晶表示装置並びにELディスプレイを提供する。
【解決手段】ポリマーが側鎖として持つイソシアネート基あるいはブロック化されたイソシアネート基と、トリアリールメタン染料の1級あるいは2級のアミン基と、を反応させたことを特徴とするトリアリールメタン染料を側鎖に持つ高分子化合物。 (もっと読む)


【課題】合成後に抽出や単離の工程を必要とせず、塩素を含む廃棄物を発生させることなく簡便に合成することが可能であり、フッ素源として炭素数が少ないフルオロアルキル鎖を持つ化合物を使用しても、高いフッ素含有率を達成して低屈折率化が可能な含フッ素(メタ)アクリル酸エステル化合物を提供すること。
【解決手段】含フッ素エポキシ化合物に(メタ)アクリル酸を反応させて式(2)の(メタ)アクリル酸エステル化合物を得、当該化合物のヒドロキシル基に、多塩基性カルボン酸無水物を反応させてカルボキシル基含有(メタ)アクリル酸エステル化合物を得、当該化合物のカルボキシル基に対して、含フッ素エポキシ化合物を反応させて含フッ素(メタ)アクリル酸エステル化合物を得る。


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【課題】有機溶剤現像時のパターン部の意図しない溶解に起因する解像性及び矩形性の低下を防ぎ、ドライエッチング耐性に優れ、特にKrF露光に好適なパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(ア)酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰返し単位を有する樹脂(A)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び溶剤(C)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型パターンを形成する工程を有するパターン形成方法であって、樹脂(A)中の全繰返し単位に対して、下記一般式(I)で表される繰返し単位の含有量が20モル%未満で、かつ一般式(I)以外の非フェノール系芳香族基を有する繰返し単位を有する、パターン形成方法。
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【課題】EUV用途のために、改良された(すなわち、低減された)ライン幅ラフネスを有するフォトレジストポリマーを提供する。
【解決手段】ポリマーは、酸脱保護性モノマー、塩基可溶性モノマー、ラクトン含有モノマーおよび光酸生成モノマーを含むモノマー;下記式の連鎖移動剤;並びに場合によって開始剤の重合生成物を含む:


式中、Zはy価のC1−20有機基であり、xは0または1であり、Rは置換もしくは非置換のC1−20アルキル、C3−20シクロアルキル、C6−20アリール、またはC7−20アラルキルである。 (もっと読む)


【課題】高屈折率を有し、紫外域の吸収や蛍光性が無く透明性にすぐれ、廃棄の際には環境への悪影響が無く、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利な紫外線硬化装置で重合可能な化合物とその製造法、及びその化合物を含む重合性組成物を提供する。
【解決手段】10−ヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタのアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物を炭酸エステル化することによる10−(置換カルボニルオキシ)−1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタノアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物の製造法及び、該(メタ)アクリレート化合物並びに該(メタ)アクリレート化合物を含む紫外線硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】主に歯科用複合材に使用して、低硬化収縮及び低硬化応力をもたらし得る組成物およびその製造方法の提供。
【解決手段】重合性基として、少なくとも1つの(メタ)アクリレートを有する重合性環状オリゴマーを含む組成物の製造方法において、該製造方法は、(A)該少なくとも1つの(メタ)アクリレートを含む、反応性で且つフリーラジカル重合性の前駆体と;第一級ジオール、第二級アミン又は二価酸を含むカップリング剤とまたは(B)活性化カップリング剤と;反応性で且つフリーラジカル重合性の前駆体との縮合反応を介して、該重合性環状オリゴマーを製造することを含むことを特徴とする製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ガラス基板に対する密着性や弾性回復力に優れた硬化物を得ることのできるアルカリ可溶型硬化性樹脂組成物の提供を課題としている。
【解決手段】アルカリ可溶型硬化性樹脂組成物であって、酸基を導入し得るモノマーを必須モノマーとして含むモノマー成分を、ポリシロキサン結合を有し、かつ、チオール基を2個以上有するメルカプト変性ポリシロキサンの存在下で重合して得られる酸基含有ポリマーの酸基に、ラジカル重合性不飽和二重結合と酸基と反応し得る官能基とを有する化合物を反応させることによって得られる感光性ポリマーと、多官能モノマーと、光重合開始剤とを有することを特徴としている。 (もっと読む)


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