【課題】半導体の微細加工に利用できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、Ｔ^１は、単結合又は芳香族炭化水素基を表し、Ｌ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、ｍは０又は１を表し、Ｌ^２及びＬ^３は、単結合又は２価の炭素数１〜６の飽和炭化水素基を表し、環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、炭素数３〜３６の炭化水素環を表し、Ｒ^１及びＲ^２は、水素原子等を表し、Ｒ^３及びＲ^４は、ヒドロキシ基等を表し、Ｒ^５は、水素原子又はメチル基を表し、ｔは、０〜２の整数を表し、ｕは、０〜２の整数を表す。］
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【課題】本発明は、ガラス基板に対する密着性や弾性回復力に優れた硬化物を得ることのできるアルカリ可溶型硬化性樹脂組成物の提供を課題としている。
【解決手段】アルカリ可溶型硬化性樹脂組成物であって、酸基を導入し得るモノマーを必須モノマーとして含むモノマー成分を、ポリシロキサン結合を有し、かつ、チオール基を２個以上有するメルカプト変性ポリシロキサンの存在下で重合して得られる酸基含有ポリマーの酸基に、ラジカル重合性不飽和二重結合と酸基と反応し得る官能基とを有する化合物を反応させることによって得られる感光性ポリマーと、多官能モノマーと、光重合開始剤とを有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、短時間でＰＥＢを行うことができ、それによりスループットの向上や、酸拡散距離を短くすることができることによる解像性の向上が達成できるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被加工基板上に波長６００〜２０００ｎｍの範囲の光を吸収する下層膜を形成し、該下層膜上にフォトレジスト膜を形成し、該フォトレジスト膜を露光した後、波長６００〜２０００ｎｍの光を照射して加熱することでポストエクスポジュアーベーク（ＰＥＢ）を行い、その後現像によってパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】電極間にステップによる電気的接合の欠陥がなく、分子配列の規則性が高く、電気的特性が向上した高分子結晶デバイスを提供する。
【解決手段】螺旋型ポリアセチレンからなる高分子結晶４０１と一対の電極４０３，４０４を備えたデバイスにおいて、前記一対の電極４０３，４０４の各々の電極の少なくとも一部を、前記螺旋型ポリアセチレンからなる高分子結晶の同一テラス４０２内に配置する。また、前記一対の電極４０３，４０４間を結ぶ任意の直線のうち、少なくとも一部を、螺旋型ポリアセチレンの螺旋軸に平行になるように配置する。 （もっと読む）

【課題】室温付近で液晶相を示し、溶媒溶解性に優れる重合性組成物であって、硬化させると、均一な膜状態を維持し、配向制御及び光学特性に優れ、且つ基材への密着性に優れる重合膜が得られる重合性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物（Ａ）並びに（メタ）アクリレート基及びカルボキシル基を各々少なくとも一つ有する化合物（Ｂ）を含有する重合性組成物。下記式中、Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に水素原子又はメチル基を表し、環Ａ¹〜Ａ³は、各々独立にベンゼン環、ナフタレン環等を表し、Ｘ、Ｙ及びＺは、各々独立にＣ１〜８アルキル基等を表し、Ｌ¹〜Ｌ⁴は、各々独立に単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ等を表し、ａ、ｂ及びｃはそれぞれ環Ａ¹〜Ａ³における置換基の数であって、環Ａ¹〜Ａ³に含まれる６員環の数をｖとすると、ａ、ｂ及びｃは各々独立に２ｖ＋２以下の整数を表す。
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【課題】太陽電池モジュールの封止材との密着性が良く、また紫外線吸収性能に優れ、長期間使用した場合でも基材シートの光劣化を生じ難く、長期安定性に優れた太陽電池モジュール用裏面保護シートの提供。
【解決手段】基材シートの一方の面にアクリル系高分子型紫外線吸収層を有し、前記アクリル系高分子型紫外線吸収層は、分子内に紫外線吸収性ユニットをもつ単量体単位を有することを特徴とする太陽電池モジュール用裏面保護シート。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、下水処理場における下水混合生汚泥や下水余剰汚泥、下水消化汚泥、各種余剰汚泥に対して良好な凝集とケーキ含水率低下能の高い汚泥脱水剤を開発することにより、種々の脱水機に対応でき、脱水ケーキ含水率低下の要求を満足し、同時に架橋あるいは分岐した水性高分子の難点とされる薬剤添加量の増加にも対応でき汚泥脱水剤を、ポリアミジン系水溶性高分子を用いず、市販品として汎用されている（メタ）アクリル系単量体を使用して開発する。
【解決手段】
下記（Ａ）と下記（Ｂ）を含有する凝集処理剤によって達成できる。
（Ａ）；特定のカチオン性単量体８０〜１００モルとその他の単量、および前記単量体混合物に対し２０〜３００ｐｐｍの架橋性単量体を添加して重合した水性高分子。
（Ｂ）；（Ａ）とは異なる特定のカチオン性単量体８０〜１００モルとその他の単量体を添加して重合した水性高分子。
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【課題】レジストパターンの製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好であり、あるいはマスクエラーファクター（ＭＥＦ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造できるレジスト組成物などを提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有するレジスト組成物。


［式（ａ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基；Ａ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は式（ａ−ｇ１）；ｓは０又は１；Ａ¹⁰及びＡ¹²は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ａ¹¹は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は単結合；Ｘ¹⁰及びＸ¹¹は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基；ただし、Ａ¹⁰、Ａ¹¹、Ａ¹²、Ｘ¹⁰及びＸ¹¹の合計炭素数は６以下；Ｒ^２は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】各種（メタ）アクリルモノマーに溶解するとともに、従来のアクリル化合物と比較して高屈折率を有するレンズ材用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される化合物、および、（Ｂ）光ラジカル開始剤、を含有する、レンズ材用硬化性組成物。


（上記一般式（１）中、Ｘは硫黄原子、又は酸素原子である。Ｒ^１は水素原子、又は（メタ）アクリロイル基であり、少なくとも１つは（メタ）アクリロイル基である。ｎは０〜２の整数である。） （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なレジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、側鎖に−ＳＯ_２−含有環式基を有するアクリルアミド系構成単位（ａ０−１）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）と、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】屈折率が高く、組成物の塗布後の塗布面状の経時変化が小さく、かつ、現像処理後の屈折率の低下が小さい膜を形成できる組成物、並びに、これを用いた透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、透明膜の製造方法、マイクロレンズの製造方法、及び、固体撮像素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 金属酸化物粒子（Ａ）としての酸化チタン粒子又は酸化ジルコニウム粒子と、ベンジル（メタ）アクリレートから誘導される繰り返し単位を含有するバインダーポリマー（Ｆ）と、界面活性剤（Ｇ）とを含有する組成物であって、前記界面活性剤（Ｇ）の含有量が前記組成物の全固形分に対して０．００１０質量％〜３．０質量％である組成物。 （もっと読む）

【課題】トナーの帯電量および帯電量の立ち上がりが温湿度環境の変化に影響されやすく、プリント時に画像濃度の変化が生じたり、特に高温高湿下において、帯電量分布の不均一性にともなう画像かぶりなどの不具合が生じる場合があった。
【解決手段】帯電成分と、着色剤を含有するトナー粒子を有するトナーが、下記式（１）で表される部分構造を側鎖として有する重合体を含有することを特徴とする。


（Ｒ¹は、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１以上１８以下のアルキル基、又は、炭素数１以上１８以下のアルコキシル基を示す。Ｒ²は、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１以上１８以下のアルキル基、又は、炭素数１以上１８以下のアルコキシル基を示す。ｍは０以上３以下の整数を示し、ｍが２または３の場合、Ｒ¹はそれぞれ独立して選択できる。ｎは１以上３以下の整数を示す。＊は、重合体における連結位置を表す。） （もっと読む）

【課題】表面の凹凸が小さいパターン位相差フィルムを製造できるパターン位相差フィルム用液晶組成物を提供する。
【解決手段】パターン位相差フィルム用液晶組成物に、（Ａ）重合性液晶モノマー７０重量部以上９９重量部以下と、（Ｂ）重合性非液晶モノマー１重量部以上３０重量部以下と、（Ｃ）光重合開始剤０．１重量部以上１０重量部以下と、（Ｄ）フッ素を含む界面活性剤０．０１重量部以上１重量部以下とを含有させる。 （もっと読む）

【課題】高感度であること、ＬＥＲが良好であること、露光ラチチュードが良好であること、及びパターン形状が良好であることを同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位（Ａ）と、下記一般式（Ｂ１）で表される繰り返し単位（Ｂ）と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｃ）とを有する樹脂を含有する（一般式（Ｂ１）中、Ｒ_３は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、又はシアノ基を表し；Ｙは、単結合又は２価の連結基を表し；Ｚは、単結合又は２価の連結基を表し；Ａｒは、芳香環基を表し；ｐは１以上の整数を表す。）。
【化１】
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【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物である含フッ素化合物。含フッ素化合物の前記エチレン性二重結合が開裂した構造の構成単位を有する高分子化合物である含フッ素化合物。式中、Ｑは１価の親水基から水素原子１つを除いた基であり、Ｒ^２は、重合性基を含む置換基を有し、フッ素原子を有していてもよい芳香族環式基を含む有機基であり、前記重合性基が、エチレン性不飽和二重結合を有する基であり、Ｒ^３は−Ｒ^４１−Ｒ^４２で表される基である。Ｒ^４１は無置換の炭素数１〜９のアルキレン基であり、Ｒ^４２は炭素数１〜９のフッ素置換アルキル基である。ただし、Ｒ^４１とＲ^４２との炭素数の合計は１０以下である。
［化１］
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【課題】簡便な方法で、抵抗値が低く、電流の均一性に優れ、かつ長期保存での導電性の劣化がなく、安定性の高い透明導電性基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板２上に、金属を含有する細線電極３と導電性ポリマー含有層４とが形成され、該細線電極３が金属粒子及び溶剤を含有する導電性インクにより形成され、該導電性インクを基板２上に付与した後、該導電性インクの焼成温度Ｔ_０（℃）より低く、かつ該導電性インク成分の揮発温度Ｓ_Ｔ（℃）よりも高い温度Ｔ_１（℃）でＳ_１（分）加熱された後に、焼成温度Ｔ_０（℃）でＳ_２（分）加熱され、かつ該焼成温度Ｔ_０（℃）と該溶剤の揮発温度よりも高い温度Ｔ_１（℃）との差が、２００℃＞Ｔ_０−Ｔ_１＞５０℃の関係を満たす透明導電性基板１を形成する。 （もっと読む）

【課題】多様な液晶デバイスに用いることができる新規な重合性モノマー化合物、特に、該新規な重合性モノマー化合物を含有し、ブルー相を発現する新規な液晶組成物であり、また、その液晶組成物を用いて作製した液晶表示装置を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｇ１）で表される重合性モノマー化合物を提供する。一般式（Ｇ１）中、ｎ及びｍは１乃至２０の整数であり、互いに同じでも異なっていてもよい。また、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に水素又はメチル基を表す。
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【課題】解像度及び密着性に優れ、且つめっき耐性が良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板の製造方法及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、（Ａ）成分が、（ａ１）ベンジル（メタ）アクリレート誘導体由来の構成単位を５０〜８０質量％、（ａ２）スチレン誘導体由来の構成単位を５〜４０質量％、（ａ３）（メタ）アクリル酸アルキルエステル由来の構成単位を１〜２０質量％、及び（ａ４）（メタ）アクリル酸由来の構成単位を５〜３０質量％含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 天然からの糖類を用いたこれまでの技術では、その組成が一定でないため必ずしも安定したウイルス捕捉機能を有する高分子化合物を調整できるわけではなく、十分なウイルス捕捉能を発現しているものとはいえなかった。本発明では、天然の糖類を用いない高分子化合物において、十分なウイルス捕捉能を発現する高分子化合物を提供することを課題とする。
【解決手段】 グルコサミン骨格を有する糖類が固定化された高分子化合物を提供することによる。 （もっと読む）

【課題】安価で製造可能なイソプレン−イソブテン−スチリルイソプレン共重合体又はイソプレン−イソブテン−スチリルイソプレン−フェニルイソプレン共重合体の新規製造方法およびその製造された共重合体を含む架橋ゴムを提供する。
【解決手段】イソプレン−イソブテン−スチリルイソプレン共重合体又はイソプレン−イソブテン−スチリルイソプレン−フェニルイソプレン共重合体を製造する方法について、イソプレン−イソブテン共重合体のハロゲン化物と、触媒と、金属マグネシウム除去工程を経たハロゲン化マグネシウム基を含むグリニャール試薬溶液によるグリニャールカップリング反応を用いる。 （もっと読む）