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【課題】フォーカスマージン(DOF)に優れ、欠陥の少ないレジストパターンを製造することのできる化合物を提供すること。
【解決手段】式(I)で表される化合物。


[式(I)中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。Aは、式(a−g1)


式(a−g1)中、Yは、アントラセン環、フルオレン環又はフェナントレン環を含む2価の有機基を表す。R2は、炭素数1〜12のフッ化アルキル基を表す。] (もっと読む)


【課題】高感度、高解像性(例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス(LER))、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 フェノール性水酸基と、フェノール性水酸基における水酸基の水素原子が置換基で置換されてなる基とを有し、かつ、下記(a)〜(c)を同時に満たす高分子化合物(A)を含有する、化学増幅型レジスト組成物。
(a)分散度が1.2以下
(b)重量平均分子量が2000以上6500以下
(c)ガラス転移温度(Tg)が140℃以上 (もっと読む)


【課題】ドライエッチング耐性及び露光ラチチュード(EL)のいずれにも優れるパターン形成方法、該パターン形成方法に供せられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該パターン形成方法により形成されるレジスト膜、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】(ア)多環芳香族基を有する繰り返し単位(a)及び酸の作用により分解してカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位(b)を有する樹脂(A)、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、
(イ)該膜をArFエキシマレーザーにより露光する工程、及び
(ウ)該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程
を有するパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、無機密着性、湿熱安定性を有し、かつ、高度な光学等方性(低複屈折性)を有する光学等方性支持板、インナータッチパネル用光学等方性支持板及びインナータッチパネルを提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される第一の構造単位50〜95質量%と、下記式(2)で表される第二の構造単位0.1〜20質量%と、下記式(3)で表される第三の構造単位0.1〜49.9質量%とを有するアクリル系熱可塑性樹脂で形成される光学等方性支持板12。




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【課題】高感度、良好なラフネス特性、良好なパターン形状、及び現像欠陥の低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】フッ素原子を含有する繰り返し単位を含む樹脂(Aa)と、酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂であって、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位(B)を含む樹脂(Ab)を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】臭気の問題がなく、炭素、水素、酸素のみで構成された環境にやさしく、ポリマーに官能基を付与することができる新しいタイプの連鎖移動剤、官能基を付与されたポリマーおよびそのポリマー製造法の提供。
【解決手段】下記一般式(1)で表される縮合多環芳香族骨格を有する連鎖移動剤。


((1)式中、nは0から3の整数を表し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシアルキル基、グリシジル基、ヒドロキシアルキル基、又はアリールオキシアルキル基を表し、pは1又は2の整数を表し、qは0から4の整数を表し、rは1から4の整数を表し、Y及びZは水素原子又はメチル基を表し、Xは水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。) (もっと読む)


【課題】透明性、耐熱性、光学特性及び機械特性に優れる導電性基板を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される第一の構造単位と、イミド単位を含有する第二の構造単位及び第三の構造単位を有するアクリル系樹脂を含有する樹脂層と、該樹脂層の一面上に設けられた導電層と、を備える導電性基板。
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【課題】有機溶剤現像時のパターン部の意図しない溶解に起因する解像性及び矩形性の低下を防ぎ、ドライエッチング耐性に優れ、特にKrF露光に好適なパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(ア)酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰返し単位を有する樹脂(A)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び溶剤(C)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型パターンを形成する工程を有するパターン形成方法であって、樹脂(A)中の全繰返し単位に対して、下記一般式(I)で表される繰返し単位の含有量が20モル%未満で、かつ一般式(I)以外の非フェノール系芳香族基を有する繰返し単位を有する、パターン形成方法。
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【課題】高屈折率を有し、紫外域の吸収や蛍光性が無く透明性にすぐれ、廃棄の際には環境への悪影響が無く、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利な紫外線硬化装置で重合可能な化合物とその製造法、及びその化合物を含む重合性組成物を提供する。
【解決手段】10−ヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタのアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物を炭酸エステル化することによる10−(置換カルボニルオキシ)−1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタノアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物の製造法及び、該(メタ)アクリレート化合物並びに該(メタ)アクリレート化合物を含む紫外線硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】高屈折率を有し、紫外域の吸収や蛍光が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利な紫外線硬化装置で重合可能な化合物とその製造法、及びその化合物を含む重合性組成物を提供する。
【解決手段】10−ヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタノアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物をアシル化することよりなる10−アシルオキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタノアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物の製造法及び該(メタ)アクリレート化合物並びに該(メタ)アクリレート化合物を含む重合性組成物。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、短時間でPEBを行うことができ、それによりスループットの向上や、酸拡散距離を短くすることができることによる解像性の向上が達成できるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被加工基板上に波長600〜2000nmの範囲の光を吸収する下層膜を形成し、該下層膜上にフォトレジスト膜を形成し、該フォトレジスト膜を露光した後、波長600〜2000nmの光を照射して加熱することでポストエクスポジュアーベーク(PEB)を行い、その後現像によってパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】各種(メタ)アクリルモノマーに溶解するとともに、従来のアクリル化合物と比較して高屈折率を有するレンズ材用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される化合物、および、(B)光ラジカル開始剤、を含有する、レンズ材用硬化性組成物。


(上記一般式(1)中、Xは硫黄原子、又は酸素原子である。Rは水素原子、又は(メタ)アクリロイル基であり、少なくとも1つは(メタ)アクリロイル基である。nは0〜2の整数である。) (もっと読む)


【課題】高感度であること、LERが良好であること、露光ラチチュードが良好であること、及びパターン形状が良好であることを同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位(A)と、下記一般式(B1)で表される繰り返し単位(B)と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位(C)とを有する樹脂を含有する(一般式(B1)中、Rは、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、又はシアノ基を表し;Yは、単結合又は2価の連結基を表し;Zは、単結合又は2価の連結基を表し;Arは、芳香環基を表し;pは1以上の整数を表す。)。
【化1】
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【課題】 ラジカル硬化系を用いたキャスティング成形法でのレンズ等の光学部品の製造において、成形物の周辺部での不十分な硬化を防止できるラジカル硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のキャスティング成形向け光学材料用ラジカル硬化性組成物は、ラジカル硬化性化合物(A)の1種又は2種以上と、1分間半減期温度が100℃〜160℃の範囲にあり且つ該温度が互いに異なる2種以上の熱ラジカル重合開始剤(B)を含有する。前記ラジカル硬化性化合物(A)としては、分子内に芳香環又は脂環を有する(メタ)アクリル酸エステルが好ましい。前記分子内に芳香環を有する(メタ)アクリル酸エステルとして、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、スチルベン環、ジベンゾチオフェン環及びカルバゾール環からなる群より選択された少なくとも1種の芳香環を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。 (もっと読む)


【課題】高感度、高解像性(例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス(LER))、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及びフォトマスクを提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(I)で表される酸不安定基によって、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物を含有する、ポジ型レジスト組成物。


(一般式(I)中、Rは一価の有機基を表す。Aは多環炭化水素環構造を有する基又は多環ヘテロ環構造を有する基を表す。*は前記フェノール性水酸基の酸素原子との結合位置を表す。) (もっと読む)


【課題】 更なる高屈折率化を目指し、且つ、低収縮性、光硬化性、無色透明性、作業に適した粘度といった光学用接着剤としての性能も兼ね備えた硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 ポリチオールと硫黄を反応させて得られるポリチオールオリゴマー(A成分)と、ポリエン化合物(B成分)を含有する硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】高屈折率を有する有機無機ハイブリッド膜の提供。
【解決手段】金属酸化物粒子と下記式(1)の化合物と硬化性モノマーとを含む硬化性組成物を硬化させ、硬化膜を得る。


[式中、Rは、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキル基、Rはアルキル基、Rはアルキレン基、Xは−Si(OR)(R)3−a[Rはアルキル基又は基−[(RO)−R]、Rは、水素原子、ヒドロキシル基又は炭化水素基、aは1〜3の整数]を示し、kは0〜4の整数、mは0〜2の整数] (もっと読む)


【課題】 更なる高屈折率化を目指し、且つ、低収縮性、光硬化性、無色透明性、作業に適した粘度といった光学用接着剤としての性能も兼ね備えた硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 フルオレン環を有するポリ(メタ)アクリレート化合物(A成分)、特定の式で表わされるポリチオール化合物(B成分)、および光重合開始剤(C成分)を含有する硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】重合性不飽和結合を有するフルオレン化合物を含んでいても、硬化物における基材に対する密着性や耐黄変性を改善又は向上できる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物を、重合性不飽和結合を有するフルオレン化合物(A)[例えば、9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシアリール)フルオレン類、9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシ(ポリ)アルコキシアリール)フルオレン類など]と、ヒドロキシル基およびカルボキシル基から選択された少なくとも1種の官能基を有する非フルオレン系(メタ)アクリルモノマー(B)(例えば、ヒドロキシル基を有する多官能性(メタ)アクリレート、カルボキシル基を有する(メタ)アクリレートなど)とで少なくとも構成する。 (もっと読む)


【課題】アントラセン特有の特性と共に、高い重合性を兼ね備えたアントラセン誘導体、及びこのアントラセン誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式(1)にて表されるアントラセン誘導体。


(式(1)中、Xは、(n+1)価の置換基を有していてもよい芳香族基。Yは、(n+1)価の置換基を有していてもよい芳香族基。n及びnは、それぞれ独立して、1〜3の整数。R及びRは、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基。Z及びZは、それぞれ独立して、−O−(R−O)−で表される基。Rは、ヒドロキシル基を有していてもよい2価の炭化水素基。mが2以上の場合、複数のRは同一でも異なっていてもよい。) (もっと読む)


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