【課題】材料中に屈折率変調構造を形成させる光学製品として、特にホログラム記録媒体として好適に使用することが可能な、感光時の体積収縮が小さく、透明性に優れた感光性材料を提供する。
【解決手段】環状オリゴ糖誘導体を構成単位として含むポリマーマトリックス、ラジカル重合性モノマー及び光ラジカル重合開始剤を具える感光性材料。 （もっと読む）

【課題】硬化物の硬度及び屈折率が高いハードコート性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】分子内に少なくとも１つの（メタ）アクリロイル基を有し、かつ９，９−ビスアリールフルオレン骨格を有するフルオレン含有硬化性モノマーと、分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能硬化性モノマーと、分子内に１つの（メタ）アクリロイル基を有する単官能希釈モノマーとを含むハードコート性樹脂組成物を調製する。この組成物の硬化物は、屈折率が１．５５以上であり、かつ鉛筆硬度が３Ｈ以上である。前記単官能希釈モノマーは、Ｃ_３−７アルキル（メタ）アクリレート（特に、分岐Ｃ_４−６アルキル（メタ）アクリレート）であってもよい。 （もっと読む）

【課題】重合性官能基を有する新規重合性単量体と、それを熱重合等で得られる塗布型の有機デバイス用材料、特に正孔注入輸送層を均一に形成できる正孔注入輸送材料として好適な重合体を提供する。
【解決手段】Ｚが下記式（２）で表わされる基であり、重合性官能基を含む基が、Ｌ、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｐ及びＱの少なくとも１つに結合する下記式（１）で表わされる重合性単量体。
（もっと読む）

【課題】レジスト溶剤への溶解性が高い、スルホニウム塩含有高分子化合物を提供する。
【解決手段】一般式（１ａ）、（２）及び（３）で示される繰り返し単位を含有する高分子化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃を示す。Ｒ²〜Ｒ⁴は、いずれか１つ以上は４−フルオロフェニル基である特定の置換基。Ｒ⁸はＨ、又はアルキル基を示す。ｐは０又は１、Ｂは単結合又は２価の有機基を示す。ａは０〜３の整数、ｂは１〜３の整数、Ｘは酸不安定基を示す。） （もっと読む）

【課題】対象物を強固に接着して支持しつつ、支持体を対象物から分離可能な積層体およびその積層体の分離方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体は、光透過性の支持体と被支持基板と接着層と支持体および被支持基板との間に設けられ、光吸収性を有している構造をその繰返し単位に含んでいる重合体を含有している分離層とを備えており、重合体は支持体を介して照射される光を吸収することによって変質する。 （もっと読む）

【解決手段】芳香族基を繰り返し単位の２０〜１００モル％の範囲で有し、かつ酸によってアルカリに溶解する高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第１のレジスト膜を形成する工程と、第１のレジスト膜上に第１のレジスト膜を溶解させない炭素数３〜８のアルキルアルコールを溶媒とする第２のポジ型レジスト材料を塗布して、第２のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光し、ベーク後、現像液を用いて前記第１と第２のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、現像後に基板面を開口させることができる。
本発明では、第２層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したり、イオンを打ち込んだりするときの耐性を高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】グルコースなどの糖類の検出能に優れ、かつ低侵襲性である蛍光ハイドロゲル、その製造方法、ならびにそれを用いた糖類測定用センサーを提供する。
【解決手段】下記化学式１で表される構造を有する蛍光ハイドロゲルおよびその製造方法、ならびにそれを用いた糖類測定用センサーである。
（もっと読む）

【課題】硬化性組成物からなる硬化膜のアルカリ耐性の向上。
【解決手段】少なくとも一種のα−アルキルアミンからなる硬化性組成物用アルカリ耐性向上剤である。また、重合開始剤、増感剤、１種以上の重合性液晶化合物、前記アルカリ耐性向上剤を少なくとも含有する硬化性液晶組成物、及び該組成物からなる光学異方性層を有する光学フィルムである。 （もっと読む）

【課題】置換アセチレンの重合に対して高い触媒活性を有し、分子量分布の狭い末端に官能基が導入された置換ポリアセチレンを製造することができる新規なフェロセン骨格を有するホスフィン−パラジウム錯体の提供。
【解決手段】下式１


（式中、Ｒ^１はフェニル基又はフェノキシ基を示す。Ｒ^２はハロゲン基、トシル基、トリフラート基及びメシル基から選ばれる基を示す。Ｒ^３は置換アリール基を示す。で表わされるフェロセン骨格を有するホスフィン−パラジウム錯体。 （もっと読む）

【課題】熱インプリントリソグラフィー技術を用いて、ベンゾシクロブテン樹脂のパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】下記式（２）：


で表されるジビニルシロキサン−ビスベンゾシクロブテンを重合して得られるベンゾシクロブテン樹脂を含む層を基板上に形成する工程、前記ベンゾシクロブテン樹脂を含む層に、加熱及び加圧しながらモールドを押しつけ、該ベンゾシクロブテン樹脂を含む層にパターンを形成する工程、及び冷却後に、前記パターンが形成されたベンゾシクロブテン樹脂を含む層を前記モールドから離型する工程を有し、前記加熱の温度が１５０℃乃至３５０℃である。 （もっと読む）

【課題】溶媒に対する溶解性が高く、塗布法で膜を形成することができ、発光効率が高く、寿命が長く、特に高温駆動での寿命が長い有機デバイス（特に有機エレクトロルミネッセンス素子）、及びそれを実現する重合性単量体とそれを用いた高分子化合物、有機デバイス用材料（特に有機エレクトロルミネッセンス素子用発光材料）を提供する。
【解決手段】特定のトリフェニルアミンユニット又はカルバゾールユニットと、特定のアジンユニットとを有し、さらに、重合性官能基を有する重合性単量体と、それを用いた高分子化合物、有機デバイス用材料（特に有機エレクトロルミネッセンス素子用発光材料）、また、これらを用いた有機デバイス、及び有機エレクトロルミネッセンス素子である。 （もっと読む）

【課題】高屈折率であり、温度変化に対して優れた特性を有する材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）Ｎ−アクリロイルカルバゾール６０〜９０質量％と、（Ｂ）化学式１、または、特定のビフェニル構造を有する化合物の少なくとも一種、５〜３０質量％と、（Ｃ）３個以上のラジカル重合性官能基を有する化合物５〜２５質量％を含有する材料。


Ｒ１は、水素またはメチル基を表し、Ａは、直接結合または炭素数１以上３以下のアルキレン基。 （もっと読む）

【課題】高温下においても水系溶媒中での分散性に優れるナノ複合体、およびそれを含む分散液を提供する。
【解決手段】ナノ構造体と、下記式（１）：


（式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１〜２０の１価の有機基を表し、Ｙ^１はカルボニル基またはアリーレン基を表す。）で表される双性イオンモノマー単位およびカチオン性モノマー単位からなる群から選択させる少なくとも１種のイオン性モノマー単位と前記イオン性モノマー単位以外のその他のモノマー単位とを含有し且つ前記ナノ構造体に吸着している共重合体と、を備えることを特徴とするナノ複合体。 （もっと読む）

【課題】露光波長に対して強い吸収を持ち、上層のレジスト膜とのインターミキシングを起こさず、さらに上層のレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するための組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは直接結合又はフェニレン基を表し、Ａはナフチル基又はアントラセニル基を表す。）で表される構造単位を有するポリマー、少なくとも２つのビニルエーテル基を有する化合物、光酸発生剤及び溶剤を含むレジスト下層膜形成組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】高発光効率の有機ＥＬ素子を製造する新規重合体とそのモノマーを提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される芳香族化合物。式中、Ｘは、Ａｒ^１，Ｚ及びＡｒ^２の任意の位置に置換する。ｎは２以上の整数である。
（もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するパターンを形成することが可能なレジスト組成物の樹脂用のモノマーを提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ^１は、２価の連結基を表す。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子又はヒドロキシ基を表すか、ベンゼン環上の結合位置において互いに隣接し合う２つの基が結合して非芳香環を形成する。ただし、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６からなる群から選ばれる少なくとも１つの基はヒドロキシ基を表し、且つ、少なくとも他の２つの基は、それらが結合する互いに隣接し合うベンゼン環上の炭素原子と共に、非芳香環を形成する。］
（もっと読む）

【課題】感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位（Ｂ）とを備えた樹脂を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。


一般式（Ｉ）中、ＡＲは、アリール基を表す。Ｒｎは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。ＲｎとＡＲとは互いに結合して非芳香族環を形成してもよい。
Ｒ_１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。 （もっと読む）

【課題】優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂（Ｂ）であって、下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｂ）と、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有している。
【化１】
（もっと読む）

【課題】電気特性を損なうことなく、耐久性が高く、かつ塗布成膜可能な新規な有機半導体材料となり得る重合性化合物、この重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合性組成物、前記重合性化合物又は重合性組成物を重合して得られる高分子、この高分子を構成材料とする半導体装置を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示される重合性化合物、この重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合性組成物、前記重合性化合物又は重合性組成物を重合して得られる高分子、この高分子を構成材料とする半導体装置。


〔式中、Ｘ_１及びＸ_２はＯ等を、Ａ_１及びＡ_２は特定のの芳香族基を、Ｙ_１〜Ｙ_６は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−等を、Ｚ_１及びＺ_２は炭素数２〜１０のアルケニル基等を表す。〕 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を含むラジカル重合性組成物を提供する。
【解決手段】テトラヒドロアントラセン骨格にアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基等の置換基を有していてもよい１０−アシルオキシ−１，２，３，４−テトラヒドロアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物、及び当該化合物とラジカル重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物。 （もっと読む）