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【課題】硬化物における屈折率が高く、かつ、粘度も低く、また、硬化性にも優れる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、該組成物を硬化してなる硬化物及びプラスチックレンズを提供する。
【解決手段】芳香環に重合性不飽和二重結合が直接結合している化合物(A)とホスフィンオキサイド系光重合開始剤(B)とポリ〔(メタ)アクリロイルオキシアルキル〕(イソ)シアヌレート化合物(C)とを含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を活性エネルギー線照射により硬化させる。 (もっと読む)


【課題】高屈折率であり、小さなアッベ数と耐熱性を備えた光学用材料組成物、および光学素子の提供。
【解決手段】化学式1で示す(メタ)アクリロイルオキシアルキルカルバゾール(A)と、ビフェニル構造、ビスフェノールA構造、フルオレン構造又はナフタレン構造を有する重合性化合物(B)を含む材料組成物,およびその硬化物からなる光学素子。


R1は、水素またはメチル基を表し、R2は、炭素数1以上3以下のアルキレン基を表す。 (もっと読む)


【課題】水性アルカリ性現像剤中で現像が可能な光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物及び、このような組成物の使用方法を提供する。
【解決手段】光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物であって、発色団基、ヒドロキシル及び/またはカルボキシル基、及び酸不安定基を含むポリマー、及び末端ビニルエーテル基を有する架橋剤を含み、更に光酸発生剤を含むかまたは含まない、上記組成物及び、このような組成物の使用方法。 (もっと読む)


【解決手段】カルボキシル基のHが下記一般式(1)の酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、ヒドロキシ基、ラクトン環、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シアノ基、環状の−O−C(=O)−S−、環状の−O−C(=O)−NH−、カーボネート基から選ばれる密着性基を有する繰り返し単位とを共重合してなる樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】ポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高解像性で、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好な上、酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 (もっと読む)


本発明は、側鎖内に置換アントラセンを含む繰り返し単位を有するスチレン系コポリマー、本発明に係るこれらのポリマーを含む配合物、および、電子デバイスにおけるこれらのポリマーおよび配合物の使用に関する。本発明はさらに、これらのポリマーまたは配合物を含む電子デバイスに関する。 (もっと読む)


【課題】感度、解像度及びラフネス特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する第1構造部位を備えた第1繰り返し単位と、酸の作用により分解してスルホン酸を発生する第2構造部位を備えた第2繰り返し単位とを含んだ樹脂を含有している。 (もっと読む)


【課題】1回のジェッティングで比較的厚い膜(2μm以上)を形成することができる、ポリイミド形成成分を高濃度で含有するインクジェット用インクを提供すること。
【解決手段】酸無水物基を有する化合物(a1)と、該化合物(a1)以外の、下記一般式(1)で表されるモノアミン化合物(a2)とを用いて得られるアミド酸(A)、およびアミノ基を有する化合物(b1)と、該化合物(b1)以外の、下記一般式(2)で表される、酸無水物基を1つ有する化合物(b2)とを用いて得られるアミド酸(B)からなる群より選ばれる少なくとも1種のアミド酸を含む熱硬化性組成物:
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【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式(1)で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


(R1、R2は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基である。Rは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、又はアリール基である。m、nは1〜4の整数である。)
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 (もっと読む)


【課題】高屈折率を実現しながら、密着性及び/又は低カールに優れた光学材料用樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(1)で表されるフルオレン骨格を有する二官能(メタ)アクリレー化合物(A)と、少なくとも1種の単官能(メタ)アクリレート化合物(B)とを含有することを特徴とする光学材料用樹脂組成物。


(式中、R及びRは、同一又は異なって、水素原子又はメチル基、a及びbは、それぞれ1〜4の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、(A)アルカリ可溶性であり、酸の作用によりアルカリ不溶性となるベースポリマー、(B)酸発生剤、(C)塩基性成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記ベースポリマーは、少なくとも、フェノール性水酸基を側鎖に有するアクリレート単位及びエポキシシクロヘキシル基を有するアクリレートの繰り返し単位を含み、ポリマー間で酸架橋性を有する重量平均分子量が1,000〜10,000である高分子化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】特にArFエキシマレーザー、電子線、X線、EUV等を露光光源とする場合に、ラフネス特性及びドライエッチング耐性に優れたパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生する部位を含む繰り返し単位(A)を有する樹脂(P)を含み、繰り返し単位(A)が炭素数7以上の芳香環を、少なくとも、該酸アニオン発生部位を有する側鎖上であって該酸アニオン発生部位以外に有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】450nm以下の紫外線領域においても優れた透明性を示し且つ紫外線や青色光に対する耐光性に優れた(メタ)アクリル系硬化物。
【解決手段】(メタ)アクリル系モノマーまたは(メタ)アクリル系オリゴマーと、リン系触媒またはリン系硬化剤とを含有する(メタ)アクリル系硬化性組成物を硬化させてなるものであることを特徴とする(メタ)アクリル系硬化物。 (もっと読む)


【課題】硬化物における屈折率が高く、かつ、粘度も低く、また、硬化性にも優れる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、該組成物を硬化してなる硬化物及びプラスチックレンズを提供する。
【解決手段】芳香環に重合性不飽和二重結合が直接結合している化合物(A)とホスフィンオキサイド系光重合開始剤(B)と無水マレイン酸(C)とを含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を活性エネルギー線照射により硬化させる。 (もっと読む)


【課題】 耐熱性、ドライエッチング耐性、高真空下での安定性に優れ、特にポジ型レジスト樹脂の酸解離性の保護基として好適な新規ビニルエーテル、その原料となる新規アルコール及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のビニルエーテルは、下記一般式(1)
【化1】


{式(1)中、X、Xはそれらのいずれか一方がビニルオキシ基であり、もう一方が水素原子である。又、Rは炭素数1〜3のアルキル基であり、Rは炭素数6〜18の芳香族炭化水素基である。}
で表されることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】ナフタレン骨格及びアントロン骨格を有する高屈折率アクリレート及びその重合物を提供する。
【解決手段】例えば10−(1,4−ジヒドロキシ−2−ナフチル)アントラセン−9(10H)−オンと塩化アクリロイルを反応させて得られる9,10−(1,4−ジアクリロイルオキシ−2−ナフチル)アントラセン−9(10H)−オン及びこれを用いた重合体。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体の製造方法において良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を得る。
【解決手段】イソボルニルアクリレート、フルオレン骨格を有するアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を含む塗布層を介して貼り合わせ、該未硬化の紫外線硬化性樹脂材料の塗布層に紫外線を照射することにより、硬化せしめ、該樹脂スタンパを剥離して、前記磁気記録層の片面上に凹凸パターンが転写され、硬化された紫外線硬化性樹脂材料層を形成し、硬化された紫外線硬化性樹脂材料層をマスクとしてドライエッチングを行い、磁気記録層表面に、凹凸パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】熱硬化性樹脂を含む熱硬化型レジスト組成物よりも硬化時間が短く、デスミア処理に使用される薬液に対し十分な耐性を示し、しかも下地配線層との密着性に優れた感光性樹脂組成物およびプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】フルオレン構造を有する光硬化性モノマー、光重合開始剤、および光硬化性ポリマーを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。プリント配線板の製造方法は、フルオレン構造を有する光硬化性モノマー、光重合開始剤および光硬化性ポリマーを含有する感光性樹脂組成物を用いて塗膜を形成する工程、前記塗膜を光照射により硬化させる工程、前記硬化塗膜をレーザー加工して開口部14a、14b、14cを形成する工程、前記レーザー加工により発生したスミアを除去する工程を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


一般構造:B−S−A−S−BのOLED化合物において、棒状核Aは、縮合芳香族環構造を含んでおり、そしてこの縮合芳香族環構造は、少なくとも1つのさらなるフルオレン環構造と縮合されたフルオレン環構造を含んでおり、この縮合芳香族構造を構成するフルオレン環系は、9位で置換されており、このフルオレンの9位は、酸化に対して感受性がないことを特徴とするOLED化合物。 (もっと読む)


【課題】欠陥なく均一な液晶層を形成できる液晶層形成用組成物を提供する。
【解決手段】液晶層形成用組成物に、1分子中に2つ以上の重合性官能基を有し且つ屈折率異方性が0.20以上である液晶性化合物と、環状ケトン構造を有する溶媒と、環状エーテル構造を有する溶媒とを含ませる。 (もっと読む)


本発明は、水性アルカリ性溶液中で現像することによってパターンを形成することができる光像形成性反射防止コーティング組成物であって、(i)コーティング溶剤中に可溶性であって、発色団、架橋性部分、任意に及び、水性アルカリ性溶液中へのポリマーの可溶性を助ける官能基を酸または熱条件下に生成する解裂性基を含むポリマーA、及び; (ii)少なくとも一種の光酸発生剤; (iii)架橋剤; (iv)任意に、熱酸発生剤; (v)現像の前に水性アルカリ性溶液中に可溶性であり、かつポリマーAと不混和性で、コーティング溶剤中に可溶性のポリマーB; (vi)コーティング溶剤組成物、及び(vii)任意に、クエンチャを含む前記光像形成性反射防止コーティング組成物に関する。本発明はまた、該反射防止コーティングに像を形成する方法にも関する (もっと読む)


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