【課題】長期間に亘って十分な変換光強度を維持することが可能な緑色および赤色変換膜および長期にわたって安定した発光特性を示す多色発光有機ＥＬデバイスを提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位の一種類以上及び一般式（２）、（６）または（７）で表される繰り返し単位の一種類以上を有し、（１）：（２）、（６）または（７）のモル比をｍ：ｎとしたとき、ｎ／（ｍ＋ｎ）＝１／１００〜１００／１００であることを特徴とするペンダント型高分子化合物、該高分子化合物を含有してなるフィルム、該高分子化合物を含有してなる色変換膜、該高分子化合物と低分子色素化合物を含有することを特徴とする色変換膜、有機ＥＬ素子と、前記色変換膜とを含むことを特徴とする色変換発光デバイス。 （もっと読む）

【課題】 十分な硬化性を有するとともに光照射によるベンゼン放出が少なく、密着性および耐溶剤性の優れた硬化物を形成し得るカチオン重合型感光性インクを提供する。
【解決手段】 酸により重合可能な重合性化合物、ベンゼン環を含む光酸発生剤、および増感剤を含有するカチオン重合型感光性インクである。前記光酸発生剤の重量は、前記重合性化合物の重量の０．５％以上１０％以下であり、前記光酸発生剤の含有量（ｍ₁モル）と前記増感剤の含有量（ｍ₂モル）とは、下記の関係を満たすことを特徴とする。
１＜（ｍ₂／ｍ₁）≦５ （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱透明性及びパターン形状に優れ、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること、並びに、透明性、耐熱透明性及びパターン形状に優れ、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜及びその形成方法を提供すること。また、透明性、耐熱透明性及びパターン形状に優れ、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する架橋性アクリル樹脂、（Ｃ）高分子感光剤、並びに、（Ｄ）溶媒を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物、並びに、前記感光性樹脂組成物を使用する硬化膜の形成方法、硬化膜、有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】 光学系において色収差およびその他の収差の低減に効果がある樹脂のみからなる複合光学素子を提供する。
【解決手段】 ベンゼン骨格もしくは硫黄、窒素を構造中に有する重合性有機化合物（Ａ１）１０〜６０質量％、重合性官能基がビニル、アクリルまたはメタクリル基である重合性化合物（Ａ２）５〜８５質量％と、無機酸化物粒子（Ｂ）４〜４０質量％と、重合開始剤（Ｃ）０．１〜５質量％を含み、前記無機酸化物粒子（Ｂ）が酸化チタン（ＩＶ）と酸化ニオブ（Ｖ）の混合物からなり、酸化ニオブ（Ｖ）／酸化チタン（ＩＶ）の質量比が０．１以上０．５未満であり、表面修飾剤（Ｄ）を前記無機酸化物粒子（Ｂ）に対してモル比で０．１〜３を含有する材料組成物およびそれを用いた光学素子。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される構造を備えた樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含んでいる。
【化１】
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【課題】高透明性、高耐熱性を有し、しかも生産性の高い光導波路材料用樹脂組成物、光導波路材料用樹脂フィルム及びこれらを用いた光導波路を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるフルオレンジ（メタ）アクリレート及び（Ｂ）光重合開始剤を含む光導波路材料用樹脂組成物である。


（Ｘは特定のフルオレン含有基であり、Ｙは水素又はメチル基、ｍ及びｎはそれぞれ１〜２０の整数である。） （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位、酸不安定基含有繰り返し単位及びカーバメート構造含有繰り返し単位を共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布し第1レジスト膜を形成する工程、第1レジスト膜を露光後加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して酸に対して不活性化し、基板上の第1レジストパターン上にC3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して第2レジスト膜を形成する工程、第2レジスト膜を露光し、PEB後現像して第2レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】色収差およびその他の収差の低減に効果がある樹脂のみからなる複合光学素子。
【解決手段】重合性化合物として、化学式１で示される重合性化合物（Ａ１）を５から７５質量％と、重合性官能基を１以上３個以下有し、その官能基がビニル基、アクリル基もしくはメタクリル基である重合性化合物（Ａ２）を５から８５質量％含み、無機酸化物粒子（Ｂ）を５から３５質量％、重合開始剤（Ｃ）を重合性化合物（Ａ１）と（Ａ２）の合計量を１００質量部としたとき０．１〜５質量部含む材料組成物を用いた光学素子。


化学式１において、Ｒは、炭素数が１〜１０である、アルキル基、アルケニル基、アリル基、シクロアルキル基、アシル基から選ばれるいずれか一種。Ｘは、重合性官能基。 （もっと読む）

【課題】光酸不安定である、複数環の芳香族および／または多環式エステル単位を含む新規の樹脂の提供。
【解決手段】この新規樹脂を含む化学増幅ポジ型フォトレジスト、並びに複数環の芳香族および／または多環式エステルモノマーの提供。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイやタッチパネル等の表示装置の分野、又は有機ＴＦＴの分野で所望される透明部材として応用できる組成物として、アルカリ水溶液で現像可能であり、作製した塗膜が、低吸水性、高硬度であり、さらにガラス、金属酸化物及び金属等の基材に対して優れた密着性を有する、光硬化型組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）分子内にカルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する（メタ）アクリレート共重合体であるアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）シリカ微粒子と、（Ｃ）単一分子内に１以上の（メタ）アクリロイル基を有する反応性モノマであって、（Ｃ１）フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ２）アルコキシシラン部位を有する（メタ）アクリレート化合物を含む反応性モノマと、（Ｄ）光重合開始剤とを含むことを特徴とする光硬化型組成物を調製し、使用する。 （もっと読む）

【課題】高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位ａ、スルホニウム塩を有する繰り返し単位ｂ１及びｂ２のいずれか１つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位ｃを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【化１】
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【課題】高解像性、高感度、良好なラインエッジラフネスが得られる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により、側鎖に酸を生じる繰り返し単位（Ａ）、及び、アルカリ可溶性基を有する繰り返し単位（Ｃ）、を有する樹脂（Ｐ）であって、該樹脂（Ｐ）が、ヘテロ原子を含んでもよい複数の芳香環構造を有し、該複数の芳香環構造が縮環、又は互いに単結合で連結されている構造部位（Ｘ）を有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】イオン伝導度特性に優れ、かつメタノールクロスオーバーを顕著に減らせる架橋性スルホン化共重合体及び前記共重合体の重合物を含む燃料電池を提供する。
【解決手段】本発明は、（ａ）１種以上の芳香族エーテル反復単位と、（ｂ）スルホン酸基またはスルホン酸塩基含有芳香族エーテル反復単位とを含み、一末端または両末端が重合性不飽和官能基を含むとともに、重合性官能基は、（メタ）アクリレート、ケイ皮酸、フルフリル、エポキシ、またはシアネート系官能基であり、（ａ）１種以上の芳香族エーテル反復単位は、所定の構造を有する芳香族エーテル反復単位であり、（ｂ）スルホン酸基またはスルホン酸塩基含有芳香族エーテル反復単位は、所定の構造を有する反復単位であり、重合度が、３から１，０００であるスルホン化共重合体である。 （もっと読む）

【課題】高感度、密集パターンおよび孤立ラインの高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、良好なブリッジマージン、孤立スペースの高解像性を同時に満足する感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）炭素数５から８の単環の酸解離性シクロアルキル（メタ）クリレート単位と置換スチレン単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、炭素数３以上の炭化水素基を置換基を芳香環に有する構造のスルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とする、感活性光線または感放射線樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物、を含有するレジスト組成物であって、ベース樹脂は、一般式（１）で表される繰り返し単位を含有すると共に、一般式（２）及び／又は（３）で表される繰り返し単位を１種あるいは２種以上含有し、更に、前記ベース樹脂を構成する全繰り返し単位中、一般式（１）、（２）及び（３）で表される繰り返し単位を７０モル％以上含有する。
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【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える新しい化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物。［Ｚ^１及びＺ^２は、置換基を表す。Ｑ^１及びＱ^２は、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^１ａ）−、−Ｓ−又は−Ｃ（Ｏ）−を表す。Ｙは、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ^２ａ、＝ＰＲ^３ａ、＝ＣＲ^４ａＲ^５ａ又は＝ＳｉＲ^６ａＲ^７ａを表す。Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、単結合又は連結基を表す。Ｂ^１及びＢ^２は、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表す。Ｄ^１及びＤ^２は、単結合又は又は連結基を表す。］
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【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と酸不安定基を有する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤と、塩基発生剤とを含む第１ポジ型レジスト材料を基板上に塗布し、第１レジスト膜を形成する工程、前記第1レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して塩基発生剤よりアミン化合物を発生させて酸に対して不活性化し、前記基板上の前記第1レジストパターン上に該パターンを溶解させないアルコール、又はアルコール及びエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して、第2レジスト膜を形成する工程、前記第2レジスト膜を露光、PEB後、現像して第2レジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】糖類検出能に優れ、低侵襲性の体内埋め込み用糖類測定用センサーを提供する。
【解決手段】下記化学式１で表される構造を有する蛍光ハイドロゲルビーズ、およびそれを用いた体内埋め込み用の糖類測定用センサー。
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【課題】グルコースなどの糖類の検出能に優れ、かつ低侵襲性である蛍光ハイドロゲルビーズの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）下記化学式１で表される構造を有する蛍光モノマー化合物と、（メタ）アクリルアミド残基を有する重合性モノマーと、を含む水溶液から水溶液滴を作製する工程を含む、蛍光ハイドロゲルビーズの製造方法である。
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【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を含む重合性組成物を提供する。
【解決手段】４−（置換カルボニルオキシ）−１−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び当該化合物とラジカル重合開始剤を含有する重合性組成物。（但し、置換カルボニルオキシの置換基はアルコキシ基又はアリールオキシ基であり、ナフタレン環上の水素はアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基又はアリールチオ基で置換されていても良い。） （もっと読む）