【課題】H−官能Ｈ−引き抜きクラスの光開始剤、特に重合体Ｈ−引き抜きクラスの光開始剤、より特定的にはゴム結合型Ｈ−引き抜きクラスの光開始剤の調製において有用である前駆物質化合物を提供する．
【解決手段】下記の構造で表わされるSiH−官能性アリールケトン。
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【課題】表面状態及び経時安定性に優れたフィルムを製造可能な化合物等を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。


［式中、Ｘは、炭素数２〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０の環状アルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基を表す。Ｅ^１及びＥ^２は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。Ｂ^１、Ｂ^２、Ｂ^３及びＢ^４は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。Ｆ^１及びＦ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表し、該炭素数１〜１２のアルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換っていてもよい。Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を含む重合性組成物を提供。
【解決手段】４−（アシルオキシ）−１−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び当該化合物と光ラジカル重合開始剤を含有する重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイを提供する。
【解決手段】本発明は、光学的、電気光学的および電子的目的のためで、特に、液晶（ＬＣ：ｌｉｑｕｉｄ−ｃｒｙｓｔａｌ）媒体およびＬＣディスプレイにおいて、特には、ＰＳ（ｐｏｌｙｍｅｒ−ｓｔａｂｉｌｉｓｅｄ：ポリマー安定化）およびＰＳＡ（ｐｏｌｙｍｅｒ−ｓｕｓｔａｉｎｅｄ ａｌｉｇｎｍｅｎｔ：ポリマー維持配向）タイプのＬＣディスプレイにおける、重合性化合物と、それらを調製するための方法および中間体と、それらの使用とに関する。 （もっと読む）

【課題】下塗り反射防止層として使用されることができ、かつ水性フォトレジスト現像剤で除去されうる新たな組成物を提供する。
【解決手段】上塗りフォトレジスト層の現像中の単一工程をはじめとする水性アルカリ現像剤で現像されうる有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物が提供される。好ましいコーティング組成物は少なくとも４種の異なる官能基を含むテトラポリマーを含む。 （もっと読む）

【課題】アントラセン骨格を有し、かつラジカル重合性を有する高屈折率アクリレート化合物及びその重合物を提供すること。
【解決手段】アントラセン−９，１０ービス（３−メタクロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテルに代表される特定構造を有するアントラセン−９，１０−ジエーテル化合物。 （もっと読む）

【課題】色相が良好で高透過率特性を有すると共に、光堅牢性、熱堅牢性が高く、経時安定性及び硬化後の耐溶剤性に優れた着色硬化性組成物、並びに色相が良好で高透過率特性を有すると共に、光堅牢性、熱堅牢性及び耐溶剤性に優れ、高精細化に対応したカラーフィルタ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】式（１）で表されるキノフタロン色素を少なくとも１種類含有することを特徴とする着色硬化性組成物、該着色硬化性組成物を用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに、式（２）で表されるキノフタロン色素。
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【課題】高屈折率を実現しながら、密着性及び／又は低カールに優れた光学材料用樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（１）で表されるフルオレン骨格を有する二官能（メタ）アクリレー化合物（Ａ）および式（２）で表される単官能（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）を含有する光学材料用樹脂組成物。


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基、ａ及びｂは、それぞれ１〜４の整数、ｃは０〜４の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】下塗り反射防止コーティング層として使用されることができ、かつ水性フォトレジスト現像剤で除去されうる新たな組成物の提供。
【解決手段】ジエン／ジエノフィル反応生成物を含む有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物が提供される。好ましい本発明の組成物は、基体から上塗りフォトレジスト層に戻る露光放射線の反射を低減させるのに有用であり、および／または平坦化、一体化もしくはビアフィル層として機能する。 （もっと読む）

【課題】硬化性樹脂膜組成物を提供する。
【解決手段】式（４Ａ）の含フッ素モノマーと式（４Ｂ）のエステル系モノマーとを反応させて得た共重合体に式（５）のイソシアネート基を有する反応性化合物を反応させることにより得られる、反応性含フッ素オリゴマーを含む硬化性樹脂組成物。ＣＨ_２＝ＣＲ^５−ＣＯＯーＲ^１ーＯーＲｆ（４Ａ）ＣＨ_２＝ＣＲ^６−ＣＯＯーＲ^２−ＯＨ（４Ｂ）


式中、Ｒ^１〜３は官能基を有しても良い長鎖の二価飽和脂肪族基、Ｒ^４〜６はＨ又はメチル基、Ｒｆは式（２）
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【課題】本発明では、エネルギー硬化型の有機−無機ハイブリッド樹脂組成物のバルク体、特にレンズ成形体が十分な硬度を有する有機−無機ハイブリッド樹脂組成物と、これを用いた複合型の光学素子を提供する。
【解決手段】有機−無機ハイブリッド樹脂組成物は、分子内にフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマーと、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及び酸化ビスマスのうち少なくとも１つの金属酸化物のナノ粒子と、光重合開始剤と、熱重合開始剤を含み、光重合開始剤と熱重合開始剤の含有量をそれぞれａ重量部及びｂ重量部とするとき、以下の条件を満足することを特徴とする。
０．５ｂ≦ａ≦２ｂ、かつ０．０２≦ａ≦１．５ （もっと読む）

【課題】高解像度でラインエッジラフネスが小さく、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すレジスト膜を与えるポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²はＨ、Ｃ１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、Ｃ６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基。ＲはＨ、Ｃ１〜１２のアルキル基、Ｏ又はＳを有していてもよく、Ｃ２〜１２のアルケニル基、Ｃ２〜１２のアルキニル基、又はＣ６〜１０のアリール基。Ｒ³〜Ｒ⁶はＨ、あるいはＲ³とＲ⁴、Ｒ⁴とＲ⁵、又はＲ⁵とＲ⁶が結合してベンゼン環を形成してもよい。ｍ、ｎは１〜４の整数。） （もっと読む）

【課題】現像残渣に優れ、かつアウトガス特性に優れたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）で表される化合物、（Ｂ）フェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基（ｃ）を有する、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂、を含むことを特徴とする、ポジ型レジスト組成物。（式中、Ａｒは、芳香族環を表し、Ｃｙ基以外に更に置換基を有してもよい。ｎは、２以上の整数を表す。Ｃｙは、置換もしくは無置換のアルキル基を有する基、又は置換もしくは無置換の環状脂肪族基を有する基を表し、複数のＣｙは同一でも異なっていてもよい。Ｍ^＋は、有機オニウムイオンを表す。）
【化１】
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【課題】
優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができる化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を得るための化合物を提供すること。
【解決手段】
下記式（Ｉ）で表される化合物。
【化１】


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、フッ素原子、又はフッ素原子で置換されていてもよい直鎖状若しくは分岐状の炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、互いに独立に、水素原子、又は直鎖状若しくは分岐状の炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^４は、炭素数１〜８の２価の炭化水素基を表す。Ｒ^５は、単結合、炭素数１〜４の２価の炭化水素基又はカルボニル基を表す。Ｒ^６は、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基又はアルコキシカルボニル基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基である。ｍは１〜４の整数である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】従来の反射防止膜として種々の要求性能は維持しつつ、膜形成時（焼成時）に昇華物の発生を抑制できる、新たな下層膜形成組成物、並びに該層膜形成組成物を用いるフォトレジストパターン形成法を提供する。
【解決手段】下記式（ａ）で表される構造単位を有するポリマー、架橋剤、並びに溶媒を含む、リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。
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【課題】単一でありながら逆波長依存性を有するフィルムを作製できる重合体、該重合体により作製したフィルム、およびその他の光学材料を提供すること。
【解決手段】エチレンまたは炭素原子数が３〜２０のα−オレフィンから導かれる構成単位（Ａ）を３０〜７０モル％、
所定の化学式で表される環状オレフィンから導かれる構成単位（Ｂ）を２０〜５０モル％、
芳香族ビニル化合物から導かれる構成単位（Ｃ）を０．１〜２０モル％含み、
下記要件［１］〜［３］を同時に満たすことを特徴とする、環状オレフィン系重合体。
［１］移動粘度計によりＡＳＴＭ Ｊ１６０１に準じた測定方法にて測定を行った場合の１３５℃のデカリン中での極限粘度［η］が０．４〜５．０ｄｌ／ｇの範囲にある。
［２］^１Ｈ−ＮＭＲにおいて６．０〜６．８ｐｐｍの範囲にピークが存在する。
［３］示差走査熱量計（ＤＳＣ）より求められるガラス転移温度が１００℃〜２００℃の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、芳香族基を有する構成単位（ａ０）、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ５）及び酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】 グルコースなどの糖類検出能に優れる蛍光モノマー化合物、蛍光センサー物質および該蛍光センサー物質を使用した糖類測定用センサーを提供する。
【解決手段】 糖類と結合して蛍光を発する疎水性部位に親水性基を導入した蛍光モノマー化合物および、該蛍光モノマー化合物と（メタ）アクリルアミド残基を有する重合性単量体とを共重合することにより得られた蛍光センサー物質である。親水性基の導入により、蛍光センサー物質の糖類結合能が向上する。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び／又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）及び／又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１’）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、高分子化合物（Ａ１）中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が１５〜８０モル％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）