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付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) |  (19,108) | (縮合)複素環 (5,693)

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【課題】電子線あるいは極紫外線(EUV光)を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、優れたパターン形状、高解像性(高い限界解像性など)、高ラインウィズスラフネス(LWR)性能を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】(A)酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、(B)電子線又は極紫外線の照射により酸を発生する化合物と、(C)フッ素原子、フッ素原子を有する基、珪素原子を有する基、炭素数が6以上のアルキル基、炭素数が6以上のシクロアルキル基、炭素数が9以上のアリール基、炭素数が10以上のアラルキル基、少なくとも1個の炭素数3以上のアルキル基で置換された芳香環基、及び、少なくとも1個の炭素数5以上のシクロアルキル基で置換された芳香環基からなる群より選択される1つ以上の基を有する樹脂と、(D)溶剤とを含有する感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程(1)、該膜を電子線又は極紫外線を用いて露光する工程(2)、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像して、ネガ型のパターンを形成する工程(4)をこの順番で有するパターン形成方法、これに供される感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、これを用いて形成されたレジスト膜。また、上記パターン形成方法を用いた、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。 (もっと読む)


【課題】無機充填剤との親和性に優れ、加硫物としたときに、ウェットスキッド特性と低ヒステリシスロス性とのバランスに優れ、耐摩耗性及び破壊強度が高い変性共役ジエン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を使用して測定された分子量分布が1.2〜3.5の範囲である多官能アニオン重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物を重合、又は共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系重合体を得る工程と、
前記共役ジエン系重合体の重合活性末端に、
(I)シリル基に結合したアルコキシ基の総数が4個以上であり、1つ以上の窒素原子を有する変性剤(A)を反応させる工程と、
(II)シリル基に結合したアルコキシ基の総数が2又は3個であり、1つ以上の窒素原子を有する変性剤(B)を反応させる工程と、
を有する、
変性共役ジエン系重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 ラジカル硬化系を用いたキャスティング成形法でのレンズ等の光学部品の製造において、成形物表面における「脈離」等の皺模様の発生を抑制できるラジカル硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のキャスティング成形用の光学材料用ラジカル硬化性組成物は、ラジカル硬化性化合物(A)の1種又は2種以上と、硬化遅延剤としてのα−メチルスチレンダイマーを含有することを特徴とする。α−メチルスチレンダイマーの含有量は、例えば、前記ラジカル硬化性化合物(A)の総量100重量部に対して0.05〜3.0重量部である。前記ラジカル硬化性化合物(A)としては、分子内に芳香環又は脂環を有する(メタ)アクリル酸エステルであるのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】簡便かつ効率的な、金属不純物量が極めて少ない半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法及び該共重合体を製造するための重合開始剤の精製方法の提供。
【解決手段】本発明の重合体の製造に用いる重合開始剤の精製方法は、有機溶剤に溶解された重合開始剤の溶液を、公称孔径が1.0μm以下のフィルターに通液させて、重合開始剤溶液のナトリウム含有量を、重合開始剤の質量に対して、300ppb以下に低減させる、通液工程を含んでなるものである。さらに、本発明の半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法は、上記の精製方法により精製された重合開始剤の存在下、ラジカル重合反応により、該半導体リソグラフィー用重合体を合成する、重合工程を含むものである。 (もっと読む)


【課題】低い誘電率および誘電損失係数と高い熱安定性を有する硬化性環状ホスファゼン系化合物およびこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】6つの置換位置を持っている環状ホスファゼン物質に2〜6つの硬化性反応基を導入し、残りの位置に様々な構造の置換基を導入する方法で硬化度や分子の分極化および自由体積などを調節することにより、低い誘電率および誘電損失係数と高い熱安定性および界面接着力を有する物質を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】マスクエラーファクター(MEF)に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】式(a)で表される化合物。


[式中、Aは、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は式(a−1)


(式中、sは0又は1;A10及びA12は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基;A11は、単結合又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基;X10及びX11は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基;ただしA10、A11、A12、X10及びX11の炭素数の合計は6以下である)で表される基;Rは水素原子又はメチル基;Rは芳香族炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】 光学材料として利用可能な高屈折率の組成物、及び高屈折率の硬化物を提供する。
【解決手段】 フェニルベンジルアクリレートの異性体であるo−フェニルベンジルアクリレート(OPBA)とp−フェニルベンジルアクリレート(PPBA)を特定の比率で混合することによって、光学材料として好適な高屈折率かつ低粘度の組成物を提供する。なおかつ、更にフルオレン骨格を有する(メタ)アクリレートを配合することにより、低粘度かつより高屈折率であって、さらに、その硬化物が高屈折率であって透明に優れ、耐光性、金型との離型性がよい組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】 撥水撥油性、防汚性、耐熱性、耐候性および耐磨耗性に優れた表面処理剤を提供する。
【解決手段】 (A)重合性基を含有する含フッ素シルセスキオキサン単量体(a)から誘導された構成単位を有して成る含フッ素重合体を含んでなる表面処理剤を提供する。含フッ素重合体は、構成単位(A)に加えて、(B)フッ素原子を含まない単量体(b)から誘導された構成単位、および(C)必要により存在する、架橋性単量体(c)から誘導された構成単位、を有して成ることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】高難燃性、高容量を有し、かつ低抵抗のポリマー電解質を提供する。
【解決手段】本発明に係るポリマー電解質は、少なくとも支持塩と、1つ以上の側鎖にホスファゼン構造を有する高分子と、を含有する。また、本発明に関する二次電池は、前記ポリマー電解質と、正極と、負極と、を備える。 (もっと読む)


【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式(1)で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 (もっと読む)


【課題】乾燥路面での良好な操縦安定性や、転がり抵抗及び耐摩耗性に優れたタイヤを提供すること。
【解決手段】(A)シス−1,4−結合量が75%以上である共役ジエン系重合体を10質量%以上含むゴム成分100質量部に対して、(B)一般式(I)で表される化合物及びシリカの少なくともいずれかを含む無機充填剤と、(C)一般式(II)、一般式(III)、一般式(IV)及び一般式(V)で表される化合物から選ばれる少なくとも一種と、を含むゴム組成物をトレッドに用いたタイヤである。 (もっと読む)


【課題】有機反射防止膜用共重合体の製造方法の提供。
【解決手段】本発明による有機反射防止膜用共重合体の製造方法は、少なくとも2種の繰り返し単位を含む有機反射防止膜用共重合体の製造方法であって、前記共重合体が、多環式芳香族化合物と、極性基を有するモノマーとの共重合体であり、前記共重合体の重合反応が、少なくとも2種の極性の異なる溶媒を含む混合溶媒中で行われるものである。 (もっと読む)


【課題】露光により発生した酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成でき、露光量が少ない場合であっても基板上に多種類の高分子を高密度、かつ安定して正確に形成できるバイオチップの製造に適した樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】(A)重合体と、(B)光の作用によりスルホニルアニオンが発生する感放射線性酸発生剤であって、該スルホニルアニオンが光学純度10%ee以上のビシクロ化合物である感放射線性酸発生剤とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】変性反応時にケイ素に対して二つ以上のポリマー鎖が結合し難い、充填剤の分散性が良い変性ポリマーを生成し得る変性剤を提供する。
【解決手段】有機金属型の活性部位を分子中に有する共役ジエン系重合体の該活性部位に反応させる変性剤であって、窒素含有ヒドロカルビルオキシ基を一つ有し、且つ、アルコキシ基またはハロゲン原子を一つ以上有するケイ素化合物からなることを特徴とする変性剤である。また、該変性剤を用いた変性共役ジエン系重合体の製造方法、該製造方法を用いて製造した変性共役ジエン系重合体、該変性共役ジエン系重合体を配合したゴム組成物、および該ゴム組成物を用いた空気入りタイヤである。 (もっと読む)


【課題】従来の難燃剤の問題点を解決しつつ、加熱しても着色しにくいという特性を兼ね備えたアルケニルリン化合物重合体及びアルケニルリン化合物共重合体、並びにそれらのモノマー(単量体)として好適なアルケニルリン化合物を提供する。
【解決手段】一般式


で表されるアルケニルリン化合物の単独重合体、ないし、前記アルケニルリン化合物とスチレン、アクリル酸エステル、アクリロニトリル等のアルケン化合物との共重合体。 (もっと読む)


【課題】基板との密着性に優れ、誘電率、硬度等の諸特性に優れ、誘電率の経時変化が小さく、半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した多孔質膜、およびその多孔質膜を製造する組成物を提供する。
【解決手段】多孔質膜は、加熱、光照射、放射線照射またはそれらの組み合わせにより、その一部が脱離して揮発性成分を生じる官能基を有する化合物(X)を用いて形成され、空孔分布曲線における最大ピークを示す空孔直径が5nm以下である。 (もっと読む)


【課題】ノンハロゲン化による環境面が考慮され、優れた難燃性を備え、絶縁信頼性が良好で、難燃成分の析出が抑制されたカバー絶縁層を形成することのできるフレキシブルプリント配線回路基板用の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)(メタ)アクリル酸アリルの(メタ)アクリロイル基に9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドが付加した化合物の残基で表される構造単位とカルボキシル基を含有する線状重合体、(B)エチレン性不飽和基含有重合性化合物、(C)光重合開始剤、(D)熱硬化性化合物を含有する感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 難燃性、耐薬品性、耐熱性、弾性および基板に対する密着性等を一定程度有する硬化膜を形成することが容易な硬化性組成物、および、このような組成物に含まれる難燃性の化合物を提供する。
【解決手段】 リン含有化合物(A)、および、少なくとも1種以上の多官能(メタ)アクリレート(B)と少なくとも1種以上の単官能(メタ)アクリレート(E)とからなる群から選ばれる1以上、を含む熱硬化性組成物および、当該組成物からなるインクジェット用インク。
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【課題】耐熱性に優れた液晶フィルムが得られる液晶性高分子を提供する。
【解決手段】少なくとも式(1)で表されるオキセタニル基を有する(メタ)アクリレート、式(7)で表されるアダマンチル基を有する(メタ)アクリレートおよび液晶性(メタ)アクリレートを共重合して得られる液晶性高分子。


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【課題】本発明は、高温高湿下において、高い耐久性を有する重合体を提供する。
また、高い光学的屈折率を有する重合体を提供する。
【解決手段】特定構造を有するリン原子含有単量体(a)を重合せしめてなる重合体(A)又は共重合体(A−1)を用いることで、高温高湿下においても、難燃性等の特性を喪失しない樹脂組成物を得ることができる。また、本発明の重合体(A)又は共重合体(A−1)は、高い光学的屈折率を有しており、レンズ等の優れた光学材料として使用できる。 (もっと読む)


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