【課題】マスクエラーファクター優れたレジストパターンレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基を表すか又はＲ^１及びＲ^２が互いに結合し、それらが結合している炭素原子とともに炭素数５〜２０の環を形成する。Ｒ^４は、エチレン性二重結合を含む基を表す。Ｗは、炭素数６〜１８の２価の脂環式炭化水素基を表す。Ｔ^１は、単結合、炭素数１〜６の２価の脂肪族炭化水素基等を表す。Ｔ^２は、炭素数１〜６の２価の脂肪族炭化水素基等を表す。］ （もっと読む）

【課題】良好な形状を有するレジストパターンレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこれを含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ、脂肪族炭化水素基を表すか、Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合し環を形成する；Ｒ^３は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基等；ｍ及びｎは、それぞれ０又は１；Ｘ^１は、単結合、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ−＊（ｌは１〜６の整数、＊はＯとの結合手を表す。）等を表す］ （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）酸不安定基を含む繰り返し単位（ａ１）と、環状の炭化水素基を有し、その環内にエステル基、エーテル基、炭酸エステル基又はスルホン酸エステル基のうち少なくとも１つを含む繰り返し単位（ａ２）と、オキシラン環を有する繰り返し単位（ａ３）を含み、酸によってアルカリ溶解性が向上する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【効果】本発明によれば、良好なライン幅ラフネス（ＬＷＲ）とマスク忠実性（ＭＥＦ）を有し、微細パターンにおいても矩形性が高く、パターン倒れ耐性に優れたレジスト組成物を提供することができる。 （もっと読む）

【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位含有高分子化合物及び酸発生剤又はヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位と露光により酸を発生する繰り返し単位含有高分子化合物と、パーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のスルホニウム塩又はヨードニウム塩と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】ヒドロキシ基の水素原子を酸不安定基で置換した繰り返し単位含有高分子化合物と酸発生剤とパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のオニウム塩を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】無機粉末の分散性に優れ、高い防曇性及び耐水性を実現することが可能な防曇性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】水溶性ポリビニルアセタール樹脂及び水を含有する防曇性樹脂組成物であって、前記水溶性ポリビニルアセタール樹脂は、平均重合度が１００〜８００の水溶性ポリビニルアセタール樹脂と、平均重合度が１５００〜３５００の水溶性ポリビニルアセタール樹脂との混合水溶性ポリビニルアセタール樹脂であり、水酸基量が６５〜８０モル％及びアセタール化度が５〜２０モル％であり、かつ、アセタール化された全構成単位のうち、芳香族アルデヒドによってアセタール化された構成単位の割合が９０％以上である防曇性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた防曇性及び耐水性を発揮することができ、かつ、表面強度の高い塗膜を形成することが可能な防曇性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】水溶性ポリビニルアセタール樹脂及び水を含有する防曇性樹脂組成物であって、平均重合度が１０００〜３５００、アセタール化度が２１〜４０モル％及び水酸基量が４５〜６４モル％であり、かつ、アセタール化された全構成単位のうち、芳香族アルデヒドによってアセタール化された構成単位の割合が９０％以上である防曇性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、及びＬＷＲなどのパターンラフネス特性に優れ、経時による性能の変動が少ない感放射線性樹脂組成物、それを用いた感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】放射線の照射により分解して酸を発生させる下記一般式（１）で表される化合物、及び酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感放射性樹脂組成物。一般式（１）中、Ｒ_１及びＲ_２は、各々独立に、アリールを表し、Ｒ_１とＲ_２が連結していてもよい。Ｒ_３及びＲ_４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表す。また、Ｒ_３とＲ_４が連結していてもよい。Ｒ_５は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又はアルキルカルボニル基を表す。Ｒ_５は、Ｒ_３もしくはＲ_４と連結していてもよい。
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【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。


（式中、Ｒ⁴〜Ｒ⁶はフッ素化１価炭化水素基を示す。）
【効果】本発明により、高撥水性かつ高滑水性の含フッ素環状アセタールを含む繰り返し単位を有するレジスト保護膜材料が提供される。 （もっと読む）

【課題】反応阻害や粒子の粗大化、着色をほとんど引き起こすことなく低重合度で溶剤への溶解性に優れるポリビニルアセタールを製造することができるポリビニルアセタールの製造方法を提供する。また、該ポリビニルアセタールの製造方法を用いて製造されるポリビニルアセタールを提供する。
【解決手段】ポリビニルアルコールを過酸化水素と接触させて低重合度化する工程１、低重合度化したポリビニルアルコールとカタラーゼとを接触させる工程２、及び、酸触媒を用いて酸性条件にした系において、前記低重合度化したポリビニルアルコールをアルデヒドと反応させてアセタール化する工程３を有するポリビニルアセタールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】イオン伝導度が高く、耐水性に優れ、寸法変化が小さく、柔軟性を有するプロトン伝導性電解質膜を作製し、出力が高く、かつ、耐久性が高い固体高分子形燃料電池を提供する。
【解決手段】ポリビニルを主鎖とし、プロトン伝導性を有する官能基と、Ｓｉ又はＴｉのアルコキシドとを側鎖に有する共重合体を含む電解質材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザー露光時のアブレーションが抑制され、非画像部の良好な現像性と画像部の耐刷性が両立された平版印刷版を作製し得る平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤、及び、（Ｂ）側鎖に双性イオン構造を有する繰り返し単位と、主鎖にヘテロ脂肪族環構造を有する繰り返し単位又は主鎖にヘテロ原子及び脂肪族環構造を有する繰り返し単位と、を含む共重合体、を含有する画像記録層を有する感光性平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基を含有する繰り返し単位（Ｂ）とを含んだ樹脂（Ｐ）と、下記一般式（１−１）又は（１−２）により表される化合物（Ｑ）とを含有している。


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【課題】本発明は、高感度、高解像性で、ラフネス（ＬＷＲ）が小さく、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位ａと、カルボキシル基及び／又はヒドロキシ基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位ｂとを含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂とすることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ^１は水素原子、又は炭素数１〜６の直鎖状、分岐状、若しくは環状のアルキル基であって、カルボニル基を有していてもよく、環を形成していてもよい。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は水素原子、又は炭素数１〜４の直鎖状、若しくは分岐状のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、例えば合わせガラス用の多層シートであって、改善された機械的特性と、使用されるポリビニルアセタールの選択によって高い可塑剤相容性を有する多層シートを製造することであった。
【解決手段】本発明は、それぞれ少なくとも１の可塑剤及び少なくとも１のポリビニルアセタールを含有する少なくとも３つの層Ａ、Ｂ及びＣから構築されているシート積層体であって、前記層Ａ、Ｂ又はＣの少なくとも１はポリビニルアセタールとして、平均重合度３０００未満、ポリビニルアルコール基含分１０〜２５質量％及びポリビニル（イソ）アセタール基含分５０〜８０質量％を有する少なくとも１のポリビニル（イソ）アセタールを含有し、かつ、前記層Ｂは３２質量％未満の可塑剤含分を有するシート積層体に関する。 （もっと読む）

【課題】高い透明性、高い表面硬度、高剛性、優れた耐候性、耐熱性および熱安定性などの特長を持ち、且つ良好な靭性を持ち、安定的に高品質の成形品を得ることができる、ポリビニルアセタール樹脂とメタクリル系樹脂とを含有するアクリル系熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】メタクリル系樹脂（Ａ）と、 粘度平均重合度５００〜２０００のポリビニルアルコール樹脂をアセタール化度７０〜８８モル％でアセタール化して得られる、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の含有量が０．１〜５０ｐｐｍであるポリビニルアセタール樹脂（Ｂ）と を含有するアクリル系熱可塑性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】発泡の発生及び発泡の成長を抑制できる合わせガラスを得ることができる合わせガラス用中間膜を提供する。
【解決手段】本発明に係る合わせガラス用中間膜１は、ポリビニルアセタール樹脂と可塑剤とを含有する第１，第２の層２，３を備える。第１の層２中のポリビニルアセタール樹脂の水酸基の含有率は、第２の層３中のポリビニルアセタール樹脂の水酸基の含有率よりも低い。第１の層２中のポリビニルアセタール樹脂の水酸基の含有率と第２の層３中のポリビニルアセタール樹脂の水酸基の含有率との差は、９．２モル％以下である。上記含有率の差が、８．５モル％を超え、９．２モル％以下である場合には、第１の層２中の上記ポリビニルアセタール樹脂のアセチル化度が８モル％以下である。本発明に係る合わせガラス用中間膜１の一端１ａの厚みは、一端１ａとは反対側の他端１ｂの厚みよりも薄い。 （もっと読む）

【課題】 ＡｒＦエキシマレーザー光、ＥＵＶ等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性に優れ、特にパターン形状の矩形性に優れ、更には基板への密着性に優れたパターンを形成することができるレジスト材料を得ることができる高分子化合物、該高分子化合物を含有する化学増幅レジスト材料及び該化学増幅レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で示す繰り返し単位を含有する高分子化合物。
【化１】
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【課題】アクリル樹脂との相溶性に優れ、アクリル樹脂との複合樹脂組成物が、強度及び柔軟性、並びに、接着性に優れたものとなる変性ポリビニルアセタール樹脂を提供する。また、本発明は、該変性ポリビニルアセタール樹脂を用いて製造される複合樹脂組成物を提供する。
【解決手段】主鎖中にエチレン性不飽和二重結合を有する変性ポリビニルアセタール樹脂。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）樹脂と、（Ｂ）酸発生剤と、（Ｘ）それぞれ式（Ｉ−ａ）及び式（Ｉ−ｂ）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物とを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターンの製造方法の提供。


［式中、
Ｚ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族飽和炭化水素基などを表し、
Ｒ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族飽和炭化水素基などを表し、
ｎは０又は１を表す。］ （もっと読む）

【課題】シートアタックや経時安定性の問題を解決することができ、かつ、脱脂工程等を行う用途に使用する場合であっても、分解残渣が極めて少ないセラミックスラリー組成物及び該セラミックスラリー組成物を用いたセラミックグリーンシートを提供する。
【解決手段】セラミック粉末、少なくともビニルアルコール単位、アセタール単位、アセラル単位で表される構造単位を有するポリビニルアセタール樹脂及び臭素を含有しないエポキシ樹脂を含有し、前記エポキシ樹脂の含有量が、前記ポリビニルアセタール樹脂１００重量部に対して、２〜１５重量部であるセラミックスラリー組成物。 （もっと読む）