【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカとを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が９０質量％以下であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜４０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、メルカプト基を有するシランカップリング剤とを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が９０質量％以下であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜４０質量部であり、上記シリカ１００質量部に対して、上記シランカップリング剤の含有量が１〜２０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】感度、解像性、リソグラフィー特性及びエッチング耐性に優れる高分子化合物、レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化し、（ａ５−０）で表される構成単位を有する高分子化合物を含む基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。（式（ａ５−０）中、Ｒは水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基である。Ｒ^１は硫黄原子又は酸素原子である。Ｒ^２は単結合又は２価の連結基である。Ｙは芳香族炭化水素基、又は多環式基を有する脂肪族炭化水素基である。）
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【課題】太陽電池モジュールにおける光利用効率を向上させ、発電効率を安定的に向上させることを可能にする球状蛍光体、これを含む波長変換型太陽電池封止材、これを用いた太陽電池モジュール、及び、これらの製造方法を提供する。
【解決手段】蛍光物質と透明材料とを含有する球状蛍光体において、前記透明材料が、ビニル化合物含有組成物を懸濁重合し球状としたものであり、さらに前記ビニル化合物含有組成物が、脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸誘導体を含有する球状蛍光体、この球状蛍光体と封止樹脂とを含む光透過性の樹脂組成物層を備える波長変換型太陽電池封止材、太陽電池セルと前記太陽電池セルの受光面上に配置された前記封止材とを備える太陽電池モジュール、およびこれらの製造方法。 （もっと読む）

【課題】過酸化水素の使用量を低減することができ、安全かつ安価に（メタ）アクリル酸イミン重合体を酸化し、高いニトロキシド化率の（メタ）アクリル酸ニトロキシド重合体を製造することができる方法を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸イミン重合体を酸化することにより、（メタ）アクリル酸ニトロキシド重合体を製造する方法であって、アミド溶媒中、タングステン酸触媒及びホスホン酸類の存在下にて、過酸化水素により式（１）（式（１）中、Ｒは水素又はメチル基を示す）で表される繰り返し単位を有する（メタ）アクリル酸イミン重合体を酸化する工程を有する（メタ）アクリル酸ニトロキシド重合体の製造方法。
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【課題】レジスト膜の環境からの影響を低減させ、ＯＯＢ光を効率よく遮断させ、レジストパターンの膜減りやパターン間のブリッジを低減させ、レジストを高感度化させるレジスト保護膜材料を提供する。
【解決手段】ウエハー３に形成したフォトレジスト膜２上にレジスト保護膜材料によりレジスト保護膜１を形成し、露光を行った後、レジスト保護膜の剥離及びフォトレジスト膜の現像を行うことで、フォトレジスト膜にパターンを形成する方法において用いるレジスト保護膜材料であって、下記一般式（１）に記載のフェノール基を含有するトルクセン化合物を含むレジスト保護膜材料。
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【課題】加硫物とした際に低発熱性とウェットスキッド抵抗性のバランスに優れ、実用上十分な破壊強度を有し、かつ組成物の加工性にも優れている、変性共役ジエン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合活性末端を持つ共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体の該重合活性末端に、式（１）で表される変性剤を反応させて得られ、ガラス転移温度が−５０〜−５℃である変性共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体と、（Ｂ）式（１）で表される変性剤で変性する方法以外で極性官能基を導入され、ガラス転移温度が−１２０〜−６０℃である変性共役ジエン系重合体と、を含むゴム成分、及び、（Ｃ）シリカを含有する変性共役ジエン系重合体組成物。［式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は各々独立して、Ｃ１〜２０のアルキル基又はＣ６〜２０のアリール基、Ｒ^５はＣ３〜１０のアルキレン基、Ｒ^６はＣ１〜２０のアルキレン基を表し、ｍは整数１又は２、ｎは整数２又は３である。］
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【課題】高感度、高解像性（高解像力など）、高ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、（１）感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、（２）前記膜を電子線または極紫外線で露光することと、（３）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含み、前記感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物は、（Ａ）電子線又は極紫外線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位（Ｒ）を有する樹脂と、（Ｂ）溶剤とを含有している。 （もっと読む）

【課題】加工性、低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性をバランスよく改善できるタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】特定の窒素含有化合物に由来する構成単位を主鎖中に有する変性スチレンブタジエンゴムと、シリカと、下記式（１）で表される化合物とを含むタイヤ用ゴム組成物に関する。
［化１］
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【解決手段】酸不安定基と結合する窒素原子を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明の酸不安定基と結合する窒素原子を有する繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、即ち溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する効果が非常に高い特徴を有する。このレジスト膜を用いてドットパターン又は格子状パターンのマスクを使って露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よく形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ、ＤＯＦ、ＬＷＲ等のリソグラフィー性能に優れ、さらには現像欠陥を抑制することができるフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、［Ｂ］酸発生体、及び［Ｃ］界面活性剤を含有するフォトレジスト組成物である。また［Ｃ］界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤であることが好ましい。さらに［Ｃ］界面活性剤は、フッ素原子又はケイ素原子を含むノニオン系界面活性剤であることが好ましい。
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【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 フェノール性水酸基と、フェノール性水酸基における水酸基の水素原子が置換基で置換されてなる基とを有し、かつ、下記（ａ）〜（ｃ）を同時に満たす高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅型レジスト組成物。
（ａ）分散度が１．２以下
（ｂ）重量平均分子量が２０００以上６５００以下
（ｃ）ガラス転移温度（Ｔｇ）が１４０℃以上 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュードが広く、耐熱性に優れ、高温プロセス（２５０℃以上）を有するパターン形成に適用された場合においても、隣接パターンへの色移りが抑制された着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性基を有する色素多量体、（Ｂ）顔料、（Ｃ）重合性化合物、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有する着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、非結晶性及び溶媒への高い溶解性を有し、且つ正孔注入輸送材料として好適な高い正孔移動度を有する芳香族アミン誘導体の提供。
【解決手段】下記式（６），（７）で表される芳香族アミン誘導体。


式中、ＸはＯ、Ｓ又はＮ（Ｒ_ａ）であり、Ｒ_ａはＨ、Ｄ、アルキル基等であり、Ｒ_１、Ｒ_２はアルキル基、アルケニル基等であり、ａ，ｂは独立に０〜３の整数であり、Ｑ_１，Ｑ_２は飽和、不飽和の環の原子数５〜２５の基である。 （もっと読む）

【課題】高いエッチング耐性を有するレジストパターンを形成させることのできる微細パターン形成用組成物、およびそれを用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】側鎖に芳香族含有置換基を有する水溶性樹脂と純水とを含む微細パターン形成用組成物。この組成物は、水溶性樹脂に結合した酸基を含むか、または組成物中に遊離の酸を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】金属イオン含有溶液に含まれる金属イオンを捕捉した後、簡便な操作により解離させて回収することができ、かつ、金属イオンの捕捉に利用した材料を煩雑な操作を経ることなく再利用可能なものとすることができる、金属イオンの分離方法を提供する。
【解決手段】金属イオン含有溶液と、金属原子に配位結合する多座配位子を有するモノマー（Ａ）と親水性のモノマー（Ｂ）とを少なくとも共重合させた共重合体とを接触させ、金属高分子錯体を形成させる錯体形成工程と、上記金属高分子錯体を分離する錯体分離工程と、上記金属高分子錯体から金属イオンを解離させ、当該金属イオンと上記共重合体とに分離する金属イオン解離工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング耐性及び露光ラチチュード（ＥＬ）のいずれにも優れるパターン形成方法、該パターン形成方法に供せられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該パターン形成方法により形成されるレジスト膜、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）多環芳香族基を有する繰り返し単位（ａ）及び酸の作用により分解してカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ａ）、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、
（イ）該膜をＡｒＦエキシマレーザーにより露光する工程、及び
（ウ）該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程
を有するパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】低温硬化が可能で、アルカリ水溶液現像が可能であり、十分に高い感度及び解像度で、密着性及び耐熱衝撃性に優れるレジストパターンを形成することができるポジ型感光性樹脂組成物、ポジ型感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、係る方法により形成されたレジストパターンを有する半導体装置、及び半導体装置を備える電子デバイスの提供。
【解決手段】フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、光により酸を生成する化合物と、熱架橋剤と、炭素数４〜２０のアルキル（メタ）アクリレート単位、（メタ）アクリル酸単位及び側鎖に１級、２級、３級アミノ基を有する（メタ）アクリレート単位を有するアクリル樹脂と、を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィおよび現像性能に悪影響を及ぼさず、膜表面および頂部表面付近の領域に分布した、濃縮されたクエンチャー材料が存在するフォトレジスト組成物。
【解決手段】式（Ｉａ）、式（Ｉｂ）または式（Ｉａ）および（Ｉｂ）の組み合わせを含む窒素含有モノマーと、特定の酸脱保護性モノマーとを含むモノマーの重合生成物を含むポリマー。（Ｉａ）：Ｒ^ａ−Ｃ（＝ＣＨ_２）−ＣＯ−（−Ｏ−Ｌ^１−）_ａ−ＮＲ^ｂ_２、（Ｉｂ）：Ｒ^ａ−Ｃ（＝ＣＨ_２）−ＣＯ−Ｏ−ＬＮ−Ｘ。（式中ａは０または１であり、Ｌ^１は直鎖もしくは分岐Ｃ_１−１０アルキレン基、または単環式、多環式、もしくは縮合多環式Ｃ_３−２０（ヘテロ）シクロアルキル等であり、各Ｒ^ｂは別々に分かれているか、または少なくとも一つのＲ^ｂは隣のＲ^ｂに結合されており；ＬＮは縮合多環式Ｃ_３−２０ヘテロシクロアルキレン基等であり、ＸはＨ、Ｃ_１−１０アルキル等である。） （もっと読む）

【課題】解像性、感度、及び経時安定性に優れ、かつ良好な形状のパターン形成を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基およびプロトンアクセプター基をともに有する繰り返し単位（Ａ）を備えた樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）