【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、メルカプト基を有するシランカップリング剤とを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が９０質量％以下であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜４０質量部であり、上記シリカ１００質量部に対して、上記シランカップリング剤の含有量が１〜２０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性、操縦安定性及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分、シリカ及びグリセリンのエチレンオキサイド付加物を含有し、上記ゴム成分１００質量％のうち、共役ジエンに基づく構成単位と下式（Ｉ）で表される構成単位とを有し、カルボニル基もしくはエーテル基を有するケイ素化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が５質量％以上であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜１５０質量部、特定式で表される化合物の含有量が０．１〜１０質量部であるゴム組成物に関する。
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカとを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が９０質量％以下であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜４０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【解決手段】酸不安定基により水酸基が保護された構造を有する繰り返し単位（ａ１）とアミノ基、アミド結合、カルバメート結合、含窒素複素環から選ばれる構造を１つ以上含む繰り返し単位（ａ２）とを含有する高分子化合物［Ａ］と、光酸発生剤［Ｂ］と、有機溶剤［Ｃ］とを共に含むレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の特定の構造の高分子化合物と光酸発生剤と有機溶剤を含むレジスト組成物は、有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで高い解像性を示し、例えば微細トレンチパターンやホールパターンの側壁の垂直性を高め、パターン倒れ耐性を向上させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】 非ブリードアウト性、相溶性、耐水性及び耐熱性に優れ、単独又は種々の樹脂との配合により、光劣化が抑制され、耐久性にも優れた塗料であり、特に、外観、耐光性、耐傷性等に優れた光硬化性塗膜の形成可能な積層フィルム用塗料を提供する。
【解決手段】
紫外線吸収型ポリマー（Ａ）とポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンとからなるポリマー組成物であって、紫外線吸収型ポリマー（Ａ）は、二重結合及び紫外線吸収基を有する化合物（ａ）と、二重結合含有成分（ｈ）とを重合させて得られる重合生成物であり、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンは、活性水素含有基及びアニオン性親水性基（水酸基を除く。）を有する化合物（ｂ）と、ポリオール（ｃ）及びポリイソシアネート（ｄ）と、アクリレート類（ｅ）を含む反応成分を反応させて得られる反応生成物であることを特徴とする塗料。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の環境からの影響を低減させ、ＯＯＢ光を効率よく遮断させ、レジストパターンの膜減りやパターン間のブリッジを低減させ、レジストを高感度化させるレジスト保護膜材料を提供する。
【解決手段】ウエハー３に形成したフォトレジスト膜２上にレジスト保護膜材料によりレジスト保護膜１を形成し、露光を行った後、レジスト保護膜の剥離及びフォトレジスト膜の現像を行うことで、フォトレジスト膜にパターンを形成する方法において用いるレジスト保護膜材料であって、下記一般式（１）に記載のフェノール基を含有するトルクセン化合物を含むレジスト保護膜材料。
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【課題】低ヒステリシスロス性能とウェットスキッド抵抗性能に優れ、これらの性能バランスに優れ、耐摩耗性と破壊強度とのバランスに優れた変性共役ジエン系重合体組成物、これを構成する、耐コールドフロー性に優れた変性共役ジエン系重合体、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】アニオン重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物を重合、又は共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系重合体を得る工程と、アルコキシシリル基と窒素原子とを有する変性剤を、２回以上に分けて分割添加し、前記共役ジエン系重合体の活性末端に、前記変性剤を反応させる工程と、
を、有する変性共役ジエン系重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】複雑な操作や時間のかかる処理によらず、効率的に、特に半導体発光装置用封止剤として有用な二官能のイソシアヌレート化合物の濃度を高めることができるイソシアヌレート化合物の精製方法、これを用いた半導体発光装置用封止剤の製造方法、半導体発光装置用封止剤、光半導体用封止材及び光半導体素子の提供を目的とする。
【手段】イソシアヌレート化合物を含有する半導体発光装置用封止剤の製造方法であって、
下記式（ＩＩ）で表される化合物と、下記式（Ｉ）で表される化合物と、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物とを含有する原料混合物に対し、少なくとも特定の抽出工程を経ることにより、前記式（ＩＩ）で表される化合物の混合比を高める処理を含む半導体発光装置用封止剤の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低ヒステリシスロス性能とウェットスキッド抵抗性能に優れ、これらの性能バランスに優れ、耐摩耗性と破壊強度とのバランスに優れた変性共役ジエン系重合体組成物、これを構成する変性共役ジエン系重合体が提供する。
【解決手段】少なくとも１個の重合器に、炭化水素溶媒と、アルカリ金属系開始剤及び／又はアルカリ土類金属系開始剤と、共役ジエン化合物、又は共役ジエン系化合物と芳香族ビニル化合物とを添加して、活性末端を有する共役ジエン系重合体を得る工程と、その後、シリル基に結合したアルコキシ基の総数が４個以上であり、１つ以上の窒素原子を有する変性剤（Ａ）、及びシリル基に結合したアルコキシ基の総数が２又は３個であり、１つ以上の窒素原子を有する変性剤（Ｂ）を連続的に添加し、共役ジエン系重合体の活性末端と変性剤（Ａ）及び／又は変性剤（Ｂ）を反応させる変性反応工程を含む変性共役ジエン系重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】シリカ系無機充填剤の分散性が良好で、低ヒステリシスロス性能とウェットスキッド抵抗性能に優れ、かつこれらの性能のバランスに優れ、高い耐摩耗性、破壊強度が発現される変性共役ジエン系重合体組成物を得る。
【解決手段】変性共役ジエン系重合体（Ｉ）を１質量％〜５０質量％と、変性共役ジエン系重合体（ＩＩ）を５０〜９９質量％とを含む変性共役ジエン系重合体であって、前記変性共役ジエン系重合体（Ｉ）は下記（Ａ）の条件を満足し、前記変性共役ジエン系重合体（ＩＩ）は下記（Ｂ）の条件を満足する変性共役ジエン系重合体。
（Ａ）分子中に第２級のアミノ基を１個以上及びアルコキシ基が結合したシリル基を２個以上含む官能基を有している。
（Ｂ）分子中に第２級アミノ基又は第３級アミノ基を２個以上及びアルコキシ基が結合したシリル基を１個以上含む官能基を有している。 （もっと読む）

【課題】パターン形状に優れるレジストパターンを形成でき、パターン倒れ耐性を向上させ、ブロッブ欠陥及びブリッジ欠陥の発生を低減できる液浸用上層膜形成組成物の提供。
【解決手段】本発明は、［Ａ］同一又は異なる重合体中にカルボキシル基を含む構造単位（Ｉ）、スルホ基を含む構造単位（ＩＩ）、α−トリフルオロメチルアルコール基を含む構造単位（ＩＩＩ）、スルホンアミド基を含む構造単位（ＩＶ）及び下記式（ｉ）で表される基を含む構造単位（Ｖ）からなる群より選ばれる少なくとも１種を有する重合体成分を含有する液浸用上層膜形成組成物であって、この液浸用上層膜形成組成物が［Ａ］重合体成分の同一又は異なる重合体中に、芳香族含窒素複素環を含む構造単位（Ａ）をさらに有するか又は［Ｂ］芳香族含窒素複素環を有する化合物をさらに含有するかの少なくともいずれか一方であることを特徴とする。
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【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率（ε）および誘電正接（ｔａｎδ）が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】脱離基を有するフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物とエテニル化合物との炭素炭素結合形成反応工程を含む下記の式（１）で示されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは少なくとも一つが式（２）で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のＡがアリールオキシ基である。
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【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率（ε）および誘電正接（ｔａｎδ）が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】アセチルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物を還元してヒドロキシエチルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物とし、次にそれを脱水する反応工程を含む下記の式（１）で示されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは少なくとも一つが式（２）で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のＡがアリールオキシ基である。
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【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率（ε）および誘電正接（ｔａｎδ）が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】ホルミルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物に、カルボニルオレフィン化反応を行う工程を含む、式（１）で表されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは少なくとも一つが式（２）で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のＡがアリールオキシ基である。
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【課題】ラジカル分子を用いた二次電池において、高速充放電することができる二次電池を提供する。
【解決手段】二次電池用の正極材又は負極材は、下記構造（１）式によって示されるイオン液体であって、ラジカル分子Rがアルキル鎖を介してカチオン部位に担持され、アルキル鎖の炭素数nが１〜１０であるイオン液体を用いる。
【化１】
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【課題】直線性が良好な着色パターンを形成でき、且つ、着色パターン形成領域外における残渣の発生が抑制された着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）下記式（Ｉ）で表される部分構造を有するアクリル樹脂、（Ｃ）重合性化合物、及び（Ｄ）紫外線吸収剤を含み、該（Ｄ）紫外線吸収剤の含有量が着色感放射線性組成物の固形分に対して、０．１質量％〜１０質量％である着色感放射線組成物。
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【課題】 従来の紫外線吸収剤を用いた場合に比して、耐光性、非ブリードアウト性、相溶性、耐水性、及び耐熱性に優れ、単独又は種々の樹脂との配合で、光劣化が抑制されるとともに、耐久性の向上した塗料を提供する。
【解決手段】
紫外線吸収型ポリマー（Ａ）と、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンとを含むポリマー組成物を含有してなる塗料が提供される。紫外線吸収型ポリマー（Ａ）は、二重結合及び紫外線吸収基を有する化合物（ａ）と、二重結合含有成分（ｈ）とを含む重合成分を重合させて得られる重合生成物であり、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンとしては、活性水素含有基及びアニオン性親水性基（水酸基を除く。）を有する化合物（ｂ）と、ポリオール（ｃ）及び／又はポリアミン（ｄ）と、ポリイソシアネート（ｅ）と、を含む反応成分を反応させて得られる反応生成物の水分散体が用いられる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性が良好で変色がなく、現像性に優れ、基板上、および他色の画素上に現像残渣のない着色感放射線性組成物を提供しうる着色組成物を提供する、
【解決手段】（Ａ）色素骨格を有する重合体、および（Ｂ）有機溶剤を含み、前記（Ａ）色素骨格を有する重合体を形成しうる未反応の色素骨格を有するモノマー成分が、前記（Ａ）色素骨格を有する重合体に対して、１質量％以下含有するカラーフィルタ用着色組成物。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュードが広く、耐熱性に優れ、高温プロセス（２５０℃以上）を有するパターン形成に適用された場合においても、隣接パターンへの色移りが抑制された着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性基を有する色素多量体、（Ｂ）顔料、（Ｃ）重合性化合物、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有する着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】抗体や抗原等のリガンドが温度によって失活しない温度で長期保存しても溶解状態及び分散状態が損なわれない、ＵＣＳＴを示す温度応答性高分子の水溶液及び温度応答性粒子の水分散体を提供する。
【解決手段】含有水の状態で上限臨界溶液温度（ＵＣＳＴ）を示す温度応答性高分子の水溶液又は該高分子を含有する温度応答性粒子の水分散体にＵＣＳＴ降下剤を所定量含有させて前記水溶液又は水分散体のＵＣＳＴを保存温度以下にせしめて保存する。 （もっと読む）