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付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) |  (19,108) | (縮合)複素環 (5,693) | 異項原子としてN原子を有する(縮合)複素環 (2,049) | 異項原子としてN及びO原子含有(縮合)複素環 (316)

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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式(I)で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び/又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカとを含み、ゴム成分100質量%中、上記共役ジエン系重合体の含有量が90質量%以下であり、上記ゴム成分100質量部に対して、上記シリカの含有量が5〜40質量部であるゴム組成物に関する。
[化1]
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式(I)で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び/又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、メルカプト基を有するシランカップリング剤とを含み、ゴム成分100質量%中、上記共役ジエン系重合体の含有量が90質量%以下であり、上記ゴム成分100質量部に対して、上記シリカの含有量が5〜40質量部であり、上記シリカ100質量部に対して、上記シランカップリング剤の含有量が1〜20質量部であるゴム組成物に関する。
[化1]
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【解決手段】酸不安定基により水酸基が保護された構造を有する繰り返し単位(a1)とアミノ基、アミド結合、カルバメート結合、含窒素複素環から選ばれる構造を1つ以上含む繰り返し単位(a2)とを含有する高分子化合物[A]と、光酸発生剤[B]と、有機溶剤[C]とを共に含むレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の特定の構造の高分子化合物と光酸発生剤と有機溶剤を含むレジスト組成物は、有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで高い解像性を示し、例えば微細トレンチパターンやホールパターンの側壁の垂直性を高め、パターン倒れ耐性を向上させることが可能である。 (もっと読む)


【解決手段】酸不安定基によりカルボキシル基が保護された構造を有する繰り返し単位(a1)とアミノ基、アミド結合、カルバメート結合、含窒素複素環から選ばれる構造を1つ以上含む繰り返し単位(a2)とを含有する高分子化合物[A]と、光酸発生剤[B]と、有機溶剤[C]とを共に含むレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の特定の構造の高分子化合物と光酸発生剤と有機溶剤を含むレジスト組成物を有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで表面難溶層の形成を防ぎ、微細トレンチパターンやホールパターンの広い焦点深度を得ることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】加硫物とした際に低発熱性とウェットスキッド抵抗性のバランスに優れ、実用上十分な破壊強度を有し、かつ組成物の加工性にも優れている、変性共役ジエン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】(A)重合活性末端を持つ共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体の該重合活性末端に、式(1)で表される変性剤を反応させて得られ、ガラス転移温度が−50〜−5℃である変性共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体と、(B)式(1)で表される変性剤で変性する方法以外で極性官能基を導入され、ガラス転移温度が−120〜−60℃である変性共役ジエン系重合体と、を含むゴム成分、及び、(C)シリカを含有する変性共役ジエン系重合体組成物。[式中、R〜Rは各々独立して、C1〜20のアルキル基又はC6〜20のアリール基、RはC3〜10のアルキレン基、RはC1〜20のアルキレン基を表し、mは整数1又は2、nは整数2又は3である。]
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【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】分子内に、ベンジルチオカルバメート基(−Ph−CH−SCSNR)を含有する高分子化合物(A)と、分子内に2個以上の不飽和二重結合を含有する不飽和二重結合化合物(B)とを含む有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 (もっと読む)


【課題】水溶性に優れるとともに、架橋剤との反応性が良好で架橋剤と反応することにより耐水性に優れるフィルム等の成形体を与えることのできるアミノ基含有変性ビニルアルコール系重合体を提供する。
【解決手段】ビニルアルコール単位、および下記式(I)で示される構成単位を含む変性ビニルアルコール系重合体。(式中、R1〜R5はそれぞれ独立して、水素原子、または炭素数1〜8の基を表し、Aは、単結合、酸素原子、または炭素数1〜8の2価の基を表す。)
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【課題】 カチオン度が低く脱水ケーキの低含水率化が不十分、高分子量化に伴う水不溶解分が多い等の従来の高カチオン度水溶性ポリマーの課題を解決した、高カチオン度で高分子量の水溶性(共)重合体を含有してなるカチオン性高分子凝集剤を提供する。
【解決手段】 10〜30meq/gのカチオンコロイド当量値、および8〜40dl/gの固有粘度を有するカチオン性水溶性(共)重合体(A)を含有してなる高分子凝集剤(X);および、該高分子凝集剤(X)を用いることを特徴とする汚泥または廃水の処理方法。 (もっと読む)


【課題】他の樹脂と混合して樹脂組成物とし、基材の表面に塗布し硬化させてコーティング膜を形成させた場合に、該コーティング膜が経時的に黄変しない、アクリロイルモルホリンを得る。
【解決手段】アクリロイルモルホリンに、フェノール系酸化防止剤を0.5〜5.0重量%、望ましくはさらに紫外線吸収剤を0.05〜0.5重量%含有させる。フェノール系酸化防止剤は、2,5’−ジ−t−ブチルハイドロキノンまたは2,5’−ジ−t−アミルハイドロキノンが望ましい。 (もっと読む)


【課題】 塗膜の高耐熱性を損なうことなく、優れた高密着性、高透明性、及び帯電防止性を発現する硬化膜を与える感光性組成物を提供すること。
【解決手段】 4−(メタ)アクリロイルモルホリン(A)、ポリオキシアルキレン鎖を有する2官能(メタ)アクリレート(B)〔好ましくは数平均分子量が200〜10万〕、イソシアヌレート骨格を有する(メタ)アクリレート(C)〔好ましくは数平均分子量が200〜10万〕及び重合開始剤(D)を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型感光性組成物。 (もっと読む)


【課題】ドライエッチング耐性及び露光ラチチュード(EL)のいずれにも優れるパターン形成方法、該パターン形成方法に供せられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該パターン形成方法により形成されるレジスト膜、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】(ア)多環芳香族基を有する繰り返し単位(a)及び酸の作用により分解してカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位(b)を有する樹脂(A)、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、
(イ)該膜をArFエキシマレーザーにより露光する工程、及び
(ウ)該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程
を有するパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィおよび現像性能に悪影響を及ぼさず、膜表面および頂部表面付近の領域に分布した、濃縮されたクエンチャー材料が存在するフォトレジスト組成物。
【解決手段】式(Ia)、式(Ib)または式(Ia)および(Ib)の組み合わせを含む窒素含有モノマーと、特定の酸脱保護性モノマーとを含むモノマーの重合生成物を含むポリマー。(Ia):R−C(=CH)−CO−(−O−L−)−NR、(Ib):R−C(=CH)−CO−O−LN−X。(式中aは0または1であり、Lは直鎖もしくは分岐C1−10アルキレン基、または単環式、多環式、もしくは縮合多環式C3−20(ヘテロ)シクロアルキル等であり、各Rは別々に分かれているか、または少なくとも一つのRは隣のRに結合されており;LNは縮合多環式C3−20ヘテロシクロアルキレン基等であり、XはH、C1−10アルキル等である。) (もっと読む)


【課題】 本発明は、短時間でPEBを行うことができ、それによりスループットの向上や、酸拡散距離を短くすることができることによる解像性の向上が達成できるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被加工基板上に波長600〜2000nmの範囲の光を吸収する下層膜を形成し、該下層膜上にフォトレジスト膜を形成し、該フォトレジスト膜を露光した後、波長600〜2000nmの光を照射して加熱することでポストエクスポジュアーベーク(PEB)を行い、その後現像によってパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】簡便な方法で、抵抗値が低く、電流の均一性に優れ、かつ長期保存での導電性の劣化がなく、安定性の高い透明導電性基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板2上に、金属を含有する細線電極3と導電性ポリマー含有層4とが形成され、該細線電極3が金属粒子及び溶剤を含有する導電性インクにより形成され、該導電性インクを基板2上に付与した後、該導電性インクの焼成温度T(℃)より低く、かつ該導電性インク成分の揮発温度S(℃)よりも高い温度T(℃)でS(分)加熱された後に、焼成温度T(℃)でS(分)加熱され、かつ該焼成温度T(℃)と該溶剤の揮発温度よりも高い温度T(℃)との差が、200℃>T−T>50℃の関係を満たす透明導電性基板1を形成する。 (もっと読む)


【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性及び混練加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】(A)ムーニー粘度(ML):40〜49、(B)分子量分布(Mw/Mn):3.0〜3.9及び(C)ムーニー粘度の速度依存性指数:2.3〜3.0の要件を満足し、かつシス含量が95質量%以上のハイシスポリブタジエンと、共役ジエンに基づく構成単位及びケイ素原子上に炭素数が1から6の置換基を有しても良いアミノ基、水酸基ヒドロカルビル基から選ばれるビニルシラン化合物から誘導される構成単位を有し、下式(II)で表される基を有する化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体と、シリカとを含有するゴム組成物に関する。
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【課題】顔料の微粒分散が可能であり、得られる顔料分散液の粘度も低く、且つ長期間に渡り安定な顔料の分散性を維持することができる、2−(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)エチル=アクリラートを含む重合体、前記重合体を含む分散剤及び前記分散剤を含む顔料分散液を提供する。
【解決手段】単量体成分として、2−(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)エチル=アクリラートを含み、水及び/又は有機溶剤を媒体とした溶液重合により製造される重合体。 (もっと読む)


【課題】皮膚に対して優れた粘着力を有する粘着性ハイドロゲルを提供することを課題とする。
【解決手段】高分子マトリックスに水と多価アルコールとが含まれてなる粘着性ハイドロゲルであって、前記高分子マトリックスが、(A)成分として(メタ)アクリル酸、その誘導体又はカルボキシル基を2つ有する炭素数4〜5のビニル誘導体と、(B)成分として(メタ)アクリルアミド又はその誘導体(但し、アクリロイルモルホリンを除く)と、(C)成分としてアクリロイルモルホリンとを含む重合性単量体混合物と架橋性単量体との共重合体であり、前記(A)成分、(B)成分及びC)成分が、それぞれ前記粘着性ハイドロゲル100重量部に対して9〜15重量部、2.5〜10重量部及び1.5〜3.5重量部含まれることを特徴とする粘着性ハイドロゲルにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性に優れ、LWRが改善され高解像度のフォトレジストパターンを形成するフォトレジスト組成物用の高分子化合物の原料として有用なアクリル酸エステル誘導体を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)


(式中、Rは水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、RおよびRはそれぞれ独立した基を表すか、またはRおよびRは両者が結合して炭素数1〜3のアルキレン基、−O−、若しくは−S−を表す。R11は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜10の環状炭化水素基を表す。)で示されるアクリル酸エステル誘導体。 (もっと読む)


【課題】アゾメチン構造を有していながら耐久性に優れており、無色で高いΔnを示す化合物を提供する。
【解決手段】ベンゾオキサジノン環と該ベンゾオキサジノン環に直結する芳香環を有しており、且つ、重合性官能基を有する置換基で置換されたメソゲン核を有する化合物。 (もっと読む)


【課題】 高い剛直性を有する螺旋型ポリアセチレンを提供する。
【解決手段】 主鎖が螺旋構造を有する螺旋型ポリアセチレンであって、前記主鎖を構成する炭素2重結合と、前記炭素2重結合の片方の炭素原子に結合した芳香族性の5員環または6員環からなる側鎖とを有し、前記5員環または6員環を構成する原子のうち、主鎖の炭素原子と直結した原子に結合した2個の原子が、前記5員環または6員環を構成するそれぞれ5個または6個の原子のいずれかのみと結合し、かつ前記5員環または6員環を構成する原子のうち、主鎖の炭素原子と直結した原子から最遠位の原子の少なくとも1つが炭素である螺旋型ポリアセチレン。 (もっと読む)


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