Fターム[4J100BD10]の内容
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Fターム[4J100BD10]に分類される特許
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レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
【課題】高解像のパターンを良好な形状で形成でき、PEB温度のパターン寸法への影響も少ないレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0−1)又は(a0−2)で表される基を含む構成単位(a0)と、酸の作用により極性が増大し且つ多環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a11)と、酸の作用により極性が増大し且つ単環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a12)と、を有する共重合体(A1)を含有するレジスト組成物。式中の基−R3−S+(R4)(R5)、Mm+はそれぞれ、全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
[化1]
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メタクリル樹脂組成物、その製造方法および難燃板
【課題】難燃性を有し、かつ耐熱性に優れるメタクリル樹脂組成物、その製造方法および難燃板を提供する。
【解決手段】本発明のメタクリル樹脂組成物は、メタクリル酸メチルと、特定のホスホン酸エステルとからなる単量体混合物が重合してなる共重合体を含有し、単量体混合物に含まれるメタクリル酸メチル及び特定のホスホン酸エステルの各含有量が、メタクリル酸メチル及びホスホン酸エステルの総量を100モル%として、メタクリル酸メチルが70〜99.9モル%であり、ホスホン酸エステルが0.1〜30モル%である。
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活性エネルギー線自己硬化型水性樹脂組成物
【課題】環境衛生上の問題が少なく、硬度、密着性、耐薬品性に優れた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】活性エネルギー線の遮断下で、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸から選ばれるカルボキシル基含有不飽和モノマー(a)、重合性不飽和基を有する光増感剤(b)、反応性官能基を含有する不飽和モノマー(c)、及びこれらと共重合可能な他の不飽和モノマー(d)の混合物を共重合する。この共重合体に(c)と反応可能な炭素−炭素不飽和二重結合を含有する化合物(e)を付加反応させ、1分子中に2つ以上の炭素−炭素不飽和二重結合、1つ以上の活性エネルギー線によりラジカルを発生する光増感性官能基、1つ以上のカルボキシル基を含有するポリマー化合物(A)を得る。次にポリマー化合物(A)中のカルボキシル基を塩基で中和する。この場合、上記(c)化合物と (e)の化合物を特定の組合せとする。
さらにポリマー化合物(A)に上記多官能不飽和モノマーまたはオリゴマー(B)を混合したものも含まれる。
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重合体、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−SO2−含有環式基を含む構成単位(a0)を有する重合体;該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。
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アクチュエータ
【課題】 変形応答特性の低下を招くことなく、電解質イオンの染み出しを抑制したアクチュエータを提供する。
【解決手段】 対向し合う一対の電極層と該一対の電極層の間に配置される電解質を有する中間層を有し、前記電極層への電圧印加により、変位するアクチュエータにおいて、前記一対の電極層の外層にイオン染み出し抑制層が形成されており、かつ前記アクチュエータの電圧印加時における正極側の電極層の外層に備えられるイオン染み出し抑制層は、少なくともポリアニオンで構成され、また前記アクチュエータの電圧印加時における負極側の電極層の外層に備えられるイオン染み出し抑制層は、少なくともポリカチオンで構成されるアクチュエータ。
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化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】半導体の微細加工に利用できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式(I)で表される化合物。[式(I)中、T1は、単結合又は芳香族炭化水素基を表し、L1は、2価の炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表し、mは0又は1を表し、L2及びL3は、単結合又は2価の炭素数1〜6の飽和炭化水素基を表し、環W1及び環W2は、炭素数3〜36の炭化水素環を表し、R1及びR2は、水素原子等を表し、R3及びR4は、ヒドロキシ基等を表し、R5は、水素原子又はメチル基を表し、tは、0〜2の整数を表し、uは、0〜2の整数を表す。]
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10−アルコキシ―1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタノアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物、その製造法及びその重合物
【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なUV硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を重合してなる重合物を提供する。
【解決手段】特定の式で示される10−アルコキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1,4−メタノアントラセン−9−イル−(メタ)アクリレート化合物。
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法
【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、塩基性化合物成分(C)、光増感剤(G)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、塩基性化合物成分(C)が、式(c1)〜(c3)で表される化合物からなる群から選ばれる1つ以上を含む[式中、R1は置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Z2cは置換基を有していてもよいC1〜30の炭化水素基(ただし、Sに隣接する炭素にはフッ素原子は置換されていない)であり、R2は有機基であり、Y3はアルキレン基またはアリーレン基であり、Rfはフッ素原子を含む炭化水素基であり、M+は芳香族性を有しないスルホニウム又はヨードニウムカチオンである。]
[化1]
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ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が環構造を有する酸不安定基で置換されている(メタ)アクリレートの繰り返し単位を含む重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲である高分子化合物と、ジヒドロキシナフタレンのノボラック樹脂と、光酸発生剤とを含有するポジ型レジスト材料。
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、高反射の段差基板上での解像性と埋め込み特性と密着性に優れ、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超LSI製造用あるいはEB描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。
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硬化性組成物及び透明複合シート
【課題】硬化前の粘度が低く、更に透明性が良好である硬化物を与え、かつ耐熱性が高く、180℃以上の無機材料層を形成する過程に耐え得る硬化物を与える硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物は、下記式(1)で表されるトリアジン骨格を有する(メタ)アクリレート化合物と、屈折率調整剤とを含む。硬化性組成物の硬化後の硬化物の589nmにおける屈折率は1.557以上、1.571以下であり、かつ該硬化物のガラス転移温度は180℃以上である。
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感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法
【課題】感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)により表される繰り返し単位(A)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位(B)とを備えた樹脂を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。
一般式(I)中、ARは、アリール基を表す。Rnは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。RnとARとは互いに結合して非芳香族環を形成してもよい。
R1は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。
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ホスホン酸ポリマー、その製造方法及びその用途
【課題】ホスホン酸ポリマー、その製造方法及びその用途に関し、プロトン伝導率の良好なポリスチレン系化合物及びその製造方法であり、プロトン伝導率の良好なポリスチレン系化合物を用いた二次電池用バインダー及び燃料電池用電解質膜を提供する。
【解決手段】ポリスチレンの芳香環に下式で表される基が少なくとも1つ導入されたポリスチレン系化合物であることを特徴とするホスホン酸ポリマー。
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含フッ素マレエートまたは含フッ素フマレートを含んでなる含フッ素共重合体および防汚加工剤
【課題】従来では得られなかった優れた撥水性、撥油性および防汚性およびそれらの耐久性を有する防汚加工剤を提供する。
【解決手段】炭素数1〜6のパーフルオロアルキル基を有するマレイン酸またはフマル酸のジエステルである含フッ素マレエートまたは含フッ素フマレートから誘導される少なくとも1種の繰り返し単位、アルキル基の炭素数1〜30のアルキル(メタ)アクリレートから誘導される少なくとも1種の繰り返し単位および要すればスチレンから誘導される繰り返し単位を有する共重合体、ならびに該共重合体を含んでなる防汚加工剤。
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遺伝子導入剤の製造方法
【課題】分岐鎖の側鎖を短時間で加水分解し、血清を含む培地において優れた遺伝子導入活性を示す遺伝子導入剤を効率的に製造することができる遺伝子導入剤の製造方法を提供する。
【解決手段】分岐鎖を有する分岐型重合体よりなる遺伝子導入剤を製造する方法において、芳香環に該芳香環から放射状に伸延する、少なくとも2−N,N−ジアルキルアミノアルキルメタクリレート及び/又はその誘導体を重合してなる複数の分岐鎖を導入することにより分岐型重合体を製造する分岐型重合体製造工程と、得られた分岐型重合体を加水分解する加水分解工程とを有する遺伝子導入剤の製造方法であって、該加水分解工程は、サイズ排除カラムに、該分岐型重合体を含む溶液を通液する工程を含むことを特徴とする。
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刺激応答性化合物、刺激応答性化合物重合体、アクチュエータおよび刺激応答性化合物の製造方法
【課題】変形率が高く、かつ、方向性のある変形が可能な刺激応答性化合物、刺激応答性化合物重合体およびそれを用いたアクチュエータを提供すること、また、刺激応答性化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の刺激応答性化合物は、ビチオフェンと、前記ビチオフェンのα位に結合した2つの1,3−ベンゾジチオーリル基と、前記ビチオフェンのβ位に結合した2つの液晶性を有する液晶性官能基とを有し、液晶性官能基は、重合性官能基を有していることを特徴とする。重合性官能基は、ビニル基またはアクリル基であるのが好ましい。液晶性官能基は、複数の環構造を有しているのが好ましい。
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ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ、露光により酸を発生する基材成分(A’)を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分(A’)が、一般式(a0−1)で表される構成単位(a0−1)と、露光により酸を発生する構成単位(a0−2)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有する樹脂成分(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物[式中、R1は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基または炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基であり、R2は2価の連結基であり、R3は、その環骨格中に−SO2−を含む環式基である。]
。
[化1]
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ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法
【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、露光により酸を発生する含フッ素高分子化合物(C’)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分(A)が、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する樹脂成分であり、含フッ素高分子化合物(C’)が、露光により酸を発生する構成単位と、含フッ素アクリル酸エステル構成単位とを有する。
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膜タンパク質の捕捉及び操作を目的とする、両親媒性モノマーを過半数含むポリマー
本発明は、式(I)の両親媒性モノマーを少なくとも75%含む両親媒性ポリマー(ポリマーの平均モル質量は800と100,000の間である)に関し、本発明のポリマーと、疎水性又は両親媒性化合物、特に膜タンパク質との間の水溶性複合体、1つ以上のこのような複合体の濃縮水溶液、本発明のポリマーにより基材に結合されたこのような複合体を1つ以上含む製品、及びこれら製品の各種使用にも関する。 (もっと読む)
重合性化合物、光硬化性組成物、光学素子および光ヘッド装置
【課題】高屈折率性と高耐光性とを両立可能な化合物と、これを含む光硬化性組成物とを提供する。また、青色レーザに対する耐光性の良好な波長選択性回折素子1A等の光学素子と、これを用いた光ヘッド装置とを提供する。
【解決手段】ゲルマニウムと4つの環基が直接結合したGeA1A2A3A4で表される重合性化合物。A1、A2、A3およびA4は、それぞれフェニル基であることが好ましい。フェニル基の水素原子の0〜3個がCH2=CR−COO−Y−で表される重合性部位に置換されており、かつ、その環基の残りの水素原子の一部または全部の水素原子がメチル基またはフッ素原子に置換されていてもよい。また、A1、A2、A3、A4のいずれかの環基自身がCH2=CR−COO−Y−で表される重合性部位に置換されていてもよい。
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤
【課題】レジスト組成物用の新規酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b0)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。[式中、R1は、脂肪族環式基であり;R2は、単結合または置換基を有していてもよいアルキレン基であり;R3は、置換基を有していてもよいアリーレン基であり;R4は、置換基を有していてもよい炭素数4または5のアルキレン基であり;X−は対アニオンである。]
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