【課題】高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基を含有する繰り返し単位（Ｂ）とを含んだ樹脂（Ｐ）と、下記一般式（１−１）又は（１−２）により表される化合物（Ｑ）とを含有している。


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【課題】本発明は、高感度、高解像性で、ラフネス（ＬＷＲ）が小さく、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位ａと、カルボキシル基及び／又はヒドロキシ基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位ｂとを含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂とすることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ^１は水素原子、又は炭素数１〜６の直鎖状、分岐状、若しくは環状のアルキル基であって、カルボニル基を有していてもよく、環を形成していてもよい。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は水素原子、又は炭素数１〜４の直鎖状、若しくは分岐状のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ_２ＮＨ_２及び−ＣＯＮＨ_２からなる群より選択される少なくとも一種の基を含む構成単位（ａ３）を有する重合体；該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ＡｒＦエキシマレーザー光、ＥＵＶ等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性に優れ、特にパターン形状の矩形性に優れ、更には基板への密着性に優れたパターンを形成することができるレジスト材料を得ることができる高分子化合物、該高分子化合物を含有する化学増幅レジスト材料及び該化学増幅レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で示す繰り返し単位を含有する高分子化合物。
【化１】
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【課題】耐吸湿性などに優れるポリオレフィンを骨格とし、優れた光硬化性を発揮し得る、基材との密着性、硬度、耐擦傷性等の硬化物性に優れ、各種シール剤、コーティング剤、ポッティング剤あるいは接着剤として好適な光硬化性オレフィン系重合体の提供。
【解決手段】（ａ）エチレンから誘導される繰返単位、（ｂ）式（１）の繰返単位、式（２）の構造（ｃ１）および式（３）の構造（ｃ２）を含み、条件（Ｉ）〜（IV）を満たす；−ＣＨ_２−ＣＨＲ^１−（１）−ＯＣＯ−ＣＲ^２＝ＣＨ_２（２）−ＣＨ_２−Ｚ−ＣＨ_２−（３）条件（Ｐ１−Ｉ）：Ｚが５００ｐｐｍ〜５０，０００ｐｐｍ、条件（Ｐ１−II）：繰返単位（ａ）と繰返単位（ｂ）のモル比が、２０／８０〜８０／２０、条件（Ｐ１−III）：繰返単位（ａ）を１００モル％として構造（ｃ１）の含有量が０．１〜１０モル％、条件（Ｐ１−IV）：極限粘度〔η〕が０．０１〜１．０。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）樹脂と、（Ｂ）酸発生剤と、（Ｘ）それぞれ式（Ｉ−ａ）及び式（Ｉ−ｂ）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物とを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターンの製造方法の提供。


［式中、
Ｚ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族飽和炭化水素基などを表し、
Ｒ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族飽和炭化水素基などを表し、
ｎは０又は１を表す。］ （もっと読む）

【課題】レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ｒ^ｆは炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｑ^＋は有機カチオンである。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物、及び、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】液晶配向膜など多様な光反応に応用可能であり、多様な有機化合物または重合体の前駆体として好適に使用可能である、光反応基を有する新規な環状オレフィン化合物および光反応性重合体を提供する。
【解決手段】下記の化学式１で表される光反応基を有する環状オレフィン化合物：
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【課題】プラスチックとの接着性に優れたアリル系重合体を提供する。
【解決手段】
一般式（Ｉ）で表される化合物５〜１００重量％
（ＣＨＲ^１＝ＣＲ^２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＯ)_ｎ−Ａ （Ｉ）
[Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ、ＨまたはＣＨ_３を表し、
Ａはアルキル置換基を有する飽和または一部不飽和の４〜８員環の環状骨格を表し、
ｎは２または３を表す。]
とジアリルフタレート０〜９５重量％からなる重合体を含有することを特徴とした、光硬化可能な樹脂組成物、並びにその樹脂組成物を含んでなるインキ、塗料。 （もっと読む）

【課題】新規な光活性ポリマーおよびこのポリマーを樹脂成分として含むフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】（ｉ）共有結合した１以上の光酸発生剤部分、および（ｉｉ）１以上の光酸不安定基を含み、この１以上の光酸発生剤部分は１以上の光酸不安定基の成分である、新規のポリマーを含むフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 塗布欠陥、塗布膜厚均一性、ＰＥＢＳ性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含む樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、前記溶剤として、下記Ｘ群およびＹ群に列挙された溶剤のうち少なくとも１種を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（Ｘ群）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、乳酸アルキルエステル類、アルコキシ酢酸アルキル類、アルコキシプロピオン酸アルキル類、ピルビン酸アルキル類、酢酸アルキルエステル；
（Ｙ群）環状ラクトン類、アルキレンカーボネート類。 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性及び透明性に加え、塗布ムラのない高度な平坦性（膜厚均一性）を有する層間絶縁膜を形成することができ、かつ高速での塗布が可能で、高い放射線感度を有するポジ型感放射線性組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］同一又は異なる重合体分子中にアセタール基もしくはケタール基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、［Ｂ］光酸発生体、並びに［Ｃ］（ｃ１）下記式（２）で表される重合性化合物、（ｃ２）下記式（３）で表される重合性化合物、及び（ｃ３）シロキサン構造を有する重合性化合物に由来する構造単位を少なくとも有する共重合体を含有するポジ型感放射線性組成物。


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【課題】低粘度で、優れた光学特性を備え、かつ、リフロー耐性及び低収縮率の樹脂組成物を与え得るスターポリマー、該スターポリマーを含む硬化性樹脂組成物及び、優れた光学特性を備え、かつ、リフロー耐性及び低収縮率である成形体、光学部品及びレンズを提供する。
【解決手段】式（１）の繰り返し単位と式（２）の繰り返し単位とを含む（メタ）アクリル酸エステル共重合体を有するスターポリマー。


（式（１）中、Ｒ^２は脂環構造を有するアルキル基を表し、式（２）中、Ｒ^４はオキシラニル基又はオキセタニル基を表す。） （もっと読む）

【課題】良好な解像度を示すリソグラフィ用レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩の提供。
【解決手段】式（Ｉ−Ｂ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、単結合又は置換基を有していてもよい飽和炭化水素基；Ｙ^１は、２価の脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基等、該基に含まれるメチレン基はＯで置き換わっていてもよい；Ｙ^Ａは、置換基を有していてもよいビニル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基；Ｒ^ｅ１〜Ｒ^ｅ１３は、互いに独立に、Ｈ、ハロゲン原子又は置換基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基を含まない；Ｚは単結合または２価の連結基を表す。］ （もっと読む）

【課題】放射線に対する透明性に優れ、レジスト溶剤に対する溶解性に優れるレジスト用樹脂を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される環状カーボナート化合物。


式（１）において、Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｘは単結合またはヘテロ原子を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表し、ｐは０または１、ｎは０または１、ｍは０、１または２を表し、ｐが０または１でｎが０のとき、ｍは１または２であり、ｐが０でｎが１のとき、または、ｐが１でｎが１のとき、ｍは０である。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、かつ解像度が優れるとともに、ドライエッチング耐性、感度、パターン形状等にも優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥発生を抑制し、半導体素子の歩留りを著しく向上させることができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸解離性基含有樹脂、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および
（C）分子構造中にシクロデキストリン骨格とフッ素原子とを有し、かつ、¹H NMRから算出した平均分子量が６０００以下である化合物、
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

本発明は、ａ）０．１〜９９．９質量％の一般式（Ｉ）の少なくとも１種の（メタ）アクリレート（式中、基Ｒ¹〜Ｒ⁶並びにｍは、明細書中に示される意味を取る）及びｂ）９９．９〜０．１質量％の前記ａ）とは異なりａ）と共重合可能な１種もしくは複数種のエチレン性不飽和モノマーとを有する混合物の重合によって得られる（メタ）アクリレートポリマーであって、前記成分ａ）及びｂ）は一緒に混合物の重合可能な成分の１００質量％となり、その際、ポリマーのＭＷが１０００ｇ／モル以上から５００００ｇ／モル以下までの範囲にある前記（メタ）アクリレートポリマーを記載している。得られるポリマーは、好ましくは懸濁重合又はパール重合の経路で製造でき、好ましくは反応性希釈剤中に溶かして、ポリマーに結合された光開始剤として又は紫外線硬化性の樹脂への添加剤として様々な使用分野のために、特に印刷インキのために用いられる。
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【課題】解像性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ０−０−１）［式中、Ｒ^１’およびＲ^２’はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜５の低級アルキル基を表し、Ｙ^１はエーテル結合を有していてもよい炭素数２〜１５のアルキレン基を表し、Ｘは炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】本発明は、ラジカル重合禁止剤を含んだカラムスペーサ組成物、これにより製造されたカラムスペーサと、これを用いて製造された液晶表示装置に関するものである。
【解決手段】本発明は、カラムスペーサの中でもスリットや半透過マスクを用いて同時に２つの異形状のカラムスペーサを作製する特殊な場合において、ラジカル重合禁止剤の種類や量を変更することにより、感度は小幅減少しても２つのパターン(飽和パターン、半透過パターン)の差を自由に調節できるカラムスペーサ組成物を提供することができる。 （もっと読む）