【課題】押出コーティング、押出異形材および押出キャストフィルムを作製するのに適したポリエチレン系樹脂を提供する。
【解決手段】押出コーティングでの使用に特に適した組成物が開示される。組成物は、損失弾性率（またはＧ”）対貯蔵弾性率（またはＧ’）の自然対数−自然対数プロットの傾きＳが［０．６３５＊（メルトインデックス）＋１３．２］／［（メルトインデックス）＋１６．６］を超えるようなレオロジーを有するポリマー材料を含み、該ポリマー材料は、８５，０００ｇ／ｍｏｌを超える分子量を有するＧＰＣクロマトグラムの０．２３未満のＣＤＦＲＩ画分、および１，７５０，０００ｇ／ｍｏｌまたはそれ以上の従来のＧＰＣ分子量における０．０７超のＣＤＦＬＳ画分を有する。組成物は、押出コーティングで使用したときに低下したネックインを示し、ネックインは溶融強度から独立しており、そのために改良された押出工程を促進する。 （もっと読む）

【課題】 更なる高屈折率化を目指し、且つ、低収縮性、光硬化性、無色透明性、作業に適した粘度といった光学用接着剤としての性能も兼ね備えた硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 ポリチオールと硫黄を反応させて得られるポリチオールオリゴマー（Ａ成分）と、ポリエン化合物（Ｂ成分）を含有する硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】低臭気、低揮発性、低皮膚刺激性、および低毒性で、硬化性、基材密着性、および透明性に優れるため、インク、および塗料に代表されるインク用原料、ならびにレジスト、カラ−フィルタ、接着剤、製版材、封止材、および画像形成剤に代表される電子材料用原料などに用いられる、ジビニルエーテルホモポリマーの提供。
【解決手段】式（Ｉ）：


（式中、Ｘは単結合又は二重結合を示し、ｎは平均重合度を表す正の数である）
で表されるジビニルエーテルホモポリマー。 （もっと読む）

【課題】従来のシルセスキオキサンに比較して、より耐熱性を高め、低温で流動性を有し、成形が容易なシロキサン化合物および硬化させた硬化物を提供。
【解決手段】繰り返し数３〜８のＳｉ−Ｏ結合を持つ環状シロキサン化合物の少なくとも一つの珪素基上に、末端に二重結合基、三重結合基、マレイミド基等の架橋基を有し繰り返し数０〜９のＳｉ−Ｏ結合を持つ直鎖状シロキサン結合を有する置換基を導入したシロキサン化合物およびこの化合物を加熱等の手段により架橋させた硬化物。 （もっと読む）

【課題】パターン形状、ラフネス性能、及び、オーバー露光マージンに優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、（Ｃ）下記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物、又は、下記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物の複数が連結基を介して結合された構造を有する化合物、及び、（Ｇ）溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】高屈折率を有する有機無機ハイブリッド膜の提供。
【解決手段】金属酸化物粒子と下記式（１）の化合物と硬化性モノマーとを含む硬化性組成物を硬化させ、硬化膜を得る。


［式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキル基、Ｒ^２はアルキル基、Ｒ^３はアルキレン基、Ｘは−Ｓｉ(ＯＲ^４)_ａ(Ｒ^５)_３−ａ［Ｒ^４はアルキル基又は基−［（Ｒ^６Ｏ）_ｂ−Ｒ^７］、Ｒ^５は、水素原子、ヒドロキシル基又は炭化水素基、ａは１〜３の整数］を示し、ｋは０〜４の整数、ｍは０〜２の整数］ （もっと読む）

【課題】 更なる高屈折率化を目指し、且つ、低収縮性、光硬化性、無色透明性、作業に適した粘度といった光学用接着剤としての性能も兼ね備えた硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 フルオレン環を有するポリ（メタ）アクリレート化合物（Ａ成分）、特定の式で表わされるポリチオール化合物（Ｂ成分）、および光重合開始剤（Ｃ成分）を含有する硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れ且つ高感度なレジストパターンを形成できるレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（ａ５−１）で表される構成単位と、酸分解させるための活性化エネルギーの差が１〜５０ｋＪ／ｍｏｌである、少なくとも２種のアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】固相延伸法等のポリマー粒子を用いた成形法において、嵩密度が高く、流動性が良好であり、ポリマー鎖の絡み合いの少ない超高分子量ポリエチレン粒子を提供する。
【解決手段】（１）極限粘度［η］が１０ｄＬ／ｇ以上３５ｄＬ／ｇ以下であり、
（２）嵩密度が０．３５ｇ／ｃｍ^３以上０．４８ｇ／ｃｍ^３以下であり、かつ
（３）５０ｇの粒子が特定の漏斗を落下する際の時間が２０秒以上６０秒以下である超高分子量ポリエチレン粒子であって、
（４）極限粘度［η］が１０ｄＬ／ｇ以上１５ｄＬ／ｇ以下であるポリエチレン成分［ａ］を含んでなり、該ポリエチレン成分［ａ］は上記超高分子量ポリエチレン粒子よりも低分子量であることを特徴とする、上記超高分子量ポリエチレン粒子。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高屈折率を有する活性エネルギー線硬化物を与えるウレタン（メタ）アクリレート化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）


のアルコール化合物と２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートから選ばれる化合物を反応させて得られる化合物。 （もっと読む）

【課題】 空気下で高温で加熱しても良好なパターンが維持可能なインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有する化合物（Ａｘ）、および、光重合開始剤（Ｂ）を含有するインプリント用硬化組成物。
一般式（Ｉ）


（一般式（Ｉ）中、Ｒｘはアルキル基またはアリール基を示す。ｍは１〜３の整数であり、ｎは０〜２の整数である。但し、ｍ＋ｎ＝３である。） （もっと読む）

【課題】重合体を抽出する時に通常の脱溶媒手順を用いることができ、かつ低い分子量を有するブタジエン重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】ａ）触媒存在下の適切な溶媒中で、場合により他の１種以上の共役単量体の存在下にジエンを重合させて１番目の重量平均分子量を有する重合体を生成させ、ｂ）前記重合体をカップリング剤と反応させて前記１番目の重量平均分子量より高い２番目の重量平均分子量を有する結合重合体を生成させ、ｃ）前記結合重合体の脱溶媒を行い、そして、ｄ）前記脱溶媒した結合重合体を脱結合させて前記結合重合体の重量平均分子量より低い重量平均分子量を有する脱結合ジエン含有重合体を生成させる、製造方法。 （もっと読む）

【課題】混練り加工性、低発熱性、耐屈曲疲労性、耐空気透過性、操縦安定性がバランスよく得られるタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】エポキシ化率が１５〜６５モル％のエポキシ化天然ゴムと、エポキシ化率が１５〜６５モル％のエポキシ化ブタジエンゴムとを含み、前記エポキシ化天然ゴム及び前記エポキシ化ブタジエンゴムの合計含有量がゴム成分１００質量％中６５質量％以上であり、ゴム成分１００質量部に対して、シリカを２０〜１００質量部含むタイヤ用ゴム組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好なレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、環Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環；Ｚ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｚ^２は、単結合又はカルボニル基；Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子；Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子；ｍ及びｎは、それぞれ０〜４の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】アントラセン特有の特性と共に、高い重合性を兼ね備えたアントラセン誘導体、及びこのアントラセン誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）にて表されるアントラセン誘導体。


（式（１）中、Ｘは、（ｎ_１＋１）価の置換基を有していてもよい芳香族基。Ｙは、（ｎ_２＋１）価の置換基を有していてもよい芳香族基。ｎ_１及びｎ_２は、それぞれ独立して、１〜３の整数。Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基。Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、−Ｏ−（Ｒ−Ｏ）_ｍ−で表される基。Ｒは、ヒドロキシル基を有していてもよい２価の炭化水素基。ｍが２以上の場合、複数のＲは同一でも異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】貯蔵安定性に優れた水分散ポリマーを容易に製造できる水分散ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】アクリロニトリルを５０質量％以上と、該アクリロニトリルと共重合可能な他の単量体を５０質量％以下含有する単量体混合物を水系重合により重合して凝集粒子を得る重合工程と、前記凝集粒子を湿式微粒化装置により粉砕して水分散ポリマーを得る粉砕工程とを含む水分散ポリマーの製造方法。前記粉砕工程により得られる水分散ポリマーの平均粒子径が２μｍ以下である、水分散ポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンで、欠陥が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＡ）で表されるアニオンを有する塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−、ｍ１〜ｍ５はそれぞれ１〜６の整数；Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基。］ （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能、耐摩耗性、加工性を向上できるタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ジエン系重合体とシリカとを含み、前記ジエン系重合体が、下記（Ａ）と（Ｂ）を反応させて得られる変性されたジエン系重合体であり、前記シリカが、１つの粒子に対して隣接する粒子が３つ以上の粒子を分岐粒子Ｘとしたとき、分岐粒子Ｘを含む分岐粒子間Ｘ−Ｘの平均長Ｌ_１が３０〜４００ｎｍのものであるタイヤ用ゴム組成物。（Ａ）：（Ｃ）の存在下に、共役ジエンモノマー又は共役ジエンモノマーと芳香族ビニルモノマーとを重合させることにより得られるアルカリ金属末端を有する活性共役ジエン系重合体（Ｂ）：官能基を有する変性剤（Ｃ）：特定の化合物と有機アルカリ金属化合物を反応させて得られる化学種 （もっと読む）

【課題】パターン倒れ及び欠陥の少ないレジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−；ｍ１〜ｍ５はそれぞれ１〜６の整数；Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は２価の飽和炭化水素基；Ｒ^５は環状エーテル構造を含む基；Ｚ１^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】 離型性に優れ、さらには、低ソリ性、低反射率、優れた耐傷性を有する硬化性樹脂組成物、その硬化物、このような硬化性樹脂組成物の硬化物を有してなる微細凹凸構造物品、および反射防止板を提供する。
【解決手段】
下記式（１）：
【化１】


（式中、Ｒ^１は炭素数２〜８のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子またはメチル基、ｍは正の整数である）で示される繰り返し単位を有するビニル系重合体を含有するナノインプリント用硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）